轉(zhuǎn)手二手韓國(guó)2050真空鍍膜光學(xué)機(jī)

韓國(guó)2050光學(xué)機(jī)配置表

機(jī)械泵  英國(guó)愛(ài)德華275

羅茨泵  英國(guó)愛(ài)德華EH2600

擴(kuò)散泵  韓國(guó)雙800

膜厚儀  美國(guó)英?？?span>IC-5

電子槍  日本原裝JEOL雙槍(目前單槍)

離子源  韓國(guó)霍爾源

深冷    韓國(guó)

本裝置是為減反射光學(xué)薄膜的大批量生產(chǎn)而設(shè)計(jì)制作的光學(xué)鍍膜機(jī)。
采用了磁流體密封技術(shù)的中心旋轉(zhuǎn)式基板架，保證了薄膜產(chǎn)品的重復(fù)性與均勻性

優(yōu)化的排氣特性和升溫能力使鍍膜時(shí)間縮短

可以加裝用于對(duì)應(yīng)高精度AR鍍膜的多層膜用可靠的光控儀 (optional)

產(chǎn)品介紹

韓國(guó)2050

· 反應(yīng)性等離子源鍍膜機(jī)

· SDAR 系列

· 器件

· 離子源

· 光學(xué)膜厚監(jiān)控儀

本裝置是為減反射光學(xué)薄膜的大批量生產(chǎn)而設(shè)計(jì)制作的光學(xué)鍍膜機(jī)。

采用了磁流體密封技術(shù)的中心旋轉(zhuǎn)式基板架，保證了薄膜產(chǎn)品的重復(fù)性與均勻性

優(yōu)化的排氣特性和升溫能力使鍍膜時(shí)間縮短

可以加裝用于對(duì)應(yīng)高精度AR鍍膜的多層膜用可靠的光控儀 (optional)

規(guī)格

真空室 SUS304,Ф1800mm×2000mm(H)

基板架 4片式工作架（或Ф1200 mm）

基板架轉(zhuǎn)速 30rpm(可調(diào))

晶振式膜厚計(jì) XTC/3+6點(diǎn)式水晶傳感器

蒸發(fā)源 電子槍1臺(tái) 　

性能

極限真空 7.0 × 10-5 Pa 以下

抽氣速度 10分（大氣壓～3.0×10-3Pa）

基板加熱溫度 350℃

安裝要求

安裝空間 約4500mm(W)×6000mm(D)×3200mm(H)

電力 3相，200V，50/60Hz，約80KVA

水流量 100升/分以上

壓縮空氣壓力 0.5-0.7MPa

重量 約5000kg

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