產品類型：能量色散X熒光光譜分析儀

產品名稱：光譜分析儀

產品型號：XAU

產品優(yōu)勢：

XAU是一款一機多用型光譜儀，應用了*的EFP算法和微光聚集技術，既保留了專用測厚儀檢測微小樣品和凹槽的膜厚性能，又可滿足成分分析。

被廣泛用于各類產品的質量管控、來料檢驗和對生產工藝控制的測量使用。

1）搭載微聚焦X射線發(fā)生器和*的光路轉換聚焦系統(tǒng)，最小測量面積達0.03mm2

2）擁有無損變焦檢測技術，手動變焦功能，可對各種異形凹槽件進行無損檢測，凹槽深度范圍0-30mm

3）核心EFP算法，可對多層多元素，包括同種元素在不同層都可快、準、穩(wěn)的做出數據分析（釹鐵硼磁鐵上Ni/Cu/Ni/FeNdB，精準檢測層Ni和第三層Ni的厚度）

4）配備高精密微型移動滑軌，可實現多點位、多樣品的精準位移和同時檢測

5）裝配Si-Pin半導體探測器，即便測量0.03mm2以下的樣品，幾秒鐘也可達到穩(wěn)定性

6）涂鍍層分析范圍：鋰Li（3）- 鈾U（92）

7）成分分析范圍：鋁Al（13）- 鈾U（92）

8）人性化封閉軟件，自動判斷故障提示校正及操作步驟，避免誤操作

9）標配4準直器可選，最小測量面積可達0.03mm2

10）配有微光聚集技術，最近測距光斑擴散度小于10%

儀器配置：

1. 微聚焦X射線管：高穩(wěn)定性X射線發(fā)生器

        —鈹窗口，油絕緣，氣冷式，輻射安全電子管屏蔽

        —50kV，1mA，高壓和管流設定為應用程序提供更好的性能

        —符合DIN ISO 3497、DIN 50987和ASTM B 568射線標準，如有特殊要求，也可協商定制

2. 接收器：Si-Pin半導體探測器

        —窗口面積≥25mm2

3. 濾光片：

        標配一種濾光片

4. 光路轉換器

        —φ0.5mm，φ0.3mm，φ0.2mm，￡0.1*0.3mm四準直器可選

5. 定制專享高敏感鏡頭

        —1/2.7”彩冊CCD高敏感可變焦鏡頭，全局快門，有效像素：1280*960，光學38-46X，數字放大40-200倍  

6. 恒壓恒流快門式光閘

    —擁有高壓電源緊急自鎖功能，帶給您更安全的防護

7. 移動平臺

        —手動高精密XY移動滑軌，移動范圍50mm*50mm，精度0.01mm

8. 全新一代高壓電源

—性能穩(wěn)定可靠，高達50W的功率實現更高的測試效率

9. 對流通風式過濾風冷

—*的散熱系統(tǒng)配備，儀器即便全天候開啟，都可保持恒溫恒效

10. 隨附標準片

        —免費提供十二元素片、五選二標準片（ Ni/Cu 2um、Ni/Fe 5um、Au/XX 0.05um、Ag/XX 0.5um、Cr/XX 0.15um）、其他規(guī)格（選配）

11. 其他配置

        —電腦一套、打印機、附件箱、電鍍液測量杯（選配）

技術參數：

1. 成分分析范圍：鋁（Al）- 鈾（U）

2. 成分檢出限：5ppm

3. 涂鍍層分析范圍：鋰（Li）- 鈾（U）

4. 涂鍍層檢出限：0.005μm

5. 最小測量直徑￡0.1*0.3mm（最小測量面積0.03mm2）

    標配：最小測量直徑0.3mm（最小測量面積0.07mm2）

6. 對焦距離：0-30mm

7. 樣品腔尺寸：500mm*360mm*215mm

8. 儀器尺寸：550mm*480mm*470mm

9. 儀器重量：45KG

10. XY軸工作臺移動范圍：50mm*50mm

11. XY軸工作臺承重：5KG

12. 多元迭代EFP核心算法（號：2017SR567637）

專業(yè)的研發(fā)團隊在Alpha和Fp法的基礎上，計算樣品中每個元素的一次熒光、二次熒光、靶材熒光、吸收增強效應、散射背景等多元優(yōu)化迭代開發(fā)出EFP核心算法，結合*的光路轉換技術、變焦結構設計及穩(wěn)定的多道脈沖分析采集系統(tǒng)，只需要少量的標樣來校正儀器因子，可測試重復鍍層、非金屬、輕金屬、多層多元素以及有機物層的厚度及成分含量。

單涂鍍層應用：如Ni/Fe、Ag/Cu等

多涂鍍層應用：如Au/Ni/Fe、Ag/Pb/Zn等

合金鍍層應用：如ZnNi/Fe、ZnAl/Ni/Cu等

合金成分應用：如NiP/Fe，通過EFP算法，在計算鎳磷鍍層厚度的同時，還可精準分析出鎳磷含量比例。

重復鍍層應用：不同層有相同元素，也可精準測量和分析。

如釹鐵硼磁鐵上的Ni/Cu/Ni/FeNdB，層Ni和第三層Ni的厚度均可測量。

儀器參數：