LCD液晶觸摸式面板
操作者可以通過LCD液晶可觸式顯示面板，對儀器主要參數進行設置，并可實時監(jiān)控儀器工作狀態(tài)。

雙活塞泵
的雙活塞往復泵可以讓儀器運行gei加平穩(wěn)，給出理想的運行環(huán)境和檢出效果。

柱溫箱
穩(wěn)定性優(yōu)秀的柱溫箱，可以保證儀器日復一日穩(wěn)定的工作。淋洗液預熱裝置的設計理念，保證了進入色譜柱淋洗液溫度的穩(wěn)定性，而透明的柱溫箱外殼讓操作者無需打開箱體即可觀察色譜柱的工作狀況。

數字型電導檢測器
數字輸出模式的電導檢測器，具有智能化功能，可在0-15000 µS范圍內自動調整量程，以適應復雜基體樣品中，濃差較大被測物的同時分析，分辨率達到0.00238 nS。模擬輸出模式也被該檢測器所兼容。電導檢測器的溫控性能大大改進，以保證檢測器穩(wěn)定性，減少周圍環(huán)境溫度對檢測器的影響。

全自動電解抑制器
全新的ICS-1600離子色譜儀，可以對SRS型和Atlas型抑制器進行操控。連續(xù)自動再生型陰陽離子抑制器，可以避免使用酸或堿進行再生。而電解抑制功能，可以在降低背景電導的同時，提高被測離子的信噪比，提高靈敏度。

漏液檢測和廢液槽
內置光學漏液傳感器和廢液槽為儀器提供快速的泄漏響應和漏液保護。整機接觸淋洗液部分均采用生物惰性的PEEK材料，保護系統(tǒng)免受金屬污染。

電子日志功能
可以對儀器的所有工作狀態(tài)進行實時監(jiān)控、可選配免化學試劑淋洗液在線循環(huán)裝置、RFIC-ER免化學試劑淋洗液在線循環(huán)裝置可以保證連續(xù)28天不更換淋洗液而正常穩(wěn)定工作，在這28天內，使用者不需要更換淋洗液，也不需要重新做標準曲線。自動樣品前處理裝置（RFIC-ESP）選配免化學試劑電解樣品前處理裝置（RFIC -ESP），利用閥切換和電解水原理，可以用于多種基體樣品的不同前處理，簡化實驗過程。

可選配淋洗液自動發(fā)生裝置（RFC-30）
配合淋洗液自動發(fā)生裝置（RFC-30）使用可具有梯度淋洗功能。

RFIC-ER“只進樣”淋洗液在線循環(huán)系統(tǒng)
淋洗液在線循環(huán)裝置（RFIC-ER）是戴安公司推出針對常規(guī)離子檢測的簡化方案。該系統(tǒng)利用電解抑制器將淋洗液再生，這樣就可以使系統(tǒng)連續(xù)運行，降低了淋洗液成本和廢液排放。使用RFIC-ER系統(tǒng)，用戶只需配好一個4L的淋洗液就可以保證連續(xù)28天以上不更換淋洗液而正常穩(wěn)定工作，減輕頻繁配置淋洗液的痛苦，為客戶提供了簡單、易于操作、重現性好、穩(wěn)定可靠的離子色譜系統(tǒng)。

RFIC-ER原理
從抑制器陰極和陽極流出的分別是淋洗液、水、氫氣和氧氣以及樣品中的陰陽離子。RFIC-ER系統(tǒng)將從抑制器出口流出的液體進行在線脫氣、去離子和其它痕量污染物通過純化作為再生的淋洗液可以循環(huán)使用。RFIC-ER系統(tǒng)可以配合碳酸鹽/碳酸氫鹽和甲烷磺酸（MSA）淋洗液使用。RFIC-ER系統(tǒng)一般情況下可以連續(xù)使用4周左右，操作者只需要進行進樣操作即可。Chromeleon工作站可以實時對淋洗液以及捕獲柱和純化柱的使用狀況進行監(jiān)測。RFIC-ER系統(tǒng)適合于檢測簡單基體中的常見陰陽離子，而RFIC-EG則適合于那些需要面對相對比較復雜基體的樣品的客戶或者需要梯度淋洗的客戶。

淋洗液自動發(fā)生器，實現RFIC夢想
只用水的免化學試劑離子色譜技術（Reagent Free Ion Chromatograph RFIC）是為解決科學工作者在進行色譜分析時經常遇到的淋洗液手工配置繁瑣并容易引入手工誤差、淋洗液放置氧化、線性梯度淋洗過程基線漂移、實驗結果重復性差等問題由戴安公司推出的。技術的基本原理是利用水的電解：電解水在線產生淋洗液、電解水產生電導抑制所需的陰陽離子以及電解水完成捕獲柱的在線再生，使得離子色譜的分析工作者只需要準備高純水就可完成全部實驗， RFIC技術進一步節(jié)省分析時間和勞力，降低了儀器的使用費用， 消除了人工配制淋洗液所帶來的誤差，有效地改善了分析的重現性。不同天、不同月和不同實驗室、不同人的分析結果可以非常一致。分析工作者不再需要定期配制淋洗液和再生液，減少了接觸化學試劑的機會，是對實驗室傳統(tǒng)分析方法進行了革命性的改變。淋洗液自動發(fā)生裝置（RFIC-30）可以使ICS-1600型離子色譜升級為免試劑離子色譜RFIC系統(tǒng)，使原有的恒流泵系統(tǒng)可以方便地自動完成多階梯度和一階線線梯度的淋洗。

技術參數：

• 流速范圍：0.00 ~ 5.00 mL/min
• 流量精度： <0.1%
• 壓力波動： <1.0%
• zei大操作壓力：35 MPa(5000psi)
• 抑制器死體積：< 50 µL