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Plasma 3000雙向觀測(cè)全譜ICP

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  • 更新時(shí)間2025-09-22
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 所在地區(qū)北京市
  • 實(shí)名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量178
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光譜儀雙向觀測(cè)全譜ICP

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鋼研納克檢測(cè)技術(shù)股份有限公司(簡稱鋼研納克)是我國鋼研科技集團(tuán)有限公司的控股子公司。由國家鋼鐵材料測(cè)試中心、國家鋼鐵產(chǎn)品質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)中心、鋼鐵研究總院分析測(cè)試研究所、國家冶金工業(yè)鋼材無損檢測(cè)中心、鋼鐵研究總院分析測(cè)試培訓(xùn)中心、鋼鐵研究總院青島海洋腐蝕研究所、北京納克分析儀器有限公司業(yè)務(wù)整合后而成立的*。
鋼研納克主體業(yè)務(wù)涉及第三方檢測(cè)服務(wù)(含金屬材料化學(xué)成份檢測(cè)、力學(xué)性能檢測(cè)、材料失效分析、無損檢測(cè)、計(jì)量校準(zhǔn)),分析測(cè)試儀器、無損檢測(cè)儀器與裝備的研制和銷售、腐蝕防護(hù)產(chǎn)品及相關(guān)工程、標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)/樣品、檢測(cè)能力驗(yàn)證等領(lǐng)域、擁有ISO9001、NADCAP、Royce、RMP、ISO/IEC 17025認(rèn)可、CMA、CAL、CMC、PTP等多項(xiàng)資質(zhì)。是國家**的“分析技術(shù)研究、仲裁分析、人才培訓(xùn)中心”;中國方圓標(biāo)志認(rèn)證檢驗(yàn)實(shí)驗(yàn)室;*全國工業(yè)產(chǎn)品生產(chǎn)許可證辦公室軸承鋼材產(chǎn)品生產(chǎn)許可證審查部所在地;是中關(guān)村*園區(qū)掛牌的開放實(shí)驗(yàn)室;是核電、商用飛機(jī)、中國應(yīng)急分析、北京市生產(chǎn)安全事故調(diào)查等技術(shù)支撐單位。
鋼研納克擁有“北京中實(shí)國金實(shí)驗(yàn)室能力驗(yàn)證研究有限公司、青島鋼研納克檢測(cè)防護(hù)技術(shù)有限公司”兩家全資子公司、并在北京和上海設(shè)有兩家分公司。
鋼研納克是我國冶金分析、材料檢測(cè)及相關(guān)產(chǎn)品開發(fā)領(lǐng)域的*和領(lǐng)路人,是鋼鐵工業(yè)分析委員會(huì)秘書處、全國鋼標(biāo)委鋼鐵及合金化學(xué)成分測(cè)定分析技術(shù)委員會(huì)秘書處所在地、先后承擔(dān)國家*、國家*等多項(xiàng)課題。以*王海舟院士*的300余人的科研團(tuán)隊(duì),擁有教授18人、高級(jí)工程師101人、博士36人,全心致力于行業(yè)前沿技術(shù)與產(chǎn)品的探索與開發(fā)。在國家航空航天工程、核電工業(yè)、高速鐵路、商用飛機(jī)項(xiàng)目及北京奧運(yùn)會(huì)中先后承擔(dān)了重大課題的攻堅(jiān)任務(wù)。
鋼研納克檢測(cè)技術(shù)有限公司已獲得金屬材料表征北京市重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,北京市企業(yè)技術(shù)中心,金屬新材料檢測(cè)與裝備北京市工程實(shí)驗(yàn)室資質(zhì)。
鋼研納克總部位于北京市海淀區(qū),在北京、上海、河北、山東擁有研發(fā)及生產(chǎn)基地,并設(shè)有覆蓋全國的23個(gè)直屬營銷和售后服務(wù)網(wǎng)點(diǎn),為客戶提供Z*、便捷的服務(wù)。
鋼研納克*致力于全面、持續(xù)提升產(chǎn)品和服務(wù)品質(zhì),實(shí)現(xiàn)*價(jià)值的Z大化,力求成為金屬材料檢測(cè)領(lǐng)域的者和推動(dòng)者。
展望未來,鋼研納克在新的起點(diǎn)邁出更加堅(jiān)實(shí)的步伐,攜手各界走向美好的明天!

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Plasma 3000雙向觀測(cè)全譜ICP可廣泛適用于冶金、地質(zhì)、材料、環(huán)境、食品、醫(yī)藥、石油、化工、生物、水質(zhì)等各領(lǐng)域的元素分析。
垂直火炬,雙向觀測(cè),冷錐消除尾焰,具有更寬的動(dòng)態(tài)線性范圍和更低的背景。
自激式固態(tài)射頻發(fā)生器,高效穩(wěn)定,體積小巧,匹配速度快,確保儀器的高精度運(yùn)行及優(yōu)異的*穩(wěn)定性。
Plasma 3000雙向觀測(cè)全譜ICP 產(chǎn)品詳情

 Plasma 3000雙向觀測(cè)全譜ICP可廣泛適用于冶金、地質(zhì)、材料、環(huán)境、食品、醫(yī)藥、石油、化工、生物、水質(zhì)等各領(lǐng)域的元素分析。

