關(guān)鍵詞:RIE、RIBE、反應(yīng)離子束刻蝕、CAIEB、化學(xué)輔助離子束刻蝕、
過(guò)渡金屬、磁性材料、MRAM、GMR、TMR、Pt、Cu、TeGe、PZT

型號(hào):MU700S; 產(chǎn)地:歐洲;
應(yīng)用:過(guò)渡金屬, PZT, 磁性材料(MRAM, GMR, TMR), Pt, Cu, TeGe 等;
代表性用戶:法國(guó)科學(xué)研究中心(CNRS)、意法半導(dǎo)體(ST)
RFICP源:束徑可達(dá) 220 mm
采用分子泵或低溫泵+干泵組合真空系統(tǒng)
均勻性:+/- 5% on 290 mm襯底
水冷樣品臺(tái),襯底尺寸可達(dá)直徑300mm
樣品臺(tái)可以傾斜和旋轉(zhuǎn)
配套SIMS用于刻蝕監(jiān)控

配置Load Lock





















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