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單靶磁控濺射鍍膜儀 鍍膜機

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  • 型號
  • 品牌
  • 所在地鄭州市
  • 更新時間2022-09-29
  • 廠商性質經銷商
  • 所在地區(qū)鄭州市
  • 實名認證已認證
  • 產品數(shù)量20
  • 人氣值1055
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產地國產 加工定制是
單靶磁控濺射鍍膜儀
是我公司自主研發(fā)的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備,具有小型化、標準化的特點。磁控靶有1英寸、2英寸可以選擇,客戶可以根據所鍍基板的大小自主選擇
單靶磁控濺射鍍膜儀 鍍膜機 產品詳情

詳情介紹:

小型單靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備,具有小型化、標準化的特點。磁控靶有1英寸、2英寸可以選擇,客戶可以根據所鍍基板的大小自主選擇;所配電源為150W直流電源,可用于金屬濺射鍍膜。鍍膜儀配有通氣接口,可以通入保護性氣體,若客戶需要通入混合氣體,可以聯(lián)系工作人員自行配置高精度質量流量計以滿足實驗需要。儀器標配*的渦輪分子泵組,極限真空可達1.0E-5Pa,同時另有其他類型的分子泵可供選購。

 

小型單靶磁控濺射鍍膜儀適用范圍:

該設備可用于制備單層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該與同類設備相比,經過小型化設計,高度集成,體積小巧,可以放置于桌面上使用,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備。 

技術參數(shù):

 

 

樣品臺

尺寸

φ138mm

控溫精度

±1℃

加熱溫度

*高500℃

轉速

1-20rpm可調

磁控濺射頭

數(shù)量

2” x1 (1”,2”可選)

水冷機規(guī)格

10L/min流速的循環(huán)水冷機

冷卻方式

水冷

 

 

真空腔體

腔體尺寸

φ180mm × 215mm

觀察窗口

全向透明

腔體材料

高純石英

開啟方式

頂蓋拆卸式

真空系統(tǒng)

產品型號

CY-GZK103-A

抽氣接口

KF40

分子泵

CY-600

排氣接口

KF16

前極泵

旋片泵

真空測量

復合真空計

極限真空

1.0E-5Pa

供電電源

AC;220V 50/60Hz

抽氣速率

分子泵:600L/S  旋片泵:1.1L/S  綜合抽氣性能:20分鐘真空度可達: 1.0E-3Pa

電源配置

數(shù)量

直流電源 ×1

*大輸出功率

150W

 

其他

供電電壓

AC220V,50Hz

整機尺寸

500mm × 350mm × 400mm

整機功率

1.7KW(真空泵組1.5KW+本機0.2KW)

整機重量

30kg

 

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