產(chǎn)品配置及特點

　　1、 采用*設計的真空光室，可精確測定非金屬元素中C、P、S以及各種合金元素含量，測定結果精準，重現(xiàn)性及長期穩(wěn)定性。

　　2、 *的真空光學室結構設計，使真空室容積更小，抽真空速度不到普通光譜儀的一半。將入射窗與真空室分離使入射窗日常清洗維護方便快捷。

　　3、光學系統(tǒng)自動進行譜線掃描，自動光路校準，確保譜線接收的正確性，免除繁瑣的波峰掃描工作。

　　4、*的激發(fā)臺及氬氣氣路設計，大大降低了氬氣使用量。靈活的樣品夾設計，以滿足客戶現(xiàn)場的各種形狀大小的樣品分析。

　　5、不增加硬件設施的情況下，即可實現(xiàn)多基體分析。相比光電倍增管光譜儀可大大降低客戶使用成本及使用范圍。

　　6、采用*的噴射電極技術。在激發(fā)狀態(tài)下，電極周圍會形成氬氣噴射氣流，這樣在激發(fā)過程中激發(fā)點周圍不會與外界空氣接觸，提高激發(fā)精度。

　　7、專用的光譜操作軟件*兼容于windows系統(tǒng)。同時可以根據(jù)客戶需求配備各種語言版本。軟件操作簡單即使沒有任何光譜儀知識及操作經(jīng)驗的人員只需經(jīng)過簡單的知識培訓即可上手使用。

　　8、采用高性能FPGA、DSP及ARM處理器，具有超高速數(shù)據(jù)采集分析功能，并能自動實時監(jiān)測控制光室溫度、真空度、氬氣壓力、、激發(fā)光源等模塊的運行狀況。

　　9、全數(shù)字化等等離子激發(fā)光源，超穩(wěn)定能量釋放在氬氣環(huán)境中激發(fā)樣品。全數(shù)字激發(fā)脈沖，確保激發(fā)樣品等離子體能量超高分辨率和高穩(wěn)定輸出。滿足各種不同材料的激發(fā)要求。

　　10、樣品激發(fā)臺采用銅火花臺底座，鎢材料電極;銅火花臺底座為激發(fā)臺提供較好的散熱及堅固等特性，同時鎢電極使用壽命長，耐高溫等特性也提高了激發(fā)的性能;電極自吹掃功能的設計，為激發(fā)創(chuàng)造了良好的環(huán)境，也使激發(fā)臺清潔電極更加容易。

　　技術參數(shù)

　　分析基體：Fe、Cu、Al、Ni、Ti、Co、Zn、Sn、Mg、Pb等

　　光學結構：帕邢-龍格羅蘭圓全譜真空型光學系統(tǒng)

　　波長范圍：160-800nm

　　焦距 ：400mm

　　光柵刻線 ：3600條/mm

　　探測器高性能：CCD陣列

　　電極：鎢材噴射電極

　　分析間隙 ：樣品臺分析間隙：4mm

　　光源類型：全新可調(diào)節(jié)數(shù)字化光源，高能預燃技術(HEPS)

　　激發(fā)頻率：100-1000Hz

　　放電電流：400A

　　真空系統(tǒng)：真空軟件自動控制、監(jiān)測