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GH-100J 昆山國華電子低溫等離子體技術(shù)-中大型PLC

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面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 型號GH-100J
  • 品牌Siemens/西門子
  • 所在地蘇州市
  • 更新時間2019-08-28
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 所在地區(qū)蘇州市
  • 實名認證已認證
  • 產(chǎn)品數(shù)量112
  • 人氣值7048
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昆山國華電子科技有限公司是一家集等離子技術(shù)研發(fā)、生產(chǎn)、銷售和推廣于一體的高科技公司:秉承“服務(wù)創(chuàng)造價值、技術(shù)成就未來”的宗旨,為客戶提供表面處理領(lǐng)域的整體解決方案。

      公司由多名*從事等離子體技術(shù)應用研究,設(shè)備制造和銷售的業(yè)內(nèi)人事創(chuàng)建。核心技術(shù)發(fā)展于歐洲,同時充分借鑒歐美的*技術(shù),并通過與國內(nèi)外研發(fā)機構(gòu)合作,整合各行業(yè)的資源優(yōu)勢,生產(chǎn)出多系列具有自主知識產(chǎn)權(quán)的高性能的等離子體處理系統(tǒng)。集團合作團隊包括 EUROPLASMA、PSM等,應用領(lǐng)域涉及電子、光電、汽車、塑膠、紡織、生物、醫(yī)療、化工、日用品及家電等行業(yè)。

      公司成立以來已為眾多企業(yè)、大學院校、研究機構(gòu)提供等離子體處理設(shè)備和解決方案。售前可免費提供試樣和方案認證,以竭誠服務(wù)各領(lǐng)域科研項目為公司的宗旨。

      我們倡導技術(shù)創(chuàng)新,充分發(fā)揮新技術(shù)在企業(yè)經(jīng)營中的主導作用,以滿足客戶的個性化需求為己任,為客戶提供與等離子處理系統(tǒng)相關(guān)技術(shù)的支持與服務(wù),致力于成為*的行業(yè)*!

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昆山國華電子低溫等離子體技術(shù):
GH-100J等離子設(shè)備,5種氣體通入,不同組合用于不同工藝制造,可用于高頻板PTFE類、軟硬結(jié)合板、多層軟板等除膠渣等制造工藝,柔性板化金前后清洗、打線邦定前清洗等處理,SMT前清洗等。
昆山國華電子低溫等離子體技術(shù)-中大型PLC 產(chǎn)品詳情

昆山國華電子低溫等離子體技術(shù)

GH-100J等離子設(shè)備,5種氣體通入,不同組合用于不同工藝制造,可用于高頻板PTFE類、軟硬結(jié)合板、多層軟板等除膠渣等制造工藝,柔性板化金前后清洗、打線邦定前清洗等處理,SMT前清洗等。

現(xiàn)在,低溫等離子體物理與應用已經(jīng)是一個具有影響的重要的科學與工程,對高科技經(jīng)濟的發(fā)展及傳統(tǒng)工業(yè)的改造有著巨大的影響。例如,1995年微電子工業(yè)的銷售額達1400億美元,而三分之一微電子器件設(shè)備采用等離子體技術(shù)。塑料包裝材料百分之九十都要經(jīng)過低溫等離子體的表面處理和改性??茖W家預測:二十一世紀低溫等離子體科學與技術(shù)將會產(chǎn)生突破。據(jù)估計,低溫等離子體技術(shù)在半導體工業(yè)、聚合物薄膜、材料防腐蝕、等離子體電子學、等離子體合成、等離子體冶金、等離子體煤化工、等離子體三廢處理等領(lǐng)域的潛在市場每年將達一千幾百億美元。

昆山國華電子低溫等離子體技術(shù)

 

一、清洗對象經(jīng)等離子清洗之后是干燥的,不需要再經(jīng)干燥處理即可送往下一道工序??梢蕴岣哒麄€工藝流水線的處理效率;

