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PTL-VM2000 等離子清洗機(jī)

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  • 型號(hào)
  • 品牌
  • 所在地
  • 更新時(shí)間2021-04-16
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 所在地區(qū)蘇州市
  • 實(shí)名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量199
  • 人氣值3749
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蘇州汶顥微流控技術(shù)股份有限公司是一家留學(xué)人員回國(guó)創(chuàng)業(yè)的*企業(yè),集研發(fā)、生產(chǎn)、銷售為一體,技術(shù)力量雄厚,生產(chǎn)設(shè)備*,檢測(cè)手段齊全,產(chǎn)品質(zhì)量過(guò)硬。公司建立了完備的微流控芯片研發(fā)與生產(chǎn)中心,配置了三條微流控芯片生產(chǎn)線,包括數(shù)控CNC微加工儀器,軟刻蝕有機(jī)芯片加工系統(tǒng),光刻-掩模無(wú)機(jī)芯片加工系統(tǒng),可以加工生產(chǎn)所有材質(zhì)的芯片,如玻璃、石英、硅、PDMS和PMMA等。產(chǎn)品涵蓋集成式通用醫(yī)療診斷芯片、集成式通用環(huán)境保護(hù)分析監(jiān)測(cè)芯片、集成式通用食品安全分析檢測(cè)芯片和基于微流控芯片的新能源體系四大系列數(shù)十個(gè)品種,以及各類科研類芯片,并在生物芯片和化學(xué)芯片領(lǐng)域一直保持技術(shù)和研發(fā)的前沿地位,擁有102項(xiàng)知識(shí)產(chǎn)權(quán),其中:已申請(qǐng)發(fā)明43件,已*22件,實(shí)用新型51件,6項(xiàng)國(guó)家計(jì)算機(jī)軟件著作權(quán),3項(xiàng)國(guó)家注冊(cè)商標(biāo),獲批*成品3項(xiàng)。公司提供的產(chǎn)品和服務(wù)按市場(chǎng)可分為科研類芯片、儀器標(biāo)配芯片、應(yīng)用類芯片及系統(tǒng)和芯片實(shí)驗(yàn)室解決方案。

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PTL-VM2000等離子清洗機(jī)可支持8英寸規(guī)格產(chǎn)品處理
PTL-VM2000 等離子清洗機(jī) 產(chǎn)品詳情

一、PTL-VM2000 等離子清洗機(jī)設(shè)備簡(jiǎn)介:

PTL-VM2000等離子清洗機(jī)可支持8英寸處理。

PTL 系列低溫等離子表面處理設(shè)備由真空腔體及高頻等離子電源、抽真空系統(tǒng)、充氣系統(tǒng)、自動(dòng)控制系統(tǒng)等部分組成。工作基本原理是在真空狀態(tài)下,等離子作用在控制和定性方法下能夠電離氣體, 利用真空泵將工作室進(jìn)行抽真空達(dá)到 30-100pa 的真空度,再在高頻發(fā)生器作用下,將氣體進(jìn)行電離,形成等離子體(物質(zhì)第四態(tài)),其顯著的特點(diǎn)是高均勻性輝光放電,根據(jù)不同氣體發(fā)出從藍(lán)色到深紫色的彩色可見(jiàn)光,材料處理溫度接近室溫。這些高度活躍微粒子和處理的表面發(fā)生作用,得到了表面親水性、拒水性、低摩擦、高度清潔、激活、蝕刻等各種表面改性。

等離子處理優(yōu)點(diǎn):

1.環(huán)保技術(shù):等離子體作用過(guò)程是氣- 固相干式反應(yīng) ,不消耗水資源、無(wú)需添加化學(xué)藥劑,對(duì)環(huán)境無(wú)污染。

2.廣適性:不分處理對(duì)象的基材類型,均可進(jìn)行處理,如金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料都能很好地處理;

3.溫度低:接近常溫,特別適于高分子材料,比電暈和火焰方法有較長(zhǎng)保存時(shí)間和較高表面張力。

4.功能強(qiáng):僅涉及高分子材料淺表面(10 -1000 埃),可在保持材料自身特性的同時(shí),賦予其一種或多種新的功能;

