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上海伯東代理超高真空磁控濺鍍設備

參考價
¥1000000-¥10000000
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 型號
  • 品牌其他品牌
  • 所在地上海市
  • 更新時間2025-10-25
  • 廠商性質(zhì)代理商
  • 所在地區(qū)上海市
  • 實名認證已認證
  • 產(chǎn)品數(shù)量200
  • 人氣值10150
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         位于中國上海浦東外高橋保稅區(qū)的伯東企業(yè)(上海)有限公司創(chuàng)建于1995年12月,, 是日本伯東株式會社獨資設立的外商投資企業(yè),公司注冊資金為200萬美元,到目前為止公司從業(yè)員工有400多人。
         伯東企業(yè)(上海)有限公司真空產(chǎn)品事業(yè)部()專業(yè)銷售及維修德國Pfeiffer單雙級旋片泵,干泵,羅茨泵,分子泵;應用于各種條件下的真空測量(真空計, 真空規(guī)管);檢漏儀,質(zhì)譜儀,真空系統(tǒng)等等, 維修技術(shù)力量雄厚,保證 100 % 擁有標準的德國Pfeiffer原廠測試設備及調(diào)整工具和德國Pfeiffer專業(yè)培訓工程師,多年來致力于真空系統(tǒng)的安裝、調(diào)試、維修、拆機、保養(yǎng)等,具有優(yōu)良的專業(yè)技能和服務意識,并獲得原廠*維修資質(zhì)證書。利用 Pfeiffer 進口檢測設備對維修后的產(chǎn)品做*性能測試。

          另外公司還是美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 德國 普發(fā) Pfeiffer  真空設備, 美國  KRI 考夫曼離子源, 日本  NS 離子蝕刻機, 美國  HVA 真空閥門, 美國  Gel-pak 芯片包裝盒,比利時Europlasma 等離子表面處理機 , 日本  Atonarp過程質(zhì)譜儀  和  美國 Ambrell 感應加熱設備 等進口品牌的指定代理商 .我們真誠期待與您的合作!



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產(chǎn)地進口 加工定制是 適用領(lǐng)域其他
上海伯東代理超高真空磁控濺鍍設備 UHV Sputter 廣泛應用于半導體, 納米科技, 太陽能電池,科研等行業(yè), 氧化物, 氮化物和金屬材料的研究等.
上海伯東代理超高真空磁控濺鍍設備 產(chǎn)品詳情

因產(chǎn)品配置不同, 價格貨期需要電議, 圖片僅供參考, 一切以實際成交合同為準

超高真空磁控濺鍍設備 UHV Sputter

超高真空磁控濺鍍設備 UHV Sputter
超高真空環(huán)境的特征為其真空壓力低于 10-8 至 10-12托, 超高真空環(huán)境對于科學研究非常重要, 因?qū)嶒炌ǔR笤谡麄€過程中, 表面應保持無污染狀態(tài)并可使用較低能量的電子和離子的實驗技術(shù)使用, 而不會受到氣相散射的干擾并可以在這樣超高真空環(huán)境下使用濺鍍系統(tǒng)以提供高質(zhì)量的薄膜.

上海伯東代理超高真空磁控濺鍍設備 UHV Sputter 廣泛應用于半導體, 納米科技, 太陽能電池,科研等行業(yè), 氧化物, 氮化物和金屬材料的研究等.

上海伯東超高真空磁控濺鍍設備配置和優(yōu)點
客制化基板尺寸, z大直徑可達12寸晶圓
薄膜均勻度小于±3%
磁控濺鍍源 (最多8個源), 具有多種可選的靶材尺寸
具有順序操作或共沉積的多個濺鍍源
射頻, 直流或脈沖直流, 分別用于非導電與導電靶材
流量控制器 (最多4條氣體管線)
基板可加熱到 1000°C
基材到靶材之間距為可調(diào)節(jié)的
每個濺鍍源和基板均安裝遮板

超高真空磁控濺鍍設備 UHV Sputter

上海伯東代理超高真空磁控濺鍍設備針對超高真空和高溫加熱設計的基板旋轉(zhuǎn)鍍膜機構(gòu), 使用陶瓷培林旋轉(zhuǎn), 并在內(nèi)部做水冷, 來保護機構(gòu)以確保長時間運轉(zhuǎn)的穩(wěn)定.

超高真空磁控濺鍍設備 UHV Sputter


磁控濺鍍設備基本參數(shù)

系統(tǒng)類型

Real 超高真空

超高真空

高真空

緊湊型高真空

極限真空

5X10-10 Torr

5X10-9 Torr

3X10-7 Torr

5X10-7 Torr

腔室密封

全部 CF(烘烤)

一些密封圈(烘烤)

全部密封圈

全部密封圈

電子槍

3-4, 2-3 英寸

3-4, 2-4 英寸

3-4, 2-4 英寸

3-4, 2-3 英寸

電源

DC / DC pulse / RF

DC / DC pulse / RF

DC / DC pulse / RF

DC / DC pulse / RF

Load-lock

標準(HV)

標準(HV)

標準(HV)/可選

標準(HV)/可選

基板

4-6 英寸
加熱至 800°C或水冷

4-8 英寸
加熱至 800°C或水冷

4-8 英寸
加熱至 800°C

4-6 英寸
加熱至 800°C

真空泵

低溫泵

低溫泵 / 分子泵

分子泵

分子泵

監(jiān)控

真空規(guī)和Baratron

真空規(guī)和Baratron

真空規(guī)和Baratron

真空規(guī)和Baratron

工藝控制

部分 / 3位 /手動閘閥

部分 / 3位 /手動閘閥

部分 / 3位 /手動閘閥

部分 / 3位 /手動閘閥

氣體

氬氣, 氮氣, 氧氣(load-lock可選)

氬氣, 氮氣, 氧氣(load-lock可選)

氬氣, 氮氣, 氧氣

氬氣, 氮氣, 氧氣

射頻偏壓清潔

300W RF(清潔和蝕刻)

300W RF(清潔和蝕刻)

可選

可選

離子源

100 KRi 離子源

100 KRi 離子源

可選

可選

薄膜

鈦氮化鈮NbTiN, 鈮 Nb, 鈀Pd等

鈦氮化鈮NbTiN, 鈮 Nb, 鈀Pd等

二氧化硅 SiO2, 氮化硅 Si3N4, 氧化鋁Al2O3 等

二氧化硅 SiO2, 氮化硅 Si3N4, 氧化鋁Al2O3 等

磁控濺鍍設備 Sputter

腔體
客制化的腔體尺寸取決于基板尺寸和其應用
腔體為使用金屬密封圈并可烘烤至 150 oC
具有顯示功能的全量程真空計和用于壓力控制的 Baratron 真空計
腔體的極限真空度約10-10 Torr

選件
可以與傳送腔, 機械手臂和手套箱整合在一起
結(jié)合離子源, 熱蒸發(fā)源, 電子束...
基板可用射頻或直流偏壓
膜厚監(jiān)測儀
射頻等離子清潔用于基材
OES, RGA 或制程監(jiān)控的額外備用端口

應用領(lǐng)域
半導體類, 納米科技
產(chǎn)品質(zhì)量控制和質(zhì)量檢查
氧化物, 氮化物和金屬材料的研究
太陽能電池
光學研究, 材料研究

若您需要進一步的了解上海伯東磁控濺射鍍膜機, 請參考以下聯(lián)絡方式
上海伯東: 羅先生        


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