摘要 上海YPG-1B金相試樣拋光機(jī)關(guān)于拋光機(jī)的簡述：拋光機(jī)也稱為研磨機(jī)，常常用作機(jī)械式研磨、拋光及打蠟

摘要 型號：SK550品牌：上海凈信規(guī)格：臺產(chǎn)品簡介：SK-550 高通量磨樣機(jī)一分鐘可處理樣品2304個

摘要 Saphir300是一款便攜式的手動磨拋機(jī)

摘要 Saphir550（Rubin540）是一款工作盤尺寸為200-300mm直徑的單盤磨拋機(jī)

摘要 Saphir350是一款工作盤尺寸為200-300mm直徑的單盤磨拋機(jī)

摘要 Saphir360是一款工作盤尺寸為200-300mm的等徑雙盤磨拋機(jī)

摘要 Saphir250M2是一款手動雙盤磨拋機(jī)，適用于直徑200-300mm的工作盤

摘要 Saphir250M1是一款手動單盤磨拋機(jī)，適用于直徑200-250mm的工作盤

摘要 Saphir250A2-ECO型是一款自動雙盤磨拋機(jī)，工作盤直徑為200-250mm

摘要 Saphir250A1-ECO型是一款自動單盤磨拋機(jī)，工作盤直徑為200-250mm

摘要 Saphir550（Rubin520）是新一代的單盤磨拋機(jī)，它采用創(chuàng)新的磨拋頭，工作盤直徑為200-300mm

摘要 全自動緊湊型磨拋機(jī)SaphirX-Change將幾米長的標(biāo)準(zhǔn)磨拋設(shè)備集成到一個單元中（系統(tǒng)實驗室2.0）中,例如可放置16種磨拋介質(zhì)的換料層架，集成加液單元和沉淀槽

摘要 Saphir560（Rubin520）是新一代等徑雙盤磨拋機(jī)，它采用創(chuàng)新的磨拋頭，工作盤直徑為200-300mm

摘要MP-1型單盤雙速磨拋機(jī)是集預(yù)磨、拋光、研磨于一機(jī)只須更換磨拋盤等就能進(jìn)行預(yù)磨、拋光或研磨工作，該機(jī)轉(zhuǎn)動平穩(wěn)噪音低、變速與更換磨拋盤也極為方便，磨拋盤直徑也均大于國內(nèi)同類產(chǎn)品，可增加有效工作面20-30%，并可安裝PD-1拋光器進(jìn)行自動拋光，可一機(jī)多用，是金相制樣設(shè)備...

摘要 SaphirVibro振動拋光機(jī)為得到無殘留變形的制備表面而設(shè)計，是用于進(jìn)一步材料表征，如EBSD（背散射電子衍射），AFM（原子力顯微鏡）分析和納米壓痕或顯微硬度測試的理想前序設(shè)備

摘要 自動研磨拋光機(jī)HA系列型號NO.FS-A/B/FRS-A/B■特點：個別施壓功能

摘要 自動研磨拋光機(jī)HA系列型號NO.FS-C/FRS-C■特點：盤面正反轉(zhuǎn)功能，有效轉(zhuǎn)速，50~600rpm

摘要 自動研磨拋光機(jī)R系列型號NO.FS■特點：自動夾持試片，研磨自動化

摘要 自動研磨拋光機(jī)R系列型號NO.FRS■特點：自動夾持試片，研磨自動化

摘要 手動研磨拋光機(jī)E系列型號NO.F/FR■特點：無掛頭研磨機(jī)，研磨樣品不受限

摘要 手動研磨拋光機(jī)E系列型號NO.FRD■特點：雙馬達(dá)，可獨立控制盤面

摘要 手動研磨拋光機(jī)-E系列型號NO.F-M1/FR-M1■特點：手動研磨頭，操作簡易便利

摘要 自動研磨拋光機(jī)HA系列型號NO.FRSD-A/B■特點：雙馬達(dá)，可獨立控制盤面

摘要 自動研磨拋光機(jī)HA系列型號NO.FRSD-C■特點：雙馬達(dá)，可獨立控制盤面

摘要 1、概述1000B型自動研磨拋光機(jī)為單盤臺式機(jī)，是依據(jù)國際標(biāo)準(zhǔn)，采用工藝技術(shù)制造的新一代高精度、制樣過程自動化的研磨拋光設(shè)備

摘要 1、概述 2DE型金相試樣磨拋機(jī)為雙盤臺式機(jī)，具備單盤獨立控制及盤的旋轉(zhuǎn)方向可任意選擇和磨拋盤可快速更換的功能

摘要 1、概述4S型自動磨拋機(jī)為雙盤臺式機(jī)，是依據(jù)國際標(biāo)準(zhǔn)，采用工藝技術(shù)制造的新一代高精度、制樣過程自動化的研磨拋光設(shè)備

摘要 MoPao2自動研磨拋光機(jī)具備磨拋盤旋轉(zhuǎn)方向可任意選擇、磨拋盤可快速更換；多試樣夾持器和氣動單點加載；磨料自動配送等功能

摘要 商品描述：　　在金相試樣制備過程中，試樣的拋光是一道主要工序，經(jīng)過磨光的試樣，在拋光機(jī)上拋光后，可獲得光亮如鏡的表面，PG-1拋光機(jī)是采集多方面使用人員的意見和要求設(shè)計而成的，它具有傳動平穩(wěn)、噪音小、操作、維修方便等優(yōu)點

