• 基于微電腦控制技術,集滴定分析,磁力攪拌和電極測量于一體
• 性能優(yōu)良操作簡單,可直接顯示測量結果
• 人性化設計,具有穩(wěn)定標識和校準信息等顯示功能
• 殘留二氧化硫濃度取決于三個因素:總添加量,原初始量,添加的氧化程度
• 通常殘留二氧化硫濃度為0.8ppm即可保證抗氧化和凈化雜菌的作用
• 當殘留濃度超過2.0ppm時,即被人感知到,因此以此濃度作為上限值。
型號 HI 84100
滴定范圍 0 to 400 ppm of SO2
滴定方法 等電位氧化還原滴定法
滴定精度 讀數(shù)的5%
取樣量 50 mL
ORP電極 HI 3148B
供電方式 220V/60 Hz;10VA
使用環(huán)境 0 to 50°C (32 to 122°F);RH max 95%
尺寸重量 208 × 214 × 163 mm;2200 g




































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