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GMSD2000/4 鋰電池納米*研磨分散機(jī)

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面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號(hào)GMSD2000/4
  • 品牌
  • 所在地上海市
  • 更新時(shí)間2017-11-09
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 所在地區(qū)上海市
  • 實(shí)名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量500
  • 人氣值8475
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上海思峻機(jī)械設(shè)備有限公司是一家依托德國(guó)SGN*工業(yè)設(shè)備生產(chǎn)加工技術(shù)的中德合作創(chuàng)新型企業(yè)。公司通過(guò)引進(jìn)德國(guó)SGN的*技術(shù)、科學(xué)管理模式以及工業(yè)設(shè)備的銷售模式等,培養(yǎng)了一大批在研發(fā)、制造以及銷售等領(lǐng)域的人才!在德國(guó)SGN工業(yè)設(shè)備的基礎(chǔ)上,思峻又自主創(chuàng)新開(kāi)發(fā)了一批適應(yīng)市場(chǎng)高要求的新型研磨分散設(shè)備。

 

 公司主要研發(fā)、制造、銷售流體領(lǐng)域的高*乳化機(jī)、膠體磨、均質(zhì)機(jī)、分散機(jī)、研磨分散機(jī)、乳化泵、剪切泵、粉液混合機(jī)、成套多功能真空乳化機(jī)等設(shè)備,為混合、分散、均質(zhì)、懸浮、乳化、濕磨、粉液混合等領(lǐng)域提供高品質(zhì)的解決方案,設(shè)備加工材料細(xì)度可達(dá)微納米級(jí)別。公司始終擁有一批在食品、化工、醫(yī)藥、新能源等領(lǐng)域有豐富經(jīng)驗(yàn)的高*人才,能夠?qū)I(yè)為客戶配備例如食品生產(chǎn)線、機(jī)械剝離法石墨烯生產(chǎn)線、氧化還原法石墨烯生產(chǎn)線、高純度碳納米管生產(chǎn)線、復(fù)合漿料生產(chǎn)線等。

 

公司特別注重設(shè)備的售后服務(wù)。依托一支技術(shù)扎實(shí)、服務(wù)貼切的售后團(tuán)隊(duì),我們將致力于為客戶提供整套的售后服務(wù),在Z短的時(shí)間內(nèi)為客戶解決與合作相關(guān)的一系列問(wèn)題。

 

“業(yè)精于專”是思峻公司的宗旨,專注人才、專注創(chuàng)新、專注品質(zhì)、專注服務(wù)是公司一貫的追求和對(duì)您的承諾,我們堅(jiān)信專注打造精品,專注將助力思峻在分散、乳化、均質(zhì)的事業(yè)領(lǐng)域中勇攀高峰!

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產(chǎn)地進(jìn)口 加工定制是 適用領(lǐng)域化工
SGN鋰電池納米*研磨分散機(jī)能夠?qū)崿F(xiàn)自動(dòng)控制,且操作簡(jiǎn)單方便,機(jī)器運(yùn)行很穩(wěn)定。機(jī)器的拆洗很方便,不存在任何死角,可以做到*的清洗。
鋰電池納米*研磨分散機(jī) 產(chǎn)品詳情

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SGN鋰電池納米*研磨分散機(jī)能夠?qū)崿F(xiàn)自動(dòng)控制,且操作簡(jiǎn)單方便,機(jī)器運(yùn)行很穩(wěn)定。機(jī)器的拆洗很方便,不存在任何死角,可以做到*的清洗。

銳鈦礦納米*比表面積大,在光催化,太陽(yáng)能電池,環(huán)境凈化,催化劑載體,鋰電池以及氣體傳感器等方面得到廣泛的應(yīng)用。

納米*具有良好的快速充放電性能和較高的容量。經(jīng)循環(huán)伏安研究表明,鋰離子在納米*中同時(shí)存在兩種動(dòng)力學(xué)過(guò)程,即擴(kuò)散控制的鋰離子嵌入-脫出國(guó)產(chǎn)和贗電容性的動(dòng)力學(xué)過(guò)程,更好地釋放鋰嵌入和脫嵌過(guò)程中的應(yīng)力,提高循環(huán)壽命,這也是與納米*的特殊結(jié)構(gòu)相關(guān)的。由于納米*)具有很好的化學(xué)穩(wěn)定性和熱穩(wěn)定性,因此具有更廣泛的應(yīng)用范圍。

