EVO系列鎢燈絲掃描電子顯微鏡 EVO 18

EVO® 18，具有處理所有類型 材料能力的分析顯微鏡為您 提供的成像質量。
標配能譜儀（EDS）和波譜儀（WDS）接口，的 X 射線幾何條件對所 有樣品提供了確的分析。對于非導體采用電子束襯管技術也提高了圖像質量和分析精度。可選擇 LaB6 高亮度光源，在與 X 射線分析相適應的探針 電流的性能上提高到一個新 的水平。在 8.5 mm 的分析工作距離，EVO® 18 能夠處理的 樣品可達 250 mm 直徑和 145mm 高。此外，共面的設計為 EBSD 與 EDS 的聯合使用提 供了理想的幾何條件。無論何時對于你的材料分析的挑戰(zhàn)，EVO® 18 都能使你的 樣品清晰可見。

● 配備 X 射線能譜儀并具有的 X 射線分析幾何條件

● 使用可變壓力工作模式進行 樣品的電荷中和

● 大的樣品臺移動范圍

● 電子束襯管用于增強成像與 分析

● 用可選的 LaB6 電子源進行高性能成像

EVO® 18-圓滿的材料分析解決方案
解決方案提供商卡爾•蔡司的納米技術系統(tǒng)部采用的 電子顯微鏡技術為用戶提供全面的解決方 案。公司廣闊的專業(yè)技術，在電子束技術領 域中進行了超過 60 年的一絲不茍的努力， 對市場已經產生了很多開拓性的創(chuàng)新。我們 的應用與服務網絡保證對用戶的需求 提供快速、可靠與高質量的技術支持。與專 有的升級戰(zhàn)略相結合，這將保護你的投資用 于它的整個壽命。這個核心技術嵌入我們新 研發(fā)的產品中，使我們能夠提供為我們用戶 的事業(yè)增值的解決方案。

技術參數：

成像方案:  導體 非導體 氣體析出樣品

分辨率:   3.0 nm @ 30 kV (SE 與 W)
                10 nm @ 3 kV (SE 高真空 )
                4.0 nm @ 30 kV (VP 模式 - BSD 或 SE)

加速電壓：0.2 - 30 kV 10V連續(xù)可調

放大倍數:  5 - 1,000,000 x

視野:          6 mm 在分析工作距離(AWD)

X 射線分析:  8.5 mm AWD，35°出射角

OptiBeam®*模式:  分辨率、景深、分析、大視場、魚眼

壓力范圍:  10 - 400 Pa 用空氣或可選的水蒸汽

可選探測器:  ZEISS BSD 用于所有模式- 四象限半導體二極管探測器 
                       VPSE - 可變壓力二次電子探測器
                       SCD - 樣品電流探測器

樣品室尺寸:  365 mm (Φ) x 255 mm (h)

5 軸電動計算機對中樣品臺:  X = 125 mm
                                                  Y = 125 mm
                                                  Z = 50 mm 
                                                  樣品高度 145 mm
                                                  T = -10 - 90°
                                                  R = 360°(連續(xù))
                                                  樣品臺由鼠標、操縱桿和控制板控制

未來保證升級途徑:  電子束襯管 
                                   擴展壓力
                                   水蒸汽 VP 氣體

圖像處理:  分辨率可達 3024 x 2304 像素 用疊加和平均方式進行信號采集

圖像顯示:  高對比度彩色平板 TFT 顯示器用于以 1024 x 768 像素顯示 SEM 圖像

系統(tǒng)控制:  用鼠標和鍵盤操作的 SmartSEM™** GUI多語言簡明的 Windows® 7 操作系統(tǒng)

實用要求:  100 – 230 V, 50 或 60Hz 單相 不需要水冷

OptiBeam®* — 以主動式鏡筒控制實現分辨率、視野或者景深

SmartSEM™** — 第五代掃描電鏡控制圖形用戶界面