光刻膠（Photoresist）又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。在光刻工藝過程中，用作抗腐蝕涂層材料。半導體材料在表面加工時，若采用適當?shù)挠羞x擇性的光刻膠，可在表面上得到所需的圖像。光刻膠按其形成的圖像分類有正性、負性兩大類。在光刻膠工藝過程中，涂層曝光、顯影后，曝光部分被溶解，未曝光部分留下來，該涂層材料為正性光刻膠。如果曝光部分被保留下來，而未曝光被溶解，該涂層材料為負性光刻膠。按曝光光源和輻射源的不同，又分為紫外光刻膠（包括紫外正、負性光刻膠）、深紫外光刻膠、X-射線膠、電子束膠、離子束膠等。光刻膠主要應用于顯示面板、集成電路和半導體分立器件等細微圖形加工作業(yè) 。光刻膠生產(chǎn)技術(shù)較為復雜，品種規(guī)格較多，在電子工業(yè)集成電路的制造中，對所使用光刻膠有嚴格的要求。
粘性是指流體內(nèi)部由于內(nèi)摩擦作用而阻礙其相對流動的一種特征，以粘度來表示其大小(作用于1單位面積的內(nèi)摩擦力)，單位是Pa·s。粘度的測定，一般采用旋轉(zhuǎn)粘度計，以在含70%固含量的高嶺土泥漿中的轉(zhuǎn)速來衡量。在生產(chǎn)工藝中，粘度具有重要意義，它不僅是陶瓷工業(yè)的重要參數(shù)，對造紙工業(yè)影響也很大。據(jù)資料表明，國外用高嶺土作涂料，在低速涂布時要求粘度約0.5Pa·s，高速涂布時要求小于1.5Pa·s。
觸變性指已經(jīng)稠化成凝膠狀不再流動的泥漿受力后變?yōu)榱黧w，靜止后又逐漸稠化成原狀的特性。以厚化系數(shù)表示其大小，采用流出粘度計和毛細管粘度計測定。
粘性和觸變性與泥漿中礦物成分，粒度及陽離子類型有關(guān)，MTS含量多的，顆粒細的，交換性陽離子以鈉為主的，其粘度和厚化系數(shù)高。因此工藝上常用添加可塑性強的粘土、提高細度等方法提高其粘性和觸變性，用增加稀釋電解質(zhì)和水分等方法降低之。
ViscoTron偉思創(chuàng)科光刻膠粘度在線分析儀采用扭矩微振蕩原理粘度測定法是經(jīng)由驅(qū)動線圈通電后，激勵橫梁，并且?guī)舆B接在傳感器探頭上的驅(qū)動軸來、回扭動，進而在傳感器探頭表面上產(chǎn)生微振幅的共振剪切波。
工作時，此傳感器*浸入液體后，由于不同的液體具有不同的粘度，因此使得液體和傳感器探頭表面之間，產(chǎn)生不同振幅的相位變化；而此時傳感器振幅共振剪切波，隨著粘度的增大，共振周期會衰減更快；由VT-IRFTx變送器用電測法測量其振幅衰減，將衰減波形放大、整流，運用FFT運算出包絡線的綜合電壓值。變送器將此電壓值的信號，通過FFT轉(zhuǎn)為液體的真實粘度值，并以數(shù)位顯示之。
ViscoTron偉思創(chuàng)科光刻膠粘度在線分析儀
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