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AZ 5214E 光刻膠

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  • 型號
  • 品牌
  • 所在地
  • 更新時間2021-04-13
  • 廠商性質生產廠家
  • 所在地區(qū)蘇州市
  • 實名認證已認證
  • 產品數量199
  • 人氣值3771
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蘇州汶顥微流控技術股份有限公司是一家留學人員回國創(chuàng)業(yè)的*企業(yè),集研發(fā)、生產、銷售為一體,技術力量雄厚,生產設備*,檢測手段齊全,產品質量過硬。公司建立了完備的微流控芯片研發(fā)與生產中心,配置了三條微流控芯片生產線,包括數控CNC微加工儀器,軟刻蝕有機芯片加工系統,光刻-掩模無機芯片加工系統,可以加工生產所有材質的芯片,如玻璃、石英、硅、PDMS和PMMA等。產品涵蓋集成式通用醫(yī)療診斷芯片、集成式通用環(huán)境保護分析監(jiān)測芯片、集成式通用食品安全分析檢測芯片和基于微流控芯片的新能源體系四大系列數十個品種,以及各類科研類芯片,并在生物芯片和化學芯片領域一直保持技術和研發(fā)的前沿地位,擁有102項知識產權,其中:已申請發(fā)明43件,已*22件,實用新型51件,6項國家計算機軟件著作權,3項國家注冊商標,獲批*成品3項。公司提供的產品和服務按市場可分為科研類芯片、儀器標配芯片、應用類芯片及系統和芯片實驗室解決方案。

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AZ 5214E 正/負可改變型光刻膠具有高解像度圖形反轉正/負可改變型光刻膠,特別為lift-off工藝優(yōu)化
AZ 5214E 光刻膠 產品詳情

AZ光刻膠刻蝕厚度從1μm到150μm以及更厚。

AZ光刻膠特點:

  1. 適用于高分辨率工藝(lift-off工藝)

  2. 適用于正/負圖形

  3. 很寬的膜厚范圍

AZ光刻膠工藝條件:

前烘:100℃ 60秒 (DHP)

曝光:1線步進式曝光機/接觸式曝光機

反轉烘烤:110~125℃ 90秒(DHP):去離子水30秒

全面曝光:310~405nm(在曝光光源下全面照射)

顯影:AZ300MIF顯影液 (2.38%) 23℃ 30~60秒 Puddle   

AZ Developer(1:1)23℃ 60秒Dipping

AZ 400K(1:4)23℃ 60秒Dipping

清洗:去離子水30秒

后烘:120℃ 120秒(DHP) 

剝離:AZ剝離液及/或氧等離子體灰化

AZ系列光刻膠 正膠進口 AZ 光刻膠系列參數及工藝說明

AZ光刻膠刻蝕厚度從1μm到150μm以及更厚。高感光度,高產出率;高附著性,特別為濕法刻蝕工藝改進;廣泛應用于半導體行業(yè)。


光刻膠產品型號及參數

光刻膠名稱型號勻膠厚度
Merck AZ 正/負可轉換型光刻膠AZ 52140.5-6um
AZ 50XT 正膠AZ 50XT40-80um
AZ 9260 正膠AZ 92606.2-15um
AZ 4620 光刻膠AZ 462010-15um
MicroChem SU-8 負膠SU-8 201513-38um
MicroChem SU-8 負膠SU-8 205040-170um
MicroChem SU-8 負膠SU-8 207560-240um
MicroChem SU-8 負膠SU-8 2150190-650um
MicroChem SU-8 負膠SU-8 30108-15um
MicroChem SU-8 負膠SU-8 305044-100um

AZ光刻膠其他參數及說明:

AZ 5214E 正/負可改變型光刻膠價格、工藝、參數、優(yōu)缺點及說明


標簽:   光刻膠
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