  • 垂直火炬,雙向觀測(cè),冷錐消除尾焰,具有更寬的動(dòng)態(tài)線性范圍和更低的背景。
  • 自激式固態(tài)射頻發(fā)生器,高效穩(wěn)定,體積小巧,匹配速度快,確保儀器的高精度運(yùn)行及優(yōu)異的*穩(wěn)定性。
  • 高速面陣 CCD 采集技術(shù),單次曝光獲取全部譜線信息,真正實(shí)現(xiàn)“全譜直讀”。
  • 功能*的軟件系統(tǒng),簡化分析方法的開發(fā)過程。應(yīng)用工程師加入設(shè)計(jì)團(tuán)隊(duì),為用戶量身打造簡潔、舒適的操作體驗(yàn)。

 Plasma 3000雙向觀測(cè)全譜ICP儀器特點(diǎn):

系統(tǒng) 

徑向觀測(cè)與軸向觀測(cè)設(shè)計(jì),適應(yīng)亞 ppm 到高含量的元素測(cè)量。 中階梯光柵與棱鏡交叉色散結(jié)構(gòu),使用 CaF2 棱鏡,提高光路傳輸效率。 優(yōu)化的光學(xué)設(shè)計(jì),采用非球面光學(xué)元件,改善成像質(zhì)量,提高光譜采集效率。 光室氣體氛圍保持技術(shù),縮短光室充氣時(shí)間,提高紫外光譜靈敏度及穩(wěn)定性,開機(jī)即可測(cè)量。 包圍式立體控溫系統(tǒng),保障光學(xué)系統(tǒng)*穩(wěn)定無漂移。

光源 

自激式固態(tài)射頻發(fā)生器,高效穩(wěn)定,體積小巧,效率高,匹配速度快,能適應(yīng)各種復(fù)雜基體樣 品及揮發(fā)性有機(jī)溶劑的測(cè)試,均能獲得優(yōu)異的*穩(wěn)定性。 垂直炬管的設(shè)計(jì),具有更好的樣品耐受性,減少了清潔需求,降低了備用炬管的消耗。 冷錐消除尾焰技術(shù),降低自吸效應(yīng)和電離干擾,從而獲得更寬的動(dòng)態(tài)線性范圍和更 低的背景,保證準(zhǔn)確的測(cè)量結(jié)果。 具有綠色節(jié)能待機(jī)模式,待機(jī)時(shí)降低輸出功率,減小氣體流量,僅維持等離子體運(yùn)行,節(jié)約使 用成本。

簡潔的炬管安裝定位設(shè)計(jì),快速定位,精確的位置重現(xiàn)。 實(shí)時(shí)監(jiān)控儀器運(yùn)行參數(shù),高性能 CAN 工業(yè)現(xiàn)場(chǎng)總線,保障通訊高效可靠。

進(jìn)樣系統(tǒng) 

簡潔的炬管安裝設(shè)計(jì),自動(dòng)定位炬管位置,精確的位置重現(xiàn)。 儀器配備系列經(jīng)過優(yōu)化的進(jìn)樣系統(tǒng),可用于有機(jī)溶劑、高鹽 / 復(fù)雜基體樣品等的測(cè)試。

使用可拆卸式或一體式炬管,易于維護(hù),轉(zhuǎn)換快速,使用成本低。 使用質(zhì)量流量控制器控制冷卻氣、輔助氣和載氣的流量,保障測(cè)試性能*穩(wěn)定。 多通道 12 滾輪蠕動(dòng)泵,提升樣品導(dǎo)入穩(wěn)定性。

檢測(cè)器 

大面積背照式 CCD 檢測(cè)器 , 全譜段響應(yīng),高紫外量子化效率,抗飽和溢出,具有極寬的動(dòng)態(tài)范 圍和極快的信號(hào)處理速度。 一次曝光,完成全譜光譜信號(hào)的采集讀取,從而獲得更為快速、準(zhǔn)確的分析結(jié)果。 同類產(chǎn)品中大靶面尺寸,*像素,單像素面積 24μm X 24μm,三級(jí)半導(dǎo)體制冷 , 制冷溫 度 -30℃,具有更低的噪聲和更好的穩(wěn)定性。

軟件系統(tǒng)

人性化的界面設(shè)計(jì),流暢易懂,簡便易用,針對(duì)分析應(yīng)用優(yōu)化的軟件系統(tǒng),無須復(fù)雜的方法開發(fā), 即可快速開展分析操作。

豐富的譜線庫,智能提示潛在干擾元素,幫助用戶合理選擇分析譜線。 輕松的觀測(cè)方式設(shè)置,直觀的測(cè)試結(jié)果顯示。

安全防護(hù)

*電磁屏蔽,減少電磁輻射 連鎖門保護(hù),避免用戶誤操作可能帶來的風(fēng)險(xiǎn) 防紫外觀測(cè)窗

技術(shù)參數(shù):

分析性能

檢出限:亞 ppb- ppb 短期穩(wěn)定性:RSD ≤ 0.5%(500LOD) *穩(wěn)定性:RSD ≤ 1.0%(4h,500LOD)

光 源

自激式固態(tài)射頻發(fā)生器,功率連續(xù) 1 瓦可調(diào) 震蕩頻率:27.12MHz

輸出功率:500W-1600W 功率穩(wěn)定性:≤ 0.1%

儀器規(guī)格

尺 寸:寬 x 深 x 高(106cm x 67cm x 75cm) 重 量:約 180kg

光學(xué)系統(tǒng)

分析譜線范圍:165-870nm

分  辨  率: 0.006nm@200nm 光室恒溫:38℃ ±0.1℃

CCD 像素:1024x 1024

單像素面積:24μm x 24μm

工作環(huán)境

實(shí)驗(yàn)室濕度環(huán)境:相對(duì)濕度 20%~80% 氬氣純度:不小于 99.95%

排 風(fēng):不小于 400 立方米 / 小時(shí)

電 源:200V~240V AC 單相;50Hz~60Hz;4kVA

 

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