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鏡片反射率測定儀 USPM-RUⅢ

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具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號
  • 品牌
  • 所在地上海
  • 更新時間2022-08-16
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 所在地區(qū)上海
  • 實名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量132
  • 人氣值5369
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上海西努光學(xué)科技有限公司,以下簡稱西努光學(xué)。西努光學(xué)成立于2003年,始終致力于“以光學(xué)為核心,為用戶提供檢測解決方案”為方針,推動智能檢測裝備的轉(zhuǎn)型升級,將顯微光學(xué)成像以及圖像算法應(yīng)用于檢測技術(shù)的科技創(chuàng)新公司。 公司專注服務(wù)于工業(yè)領(lǐng)域客戶,通過顯微光學(xué)成像、圖像算法及實驗方案應(yīng)用技術(shù)和產(chǎn)品幫助工業(yè)企業(yè)實現(xiàn)數(shù)字化、智能化檢測發(fā)展。公司主要為用戶提供檢測技術(shù)方案及檢測裝備。產(chǎn)品功能涵蓋尺寸及缺陷檢測、智能制造、實驗室理化解決方案等工業(yè)領(lǐng)域多個環(huán)節(jié)。 經(jīng)過十余年的深耕與積累,公司累計服務(wù)2000多家客戶,積累了大量的行業(yè)經(jīng)驗,并確保了前沿的顯微光學(xué)與檢測實際場景的深度融合。公司主要客戶群體涵蓋了微電子行業(yè)、汽車零件行業(yè)、智能裝備等工業(yè)領(lǐng)域。 西努光學(xué)以科技創(chuàng)新為公司發(fā)展的原動力,以顯微光學(xué)成像、圖像算法為核心技術(shù),緊密圍繞企業(yè)的檢測需求,通過持續(xù)科技創(chuàng)新,為用戶提供*的工業(yè)檢測設(shè)備及應(yīng)用方案。西努光學(xué) 誠信為您服務(wù) 專業(yè)為您服務(wù)基本價值觀:1、西努光學(xué)秉持“以光學(xué)為核心,為客戶提供解決方案”的經(jīng)營方針,致力于光學(xué)檢測與應(yīng)用水平的提升。2、西努光學(xué)以誠信、專業(yè)、服務(wù)為基本價值觀和追求,以實現(xiàn)客戶-西努、供應(yīng)商-西努光學(xué)、合作伙伴-西努、員工-西努雙贏為目標(biāo)。3、西努光學(xué)認(rèn)為員工是西努寶貴的財富,是構(gòu)成西努價值和競爭力的核心;西努光學(xué)將根據(jù)自身條件不遺余力地為員工職業(yè)發(fā)展、事業(yè)發(fā)展和家庭幸福做出*大努力。4、公平、公正、坦誠是西努人事制度的價值基礎(chǔ);友愛互助、團(tuán)隊協(xié)作是西努特別重視的品質(zhì);勤勉、敬業(yè)、精益求精是西努特別強調(diào)的職業(yè)精神。5、誠信守約是西努基本行為準(zhǔn)則。西努堅決反對和抵制一切欺詐、不守信諾的行為;無論這種行為基于何種理由。6、可持續(xù)發(fā)展、效益穩(wěn)定增長、效率穩(wěn)步提升是西努戰(zhàn)略制定的基本準(zhǔn)則和依據(jù)。7、技術(shù)和服務(wù)是西努能夠成為光學(xué)解決方案提供商的關(guān)鍵,西努光學(xué)確保技術(shù)提升、客戶滿意度提升方面的投入能夠隨利潤的增長而增長。
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鏡片反射率測定儀 USPM-RUⅢ
鏡片反射率測定儀 USPM-RUⅢ 產(chǎn)品詳情

適合測量曲面反射率、鍍膜評價、微小部品的反射率測定系統(tǒng)



USPM-RU III反射儀可**測量當(dāng)前分光儀無法測量的微小、薄樣本的光譜反射率,不會與樣本背面的反射光產(chǎn)生干涉。



USPM-RUⅢ鏡片反射率測定儀的特點:


◆消除背面反射光
采用特殊光學(xué)系,消除背面反射光。不必進(jìn)行背面的防反射處理,可正確測定表面的反射率。

◆可測定微小領(lǐng)域的反射率
用對物鏡對焦于小區(qū)域(φ60μm),可測定鏡片曲面以及鍍膜層斑點。

◆測定時間短
使用Flat Field Grating(平面光柵)和線傳感器的高速分光測定,可迅速實現(xiàn)再現(xiàn)性很高的測定。

◆XY色度圖、L*a*b測定可能
以分光測定法為基準(zhǔn),從分光反射率情況可測定物體顏色。

◆可測定的Hard Coat(高強度鍍膜)膜厚
用于涉光分光法,可以不接觸、不破壞地測定被測物的膜厚(單層膜)。



USPM-RUⅢ鏡片反射率測定儀主要用途:

1、各種透鏡(眼鏡透鏡、光讀取透鏡等)

2、反射鏡、棱鏡以及其他鍍膜部品等的分光反射率、膜厚測定(單層膜)

USPM-RUⅢ鏡片反射率測定儀規(guī)格:

測定波長380 nm~780 nm
測定方法與參照樣本的比較測定
被檢物N.A.0.12(使用10×物鏡時) 
0.24(使用20×物鏡時) 
* 與物鏡的N.A.不同。
被檢物W.D.10.1 mm(使用10×物鏡時) 
3.1 mm(使用20×物鏡時)
被檢物的曲率半徑-1R ~-∞、+1R~∞
被檢物的測定范圍約?60 μm(使用10×物鏡時) 
約?30 μm(使用20×物鏡時)
測定再現(xiàn)性(2σ)±0.1%(380 nm~410 nm測定時) 
±0.01%(410 nm~700 nm測定時)
顯示分辨率1 nm
測定時間數(shù)秒~十幾秒(因取樣時間而異)
光源規(guī)格鹵素?zé)簟?2 V 100 W
載物臺Z方向驅(qū)動范圍85mm
PC接口USB方式
裝置重量機身:約20 kg(PC、打印機除外) 
光源用電源:約3 kg 
控制器盒:約8 kg
裝置尺寸機身: 
300(W)×550(D)×570(H) mm 
光源用電源: 
150(W)×250(D)×140(H) mm 
控制器盒: 
220(W)×250(D)×140(H) mm
電源規(guī)格光源用電源: 
100 V(2.8 A)/220 V AC 
控制器盒: 
100V(0.2A)/220V AC
使用環(huán)境水平且無振動的地方 
溫度: 23±5 °C 
濕度: 60%以下、無結(jié)露

* 本裝置不保證溯源體系中的優(yōu)良精度。 
* 可以特別訂做測定波長440 nm~840 nm規(guī)格。

關(guān)鍵詞:打印機
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