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CIF目前主要生產產品

半導體材料表面處理儀器：等離子清洗機、紫外臭氧清洗機、勻膠機、烤膠機。

無機樣品前處理通用儀器：亞沸酸蒸清洗器、真空趕酸系統(tǒng)、酸純化器、智能消解儀、恒溫電熱板、實驗室廢液收集系統(tǒng)。

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產地	國產	加工定制	否

CIF勻膠機轉速穩(wěn)定、啟動迅速，旋涂均勻，操作簡單，結構緊湊實用，為實驗室提供了理想的解決方案。廣泛應用于微電子、半導體、新能源、化工材料、生物材料、光學，硅片、載玻片，晶片，基片，ITO 導電玻璃等工藝制版表面涂覆等。

勻膠機-勻漿機產品詳情

產品特點

u 采用閉環(huán)控制伺服電機，數(shù)字式增速信號反饋，速勻準確，壽命長，保證勻膠均勻。

u 5寸全彩觸摸屏，智能程序化可編程操控顯示，標配10個勻膠梯度階段（速度和時間梯度設置），可選配10個可編程程序，每個程序下可設置10個勻膠梯度階段，多100個階段。

u 內置水平校準裝置，大限度的保證旋涂均勻，可對大小不同規(guī)格的基片進行旋涂。

多重安全保護

電磁安全開關，蓋子打開卡盤停止，保證安全；

蓋子自鎖功能，防止飛片蓋彈開傷人；

雙重安全上蓋，聚四氟嵌鑲鋼化玻璃，避免單一玻璃或者亞克力上蓋飛片傷人，大限度保證實驗人員安全。

u 一機兩用，根據(jù)不同樣品可選真空吸盤和非真空卡盤兩種旋涂模式。

u 不銹鋼噴塑涂層旋涂殼體，PTFE旋涂腔體，聚丙烯（NPP-H）旋涂托盤，PTFE嵌鑲鋼化玻璃上蓋，耐酸堿防腐蝕，保證儀器在苛刻條件下仍能正常運行。

u 適用硅片、玻璃、石英、金屬、GaAs，GaN，InP 等多種材料。

技術參數(shù)

型號	轉速（轉/分）	轉速穩(wěn)定度	勻膠時間	旋涂基片尺寸mm	外型尺寸（LxWxH）mm
SC1	50-10000	±1％	0-2000S	圓片Φ5-Φ100,方片大100x100	310x260x250

關鍵詞：觸摸屏

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