納米*是一種優(yōu)秀的鋰嵌入載體,插鋰電位在1.5-1.6V,形成Li0.91TiO2-B,具有優(yōu)異的可逆循環(huán)容量。有意思的是,它的比容量要優(yōu)于同種相的直徑跟納米線直徑相仿的納米粒子。

 

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歡迎廣大客戶來(lái)我司參觀指導(dǎo)!

 

主要技術(shù)指標(biāo):

項(xiàng)目

指標(biāo)

型號(hào)

DC-TiO2-003

納米*外觀

白色粉末

PH 值

6-8

水份%(105,2hr干燥失重)

≤1.0

平均原級(jí)粒徑,nm

20

含量,%

≥99.9

比表面積   m2/g 

50-200

表面處理劑

鋰電池活化劑處理

應(yīng)用特點(diǎn):

(1)可以有效的參雜到鈷酸鋰,錳酸鋰,磷酸鐵鋰,三元材料里面,添加量一般在0.2-0.4%。

(2)由于所使用的染料敏化劑可以在很低的光能量下達(dá)到飽和。

(3)光的利用效率高,對(duì)光線的入射角度不敏感。

(4)對(duì)光陰影不敏感。

(5)可在很寬溫度范圍內(nèi)正常工作。

(6)具有很高的光轉(zhuǎn)化率

 

納米*電池的優(yōu)點(diǎn)在于它廉價(jià)的成本和簡(jiǎn)單的工藝及穩(wěn)定的性能。其光電效率穩(wěn)定在10%以上,制作成本僅為硅太陽(yáng)電池的1/5~1/10.壽命能達(dá)到20年以上。

 

研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

*級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?/span> 在對(duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來(lái)滿 足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對(duì)制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

GMD2000為立式分體結(jié)構(gòu),有一定輸送能力,可以處理高固含量有一定粘稠度物料,GM2000設(shè)計(jì)了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,進(jìn)行物料的推動(dòng)輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機(jī)座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對(duì)鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運(yùn)轉(zhuǎn)的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;GMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計(jì),可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

 

研磨分散機(jī)的特點(diǎn):

1、 線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨

2、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。

3、 定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

4、 在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

5、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

設(shè)備其它參數(shù):

設(shè)備等級(jí):化工級(jí)、衛(wèi)生I級(jí)、衛(wèi)生II級(jí)、無(wú)菌級(jí)
電機(jī)形式:普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、
電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機(jī)選配件: PTC 熱保護(hù)、降噪型
研磨分散機(jī)材質(zhì):SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機(jī)選配:儲(chǔ)液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動(dòng)小車
研磨分散機(jī)表面處理:拋光、耐磨處理
進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機(jī)選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

 

從設(shè)備角度來(lái)分析,影響研磨分散機(jī)效果因素有以下幾點(diǎn):

1.研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)

2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)

3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒、中齒、細(xì)齒、超細(xì)齒、越細(xì)齒效果越好)

4.物料在分散墻體的停留時(shí)間、研磨分散時(shí)間(可以看作同等電機(jī),流量越小效果越好)

5.循環(huán)次數(shù)(越多效果越好,到設(shè)備的期限就不能再好了。)

 

線速度的計(jì)算:

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知,剪切速率取決于以下因素:

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
SGN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

 所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個(gè)zui重要因素,超高速分散均質(zhì)分散機(jī)的高轉(zhuǎn)速和剪切率對(duì)于獲得超細(xì)微懸浮液是zui重要的

 

GMD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表
 

型號(hào)

流量

L/H

轉(zhuǎn)速

rpm

線速度

m/s

功率

kw

入/出口連接

DN

GMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

GMD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

GMD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

GMD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

GMD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

GMD2000/50

15000

1100

23

110

DN200/DN150

 

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%

 

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