UTA 無掩膜顯微型光刻機

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型號UTA
品牌
所在地北京市
更新時間2021-01-21

北京歐屹科技有限公司

廠商性質代理商
所在地區(qū)北京市
實名認證已認證
產品數(shù)量113
人氣值1590

產品標簽

顯微鏡LED曝光機顯微型光刻機無掩膜光刻機光刻機

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同時，憑借扎實的技術能力、的售后體系與成熟的跨境業(yè)務經驗，我們可為客戶提供保障。我們始終用心經營，致力打造值得客戶長期信賴的企業(yè)。

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產地	進口	加工定制	是	適用領域	科研

無掩膜顯微型光刻機裝置
UTA系列是將DLP投影儀盒金相顯微鏡相結合的縮小投影型無掩模曝光系統(tǒng)，其*傳統(tǒng)系統(tǒng)（用于掩膜光刻的圖案投影曝光系統(tǒng)）可以使用專門為此目的開發(fā)的軟件來創(chuàng)建想要的圖案。

無掩膜顯微型光刻機產品詳情

無掩膜顯微型光刻機概述：

顯微鏡LED曝光單元UTA系列是不需要掩模的用于光刻的圖案投影曝光裝置。
使用金相顯微鏡盒LED光源DLP投影儀，將具有機微米分辨率的任意圖案投影到涂有抗蝕劑的基板上進行曝光。
圖案可以在PC上自由創(chuàng)建。
因為可以在普通的室內環(huán)境中在各種大小盒形狀的單晶薄片上形成電極，所以它比電子束光刻便宜且簡單，不需要制造昂貴的電極圖案掩膜。

顯無掩膜顯微型光刻機應用：

薄膜FET和霍爾效應測量樣品的電極形成。
從石墨烯/鉬原石中剝離電極形成并評估其特性。
研發(fā)應用的圖案形成。

無掩膜顯微型光刻機參數(shù)：

由于顯微鏡和DLP的結合，可以用很低的成本來構建系統(tǒng)
易于使用的軟件可以輕松的創(chuàng)建曝光圖案
通過物鏡放大倍率圖案，可以進行大范圍的批量曝光
可以連接到您自己的顯微鏡上（選項）
分辨率在微米級
曝光范圍：大2.5mm×1.5mm 小100um×60um
可以連接到您自己的顯微鏡上（選項）
分辨率在微米級
曝光范圍：大2.5mm×1.5mm 小100um×60um

關鍵詞：顯微鏡金相顯微鏡投影儀

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