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公司介紹主營產(chǎn)品

位于中國上海浦東外高橋保稅區(qū)的伯東企業(yè)（上海）有限公司創(chuàng)建于1995年12月，, 是日本伯東株式會社獨資設(shè)立的外商投資企業(yè)，公司注冊資金為200萬美元，到目前為止公司從業(yè)員工有400多人。
伯東企業(yè)（上海）有限公司真空產(chǎn)品事業(yè)部()專業(yè)銷售及維修德國Pfeiffer單雙級旋片泵，干泵，羅茨泵，分子泵；應(yīng)用于各種條件下的真空測量(真空計, 真空規(guī)管)；檢漏儀，質(zhì)譜儀，真空系統(tǒng)等等, 維修技術(shù)力量雄厚，保證 100 % 擁有標(biāo)準(zhǔn)的德國Pfeiffer原廠測試設(shè)備及調(diào)整工具和德國Pfeiffer專業(yè)培訓(xùn)工程師，多年來致力于真空系統(tǒng)的安裝、調(diào)試、維修、拆機、保養(yǎng)等，具有優(yōu)良的專業(yè)技能和服務(wù)意識，并獲得原廠*維修資質(zhì)證書。利用 Pfeiffer 進口檢測設(shè)備對維修后的產(chǎn)品做*性能測試。

另外公司還是美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 德國普發(fā) Pfeiffer 真空設(shè)備, 美國 KRI 考夫曼離子源, 日本 NS 離子蝕刻機, 美國 HVA 真空閥門, 美國 Gel-pak 芯片包裝盒,比利時Europlasma 等離子表面處理機 , 日本 Atonarp過程質(zhì)譜儀和美國 Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備等進口品牌的指定代理商 .我們真誠期待與您的合作!

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產(chǎn)品簡介在線詢價

產(chǎn)地	進口	加工定制	是	適用領(lǐng)域	其他

上海伯東代理多層膜磁控濺鍍設(shè)備 Multilayer sputter 擁有基板公自轉(zhuǎn)機構(gòu), 搭配美國 KRI 離子源可實現(xiàn)多層膜結(jié)構(gòu)并可以一次批量生產(chǎn), 廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體, 納米科技, 太陽能電池, 科研等行業(yè), 氧化物, 氮化物和金屬材料的研究等.

上海伯東多層膜磁控濺鍍設(shè)備產(chǎn)品詳情

因產(chǎn)品配置不同, 價格貨期需要電議, 圖片僅供參考, 一切以實際成交合同為準(zhǔn)

多層膜磁控濺鍍設(shè)備 Multilayer Sputter

多層膜磁控濺鍍設(shè)備 Multilayer sputter
多層膜的結(jié)構(gòu)廣泛用于各個領(lǐng)域. 在單一材料薄膜無法滿足所需規(guī)格的精密系統(tǒng)中, 高質(zhì)量多層膜的作用至關(guān)重要. 因此, 新材料的開發(fā)和薄膜的準(zhǔn)確控制制程已成為當(dāng)前多層薄膜研究的重要方向. 上海伯東代理多層膜磁控濺鍍設(shè)備 Multilayer sputter 擁有基板公自轉(zhuǎn)機構(gòu), 搭配美國 KRI 離子源可實現(xiàn)多層膜結(jié)構(gòu)并可以一次批量生產(chǎn), 廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體, 納米科技, 太陽能電池, 科研等行業(yè), 氧化物, 氮化物和金屬材料的研究等.

上海伯東多層膜磁控濺鍍設(shè)備配置和優(yōu)點
客制化基板尺寸, z大直徑可達 12寸晶圓
薄膜均勻度小于 ±3％
磁控濺鍍源（最多6個源）, 靶材尺寸多種可選
射頻, 直流或脈沖直流, 分別用于非導(dǎo)電, 導(dǎo)電靶材
具有順序操作或共沉積的多個濺鍍源
流量控制器（最多4條氣體管線）
基板可加熱到 600°C
基材到靶材的間距可調(diào)節(jié)
每個濺鍍源和基板均安裝遮板
多層膜磁控濺鍍設(shè)備
載臺可公自轉(zhuǎn)或定在靶材位置自轉(zhuǎn)

磁控濺鍍設(shè)備基本參數(shù)

