矽碁超高真空磁控濺射鍍膜機(jī)采用國際UHV配件及金屬密封件,本底真空可達(dá)到10-9 ~ 10-10 Torr量級。在超高真空環(huán)境下制備出的薄膜材料含氧量低、晶粒性更為明顯,廣泛適用于超導(dǎo)結(jié)、量子器件和自旋電子學(xué)的研究開發(fā)。
技術(shù)參數(shù):
1 本底真空可達(dá)10-9 ~ 10-10 Torr;
2 單基片設(shè)計(jì),尺寸可定制;
3 基片可旋轉(zhuǎn)并加熱:300℃/500℃/800℃;
4 最多可拓展8支磁控濺射靶槍,共濺射;
5 靶槍角度可調(diào),濺鍍距離可調(diào),可升級強(qiáng)磁靶;
6 防交叉污染隔板設(shè)計(jì);
7 可配備離子束輔助沉積;
8 可配備樣品預(yù)清洗功能;
9 可配備快速進(jìn)樣室;
10 可配備自動(dòng)壓力控制系統(tǒng);































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