低頻輸出：低頻高電壓電源

反應腔：Φ100×200mm

經(jīng)濟型、通過等離子化氣體的活性作用對處理對象表面進行改質、清洗。

■ 用途

<清洗>

● 有機膜的去除（油，蠟等有機膜）。

● 電子零件，光學零件和微小部件的清洗、電鍍、涂層前處理。

● 細菌的消毒等（通過氧自由基進行細胞膜的蝕刻或通過紫外線進行消毒）。

<表面改質>

● 高分子材料表面的官能基付與→ 粘合性，密著性提高。通過氧化反應，在表面生成-OH, >C=O, -COOH等官能基（微量的水分及二氧化碳影響）；

● 電子零件，光學零件和微小部件的清洗、電鍍、涂層前處理。

● 細菌的消毒等（通過氧自由基進行細胞膜的蝕刻或通過紫外線進行消毒）。

同樣，氮氣等離子時，表面吸取氮原子生成-NH2官能基。

● 提高各種聚合物的粘結性以及提高醫(yī)科齒科材料的生物相容性等。

● 通過處理培養(yǎng)皿可以在其上均勻涂抹培養(yǎng)基等。

<蝕刻>

● 有機高分子材料的蝕刻。對于有機高分子氧氣成為蝕刻氣體，可以進行抗蝕劑的蝕刻。

● 促進種子發(fā)芽等實驗。

■ 特征

● 經(jīng)濟型等離子清洗機。

● 簡單的等離子處理操作。

● 無需高頻使用申請。

■ 規(guī)格