系統(tǒng)類型	Real 超高真空	超高真空	高真空	緊湊型高真空
極限真空	5X10^-10Torr	5X10^-9Torr	3X10^-7Torr	5X10^-7Torr
腔室密封	全部 CF(烘烤)	一些密封圈(烘烤)	全部密封圈	全部密封圈
電子槍	3-4, 2-3 英寸	3-4, 2-4 英寸	3-4, 2-4 英寸	3-4, 2-3 英寸
電源	DC / DC pulse / RF	DC / DC pulse / RF	DC / DC pulse / RF	DC / DC pulse / RF
Load-lock	標(biāo)準(zhǔn)(HV)	標(biāo)準(zhǔn)(HV)	標(biāo)準(zhǔn)(HV)/可選	標(biāo)準(zhǔn)(HV)/可選
基板	4-6 英寸加熱至 800°C或水冷	4-8 英寸加熱至 800°C或水冷	4-8 英寸加熱至 800°C	4-6 英寸加熱至 800°C
真空泵	低溫泵	低溫泵 / 分子泵	分子泵	分子泵
監(jiān)控	真空規(guī)和Baratron	真空規(guī)和Baratron	真空規(guī)和Baratron	真空規(guī)和Baratron
工藝控制	部分 / 3位 /手動閘閥	部分 / 3位 /手動閘閥	部分 / 3位 /手動閘閥	部分 / 3位 /手動閘閥
氣體	氬氣, 氮氣, 氧氣(load-lock可選)	氬氣, 氮氣, 氧氣(load-lock可選)	氬氣, 氮氣, 氧氣	氬氣, 氮氣, 氧氣
射頻偏壓清潔	300W RF(清潔和蝕刻)	300W RF(清潔和蝕刻)	可選	可選
離子源	100 KRi 離子源	100 KRi 離子源	可選	可選
薄膜	鈦氮化鈮NbTiN, 鈮 Nb, 鈀Pd等	鈦氮化鈮NbTiN, 鈮 Nb, 鈀Pd等	二氧化硅 SiO2, 氮化硅 Si3N4, 氧化鋁Al2O3 等	二氧化硅 SiO2, 氮化硅 Si3N4, 氧化鋁Al2O3 等

磁控濺鍍設(shè)備 Sputter

腔體
客制化的腔體尺寸取決于基板尺寸和其應(yīng)用
寬大的前開式門, 并有兩個窗口和窗口遮版用于觀察基材和濺鍍源
具有顯示功能的全量程真空計和用于壓力控制的 Baratron 真空計
腔體的極限真空度約 10^-8 Torr

選件
可以與傳送腔, 機械手臂和手套箱整合在一起
結(jié)合離子源, 熱蒸發(fā)源, 電子束...
基板可用射頻或直流偏壓
膜厚監(jiān)測儀
射頻等離子清潔用于基材
OES, RGA 或制程監(jiān)控的額外備用端口

應(yīng)用領(lǐng)域
半導(dǎo)體類, 納米科技
產(chǎn)品質(zhì)量控制和質(zhì)量檢查
氧化物, 氮化物和金屬材料的研究
太陽能電池
光學(xué)研究, 材料研究

若您需要進一步的了解上海伯東磁控濺射鍍膜機, 請參考以下聯(lián)絡(luò)方式
上海伯東: 羅先生

關(guān)鍵詞：流量控制器標(biāo)準(zhǔn) 真空泵機械手手套箱

熱門產(chǎn)品

產(chǎn)品名稱	參考價	地區(qū)	公司名稱	更新時間
sheen 自動涂膜機	面議		軻潤實驗器材（上海）有限公司	2025-11-30	在線詢價
激光雕刻煙霧凈化器切割亞克力除煙除味機	￥12500	深圳市	深圳市邁思赫環(huán)保科技有限公司	2025-10-16	在線詢價
浸漬提拉鍍膜機垂直提拉機	面議	北京市	北京亞歐德鵬科技有限公司	2025-08-25	在線詢價
德國SPS-POLOS旋涂機SPIN200i	面議	北京市	北京漢達森機械技術(shù)有限公司	2025-07-15	在線詢價
提拉涂膜機	面議	北京市	北京西潤斯儀器儀表有限公司	2024-05-11	在線詢價
浸漬提拉鍍膜涂膜提拉機提拉涂膜機	面議	北京市	北京愛歐德儀器設(shè)備有限公司	2017-04-20	在線詢價

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