二、等離子清洗使得用戶可以遠離有害溶劑對人體的傷害,同時也避免了濕法清洗中容易洗壞清洗對象的問題; 三、避免使用三氯乙烷等ODS有害溶劑,這樣清洗后不會產(chǎn)生有害污染物,因此這種清洗方法屬于環(huán)保的綠色清洗方法。這在高度關(guān)注環(huán)保的情況下越發(fā)顯出它的重要性;

四、采用無線電波范圍的高頻產(chǎn)生的等離子體與激光等直射光線不同。等離子體的方向性不強,這使得它可以深入到物體的微細孔眼和凹陷的內(nèi)部完成清洗任務(wù),因此不需要過多考慮被清洗物體的形狀。而且對這些難清洗部位的清洗效果與氟利昂清洗的效果相似甚至更好;

五、使用等離子清洗,可以使得清洗效率獲得*的提高。整個清洗工藝流程幾分鐘內(nèi)即可完成,因此具有產(chǎn)率高的特點;

六、等離子清洗需要控制的真空度約為100Pa,這種清洗條件很容易達到。因此這種裝置的設(shè)備成本不高,加上清洗過程不需要使用價格較為昂貴的有機溶劑,這使得整體成本要低于傳統(tǒng)的濕法清洗工藝;

七、使用等離子清洗,避免了對清洗液的運輸、存儲、排放等處理措施,所以生產(chǎn)場地很容易保持清潔衛(wèi)生;

八、等離子體清洗可以不分處理對象,它可以處理各種各樣的材質(zhì),無論是金屬、半導體、氧化物,還是高分子材料(如聚丙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亞胺、聚酯、環(huán)氧樹脂等高聚物)都可以使用等離子體來處理。因此特別適合于不耐熱以及不耐溶劑的材質(zhì)。而且還可以有選擇地對材料的整體、局部或復雜結(jié)構(gòu)進行部分清洗;

九、在完成清洗去污的同時,還可以改善材料本身的表面性能。如提高表面的潤濕性能、改善膜的黏著力等,這在許多應用中都是非常重要的.

一、清洗對象經(jīng)等離子清洗之后是干燥的,不需要再經(jīng)干燥處理即可送往下一道工序。可以提高整個工藝流水線的處理效率;

二、等離子清洗使得用戶可以遠離有害溶劑對人體的傷害,同時也避免了濕法清洗中容易洗壞清洗對象的問題; 三、避免使用三氯乙烷等ODS有害溶劑,這樣清洗后不會產(chǎn)生有害污染物,因此這種清洗方法屬于環(huán)保的綠色清洗方法。這在高度關(guān)注環(huán)保的情況下越發(fā)顯出它的重要性;

四、采用無線電波范圍的高頻產(chǎn)生的等離子體與激光等直射光線不同。等離子體的方向性不強,這使得它可以深入到物體的微細孔眼和凹陷的內(nèi)部完成清洗任務(wù),因此不需要過多考慮被清洗物體的形狀。而且對這些難清洗部位的清洗效果與氟利昂清洗的效果相似甚至更好;

五、使用等離子清洗,可以使得清洗效率獲得*的提高。整個清洗工藝流程幾分鐘內(nèi)即可完成,因此具有產(chǎn)率高的特點;

六、等離子清洗需要控制的真空度約為100Pa,這種清洗條件很容易達到。因此這種裝置的設(shè)備成本不高,加上清洗過程不需要使用價格較為昂貴的有機溶劑,這使得整體成本要低于傳統(tǒng)的濕法清洗工藝;

七、使用等離子清洗,避免了對清洗液的運輸、存儲、排放等處理措施,所以生產(chǎn)場地很容易保持清潔衛(wèi)生;

八、等離子體清洗可以不分處理對象,它可以處理各種各樣的材質(zhì),無論是金屬、半導體、氧化物,還是高分子材料(如聚丙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亞胺、聚酯、環(huán)氧樹脂等高聚物)都可以使用等離子體來處理。因此特別適合于不耐熱以及不耐溶劑的材質(zhì)。而且還可以有選擇地對材料的整體、局部或復雜結(jié)構(gòu)進行部分清洗;

九、在完成清洗去污的同時,還可以改善材料本身的表面性能。如提高表面的潤濕性能、改善膜的黏著力等,這在許多應用中都是非常重要的

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