低溫恒溫循環(huán)器

     低溫恒溫循環(huán)器系列產(chǎn)品針對科研、生物、物理、醫(yī)藥、化工等部門對恒溫精度要求較高而研制的低溫實驗儀器，亦可作普通溫度計及其它溫度測量儀表制造中的定標用途。可為用戶工作時提供一個熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，對試驗樣品或生產(chǎn)的產(chǎn)品進行恒定溫度試驗或測試，也可作為直接制冷和制冷的冷源。

技術(shù)參數(shù)：

低溫恒溫循環(huán)器特點

風冷式高效全封閉制冷壓縮機,降溫速度快。 
微機智能控制,溫度精確溫度。 
數(shù)顯分辨率0.01℃，具有溫度測量值偏差修正功能。 
溫度超溫保護,自動切斷電源并報警。 
制冷系統(tǒng)過熱、過流自動保護

低溫恒溫循環(huán)器的應用領(lǐng)域及范圍：

生化領(lǐng)域：旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、阿貝折光儀、旋光儀、原子吸收、ICP-MS 、ICP、核磁共振、CCD、生物發(fā)酵罐、化學反應器（合成器）等。
材料領(lǐng)域：電鏡、X射線衍射、X熒光、真空濺射電鍍、真空鍍膜機、ICP刻蝕、各種半導體設(shè)備、疲勞試驗機、化學沉積系統(tǒng)、原子沉積系統(tǒng)等。
醫(yī)療領(lǐng)域：超導磁共振、直線加速器、CT、低磁場核磁共振、X光機、*機、科研冷帽、降溫毯等等。
物化領(lǐng)域：激光器、磁場、各種分子泵、擴散泵、離子泵以及包括材料領(lǐng)域。使用的各種需水冷設(shè)備。 
對半導體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工、熔接機的發(fā)熱部分、激光標志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機等。 其他產(chǎn)業(yè)用機器發(fā)熱部分的冷卻：等離子熔接、自動包裝機、模具冷卻、洗凈機械、鍍金槽、精密研磨機、射出成型機、樹脂成型機的成型部分等。 分析檢測機器的發(fā)熱部分的冷卻： 電子顯微鏡的光源、ICP發(fā)光分光分析裝置的光源部分、分光光度計的發(fā)熱部分、X線解析裝置的熱源、自動脈沖調(diào)幅器的發(fā)熱部分原子吸光光度計的光源等。水箱可用優(yōu)質(zhì)的純凈水在機內(nèi)外循環(huán)冷卻，可保證對水質(zhì)要求較高的精密儀器的正常運行，延長精密儀器的使用壽命。