5.低成本:裝置簡(jiǎn)單,易操作維修,可連續(xù)運(yùn)行,往往幾瓶氣體就可以代替數(shù)千公斤清洗液,因此清洗成本會(huì)大大低于濕法清洗。

6. 全過(guò)程可控工藝:所有參數(shù)可由電腦設(shè)置和數(shù)據(jù)記錄,進(jìn)行工藝質(zhì)量控制。

7. 處理物幾何形狀無(wú)限制:大或小,簡(jiǎn)單或復(fù)雜,部件或紡織品,均可處理。

二、PTL-VM2000 等離子清洗機(jī)技術(shù)參數(shù)

1、設(shè)備外形尺寸: 600(W)×540(D)×1550(H)mm

2、真空倉(cāng)體尺寸: 240(W)*240(H)*400(D) 約 20L

3、倉(cāng)體結(jié)構(gòu): 航空鋁合金腔體,內(nèi)置容式耦合電極,電極尺寸 220(W) ×300(D) mm,5 層。

4、等離子發(fā)生器: 德國(guó) PTL 射頻發(fā)生器技術(shù),頻率 40khz,功率 0-600W 調(diào)節(jié),自動(dòng)匹配,全電路保護(hù),可連續(xù)長(zhǎng)時(shí)間工作。(風(fēng)冷)。

5、控制系統(tǒng):PLC 觸摸屏全自動(dòng)控制,采用歐姆龍、施耐德等進(jìn)口品牌電器元件,有手動(dòng)、自動(dòng)兩種控制模式,真彩臺(tái)達(dá)觸摸屏,西門子可編程控制器(PLC),美國(guó)產(chǎn)真空壓力傳感系統(tǒng),可在線監(jiān)控真空壓力、處理時(shí)間、等離子功率等工藝參數(shù),并具有故障報(bào)警、工藝存儲(chǔ)等多種功能。在自動(dòng)模式下設(shè)置各項(xiàng)工藝參數(shù),可一鍵啟動(dòng),連續(xù)重復(fù)運(yùn)行。手動(dòng)模式用于實(shí)驗(yàn)工藝以及設(shè)備維護(hù)維修。

6、PTL-VM2000 采用立式結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),設(shè)備設(shè)計(jì)緊湊,整體一體化設(shè)計(jì),采用全自動(dòng)控制模式,適合于工廠中小批量產(chǎn)品生產(chǎn)。

三、PTL-VM2000 等離子清洗機(jī)工藝流程:

3.1 處理工藝流程

裝入工件→抽真空→沖入反應(yīng)氣體→等離子放電處理→回沖氣體→取出工件

3.2 工藝控制:

3.2.1 處理時(shí)間控制: 1 秒~120 分鐘連續(xù)可調(diào)。

3.2.2 等離子放電壓力:30~50Pa

3.2.3 功率設(shè)定范圍:0~600W 連續(xù)可調(diào)

3.2.4 兩路工藝氣體流量設(shè)定范圍: 氣體 1(0~160ml/min) 氣體 2(0~500ml/min)

3.3 PLC 軟件功能(操控界面)

PTL-VM2000 等離子清洗機(jī)

3.3.1 主畫面:實(shí)時(shí)監(jiān)視并顯示運(yùn)行狀態(tài)及數(shù)據(jù),等離子電源功率、氣體流量、閥門開(kāi)關(guān)、真空

壓力、運(yùn)行時(shí)間等。

3.3.2 參數(shù)設(shè)置:可設(shè)定、修改工藝參數(shù)及步驟。

3.3.3 工作狀態(tài):可在線查看真空壓力、等離子功率等數(shù)據(jù)及狀態(tài)。

33.4 故障報(bào)警:多種故障檢測(cè)、報(bào)警及互鎖保護(hù)。

四、真空泵:雙級(jí)旋片泵

五、場(chǎng)地要求

電 源:兩相三線,獨(dú)立接地,接地電阻≤2Ω。應(yīng)使用截面積 3mm2以上的接地線將設(shè)備接至PE。

真空泵排放氣管:軟管,管徑(內(nèi)徑)建議將排氣管接至室外。

場(chǎng)地溫度:≤40℃

相對(duì)濕度:RH(35-85)%


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