新一代光譜成像橢偏儀新一代的超薄膜、表界面和材料分析測試工具，結(jié)合自動消光橢偏技術(shù)和傳統(tǒng)顯微鏡技術(shù)，橫向（X/Y方向）分辨率超過1微米

新一代成像橢偏儀Nanofilm_EP4具有多種*功能，實現(xiàn)對超薄膜的實時可視化分析測試。你將實時看到樣品微觀尺度上的結(jié)構(gòu)?？梢詼y量諸如薄膜厚度、折射率和吸收系數(shù)等參數(shù)。也可以對薄膜進行區(qū)域化（選區(qū)）分析，獲得所選區(qū)域的成像分析圖。還可以結(jié)合其他分析測試技術(shù)對樣品進行聯(lián)合分析從而從樣品中獲取更多的信息，聯(lián)用技術(shù)如原子力顯微鏡（AFM）、石英晶體微天平（QCMD）、反射光譜儀和拉曼光譜儀。成像橢偏儀Nanofilm_EP4是模塊化薄膜分析測試平臺，可根據(jù)您具體的應用方向進行差異化配置，從而實現(xiàn)不同的分析測試功能

技術(shù)優(yōu)勢：新一代光譜成像橢偏儀

的橢偏橫向分辨率：可分辨超1微米的微小區(qū)域，實現(xiàn)微結(jié)構(gòu)試樣和微小試樣的橢偏分析

新一代成像橢偏技術(shù)實現(xiàn)250nm-1700nm連續(xù)光譜橢偏分析，提供在寬廣波長范圍內(nèi)的樣品成像橢偏分析圖片。連續(xù)光譜測量技術(shù)（波長掃描）允許在波長對樣品進行橢偏分析

實時的橢偏對比度圖像，對樣品表面進行實時視頻圖像分析。樣品的所有微結(jié)構(gòu)、缺陷、污染和動態(tài)變化過程都將一覽無余

選區(qū)分析技術(shù)（）實現(xiàn)區(qū)域化的橢偏成像分析測試。平行化分析技術(shù)讓您對多個區(qū)域進行同步分析

成像橢偏分析集成平臺，實現(xiàn)多種測量技術(shù)的聯(lián)用。從而從樣品中獲得更多的信息

全畫幅聚焦技術(shù)可選，*解決由于橢偏儀斜角入射，物鏡焦平面和樣品表面相交只能線聚焦樣品，因此需要物鏡掃描獲取全畫幅聚焦照片的難題。適用于動態(tài)樣品的原位分析測試，如自組裝單分子層的生長和移動、蛋白質(zhì)相互作用和水面單分子層的漂移等等

光斑切割技術(shù)，真正實現(xiàn)超薄透明基底上薄膜的無背底反射橢偏測試

多種功能拓展附件實現(xiàn)成像橢偏技術(shù)在不同應用領域內(nèi)的多種實用功能，如表面等離子共振（SPR）單元，固/液界面分析單元，光導液/液界面分析單元，微流控分析單元，溫度控制單元，電化學分析單元等等

更多產(chǎn)品信息請參考產(chǎn)品樣本或者和我們聯(lián)系