摘要 產(chǎn)品詳細(xì)介紹：在金相實驗室，金相試樣的制備過程中，試樣的預(yù)磨、拋光研磨是多道的程序

摘要 簡單介紹： 金相試樣拋光機(jī)P-2T型是一款經(jīng)典的拋光設(shè)備，它具有傳動平穩(wěn)，噪音小，操作、維修方便等優(yōu)點，能適合更多種材料的拋光要求。金相試樣拋光機(jī)P-2T型該機(jī)適用于廠礦企業(yè)、大專院校、科研單位的金相試驗室。

摘要 金相試樣的*終質(zhì)量是由拋光工序決定的，拋光是金相制樣過程中至關(guān)重要的一環(huán)。LP-2金相拋光機(jī)是將試樣上磨制產(chǎn)生的磨痕及變形層去掉，使其成為光滑鏡面的*后工序。

摘要 金相試樣的*終質(zhì)量是由拋光工序決定的，拋光是金相制樣過程中至關(guān)重要的一環(huán)。LP-1金相拋光機(jī)是將試樣上磨制產(chǎn)生的磨痕及變形層去掉，使其成為光滑鏡面的*后工序。

摘要 LAP-1000全自動磨拋機(jī)可同時拋光6個直徑30mm的試樣；單點氣動加載，無需夾持試樣，外觀美觀，堅固耐用；通過用電磁閥來控制水的通斷。

摘要 LAP-2X金相磨拋機(jī)一機(jī)多用，金相試樣的粗磨，精磨，粗拋和精拋，一機(jī)完成；磨拋盤直徑:250mm，比普通磨拋盤(直徑200mm),有效面積增加60%。

摘要 LAP-1X **金相磨拋機(jī)一機(jī)多用，金相試樣的粗磨，精磨，粗拋和精拋，一機(jī)完成；磨拋盤直徑:250毫米，比普通磨拋盤(直徑200mm),有效面積增加60%。

摘要 在金相試驗室，金相試樣制備過程中，試樣的預(yù)磨、拋光、研磨、是多道的程序。LAP-2E金相磨拋機(jī)是通過多方面市場調(diào)研和廣泛聽取操作使用人員的意思及要求開發(fā)設(shè)計而成，該機(jī)的集污盤和罩采用玻璃鋼整體制成，具有外形更新穎美觀*新產(chǎn)品。

摘要 LAP-1E金相磨拋機(jī)是一種研磨設(shè)備，它利用各種不同粒度的耐水研磨金相砂紙，對各種金屬及其合金試樣以及各種巖相試樣進(jìn)行粗磨、精磨、干磨 、濕磨等各道研磨工序，作拋光前的粗加工工序，同時可作拋光試樣?？梢淮涡酝瓿赡伖ぷ鳎鸬揭粰C(jī)多用的好處。

摘要 金相試樣的*終質(zhì)量是由拋光工序決定的，拋光是金相制樣過程中至關(guān)重要的一環(huán)。LP-2D金相拋光機(jī)是將試樣上磨制產(chǎn)生的磨痕及變形層去掉，使其成為光滑鏡面的*后工序。

摘要 P-1型金相試樣拋光機(jī)詳細(xì)信息：P-1型金相試樣拋光機(jī)（以下簡稱拋光機(jī)）適用于對經(jīng)磨光后的金屬材料進(jìn)行拋光,可獲得光亮如鏡的金屬表面,供在顯微鏡下觀察與測定金相組織

摘要 P-2T型金相試樣拋光機(jī)詳細(xì)信息：在金相試樣制備過程中，試樣的拋光是一道主要工序,經(jīng)過磨光的試樣，在拋光機(jī)上拋光后，可獲得光亮如鏡的表面,P-2T型金相試樣拋光機(jī)是一款經(jīng)典的拋光設(shè)備,它具有傳動平穩(wěn)，噪音小，操作、維修方使等優(yōu)點,能適合更多種材料的拋光要求

摘要 詳細(xì)信息：P-2金相試樣拋光機(jī)是采集多方面使用人員的意見和要求設(shè)計而成的，它具有機(jī)構(gòu)合理，傳動平穩(wěn)，噪音小，操作維修方便等優(yōu)點

摘要 金相顯微鏡、磨拋機(jī)

摘要P-2G型金相試樣拋光機(jī)詳細(xì)信息：在金相試樣制配過程中，試樣的拋光是一道主要工序，經(jīng)過磨光的試樣，在拋光機(jī)上拋光后，可獲得光亮如鏡的表面，P-2G型金相試樣拋光機(jī)是采集多方面使用人員的意見和要求設(shè)計而成的，它具有傳動平穩(wěn)，噪音小，操作維修方便等優(yōu)點，能適合更多種材料的...

摘要 產(chǎn)品概述：MY-1型光譜砂帶磨樣機(jī)在試樣制樣過程中，試樣磨平是光譜測量前必的重要工序