NIE-3000離子束清洗系統(tǒng)產(chǎn)品概述:該系統(tǒng)為手動(dòng)放片取片,但通過計(jì)算機(jī)全自動(dòng)實(shí)現(xiàn)工藝控制的臺(tái)式離子束刻蝕系統(tǒng),系統(tǒng)具有結(jié)構(gòu)緊湊、功能*、自動(dòng)化程度高、模塊化設(shè)計(jì)易于維護(hù)、低成本的優(yōu)勢(shì)。
NIE-3000離子束清洗系統(tǒng)產(chǎn)品特點(diǎn):
低成本
離子束:高達(dá)2KV/10mA
離子電流密度100-360uA/cm2
離子束直徑:4",5",6"
兼容反應(yīng)及非反應(yīng)氣體(Ar, O2, CF4,Cl2)
極限真空5x10-7Torr
260l/s渦輪分子泵,串接500 l/min干泵
14"不銹鋼或鋁質(zhì)腔體
水冷旋轉(zhuǎn)/傾斜樣品臺(tái)(NIE-3500)
自動(dòng)上下載片(NIE-3500)
基于LabView軟件的PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制
占地面積30"x30"
產(chǎn)品應(yīng)用:
表面處理
離子銑
表面清洗
帶活性氣體的離子束刻蝕: 光柵刻蝕,以及SiO2,Si和金屬的深槽刻蝕






















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