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位于中國上海浦東外高橋保稅區(qū)的伯東企業(yè)（上海）有限公司創(chuàng)建于1995年12月，是日本伯東株式會社獨資設立的外商投資企業(yè)，公司注冊資金為800萬美元。

本公司主要是一家以經(jīng)營電子接插件、線束、電線以及機械設備、中空產(chǎn)品等精密儀器、設備的維修，以及以半導體制造裝置、基板制造裝置、電腦軟件為主的貿易、轉口貿易及保稅區(qū)企業(yè)間貿易及保稅區(qū)貿易代理、貿易及相關技術咨詢的公司。

公司一直堅持品質*、信譽*的原則，為廣大客戶提供了高品質的產(chǎn)品以及良好的售后服務。到目前為止已先后通過了美國UL安全認證、 ISO9001－2000質量體系認證、ISO14001－1996環(huán)境體系認證。公司將在今后的發(fā)展中秉承以人為本，不斷開拓進取的精神，為滿足客戶的需求努力向專業(yè)化、優(yōu)質化、集團化發(fā)展。

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產(chǎn)品簡介在線詢價

產(chǎn)地	進口	加工定制	是

上海伯東代理美國考夫曼博士設立的考夫曼公司 KRI 霍爾離子源 eH 400 低成本設計提供高離子電流, 霍爾離子源 eH 400 尺寸和離子能量特別適合中小型的真空系統(tǒng), 可以控制較低的離子能量, 通常應用于離子輔助鍍膜, 預清洗和低能量離子蝕刻.
尺寸: 直徑= 3.7“ 高= 3”
放電電壓 / 電流: 50-300eV / 5a
操作氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2,

美國 KRI 霍爾離子源 eH 400 等離子清洗器產(chǎn)品詳情

上海伯東代理美國考夫曼博士設立的考夫曼公司 KRI 霍爾離子源 eH 400 低成本設計提供高離子電流, 霍爾離子源 eH 400 尺寸和離子能量特別適合中小型的真空系統(tǒng), 可以控制較低的離子能量, 通常應用于離子輔助鍍膜, 預清洗和低能量離子蝕刻.

尺寸: 直徑= 3.7“ 高= 3”

放電電壓 / 電流: 50-300eV / 5a

操作氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有機前體

伯東 KRI 霍爾離子源 eH 400 特性：

1.可拆卸陽極組件 - 易于維護; 維護時, 大限度地減少停機時間; 即插即用備用陽極

2.寬波束高放電電流 - 均勻的蝕刻率; 刻蝕效率高; 高離子輔助鍍膜 IAD 效率

3.多用途 - 適用于 Load lock / 超高真空系統(tǒng)

4.高效的等離子轉換和穩(wěn)定的功率控制

KRI 霍爾離子源 eH 400 技術參數(shù):

型號	eH 400 / eH 400 LEHO
供電	DC magnetic confinement
- 電壓	40-300 V VDC
- 離子源直徑	~ 4 cm
- 陽極結構	模塊化
電源控制	eHx-3005A
配置	-
- 陰極中和器	Filament, Sidewinder Filament or Hollow Cathode
- 離子束發(fā)散角度	> 45° (hwhm)
- 陽極	標準或 Grooved
- 水冷	前板水冷
- 底座	移動或快接法蘭
- 高度	3.0'
- 直徑	3.7'
- 加工材料	金屬電介質半導體
- 工藝氣體	Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors
- 安裝距離	6-30”
- 自動控制	控制4種氣體

* 可選: 可調角度的支架; Sidewinder

KRI 霍爾離子源 eH 400 應用領域:

1.離子輔助鍍膜 IAD

2.預清潔 Load lock preclean

3.In-situ preclean

4.Low-energy etching

5.III-V Semiconductors

6.Polymer Substrates

關鍵詞：標準

熱門產(chǎn)品

產(chǎn)品名稱	參考價	地區(qū)	公司名稱	更新時間
Ionfab 300 IBE	面議	上海	牛津儀器科技（上海）有限公司	2023-11-16	在線詢價

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