氯含氫分析儀的應(yīng)用

熱處理

•銅熔化爐和鍍鋅

•鋼鐵工業(yè)

•化工和石化行業(yè)

•合成氣

•肥料

•堿和氯廠

•核電站和電力工業(yè)

•氫冷發(fā)電機(jī)

•天然氣生產(chǎn)行業(yè)（純度監(jiān)測(cè)）

•氫氣發(fā)生器

半導(dǎo)體裝置的H₂氣體濃度測(cè)量

氫氣發(fā)生裝置的H₂氣體濃度測(cè)量

燒結(jié)爐的H₂氣體濃度測(cè)量

煤氣發(fā)生設(shè)備的Ar、He、CH₄濃度測(cè)量

超導(dǎo)裝置的He氣體濃度測(cè)量

空氣分離設(shè)備的Ar氣體濃度測(cè)量 

氯含氫分析儀技術(shù)參數(shù)：

量程：0-1%、0-2%、0-5%、0-10%、0-15%、0-20%、0-30%、0-40%、0-75% ；0-*、80-*、95-*、98-*H2\He\CH4\HC等宋體">容許負(fù)載電阻 不超過(guò)550Ω（DC4～20mA輸出時(shí)） 輸出電阻 100kΩ（DC0～1V、DC0～10mV時(shí)） 顯示器 帶背光LCD 測(cè)量值顯示 zui多4位或小數(shù)點(diǎn)后帶2位 換氣氣體的流量 約1L/min（根據(jù)需要進(jìn)行） 適用標(biāo)準(zhǔn) CE標(biāo)記（預(yù)定取得認(rèn)證） 性能 重復(fù)性 ±1%FS 漂移 零點(diǎn)：±2% FS/周 以?xún)?nèi)（H₂分析儀）
滿(mǎn)量程點(diǎn)：±2% FS/周 以?xún)?nèi)（H₂分析儀） 響應(yīng)速度（90%響應(yīng)） 標(biāo)準(zhǔn)：60秒以?xún)?nèi)（0.4L/min流量）
高速：10秒以?xún)?nèi)（1L/min流量）
但H₂分析儀（參比氣為N₂） 標(biāo)準(zhǔn)測(cè)量氣體條件 溫度 0～50℃ 氣體流量 0.4±0.05 L/min 且應(yīng)穩(wěn)定 塵埃 不超過(guò)1µm的微粒， 不超過(guò)100µg/Nm³ 壓力 不超過(guò)10kPa 氣霧、腐蝕性氣體 無(wú) 水分 不超過(guò)2℃飽和