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暗場高光譜顯微成像系統(tǒng)

暗場高光譜顯微成像系統(tǒng) 產品詳情

IMA™高光譜顯微成像系統(tǒng)，400~1620nm，光學分辨率<2nm

加拿大Photon ect生產的 IMA™高光譜成像顯微鏡可提供400 nm~1620 nm范圍內的光譜和空間信息, 光學分辨率<2nm，這種高光譜顯微鏡搭配高效率的分析系統(tǒng)，可快速繪制光致發(fā)光、電致發(fā)光、熒光等圖像，顯示反射率和透射率等參數，是一種高效率的400~1620nm熒光高光譜成像系統(tǒng)和暗場高光譜顯微成像系統(tǒng)。

IMA™高光譜顯微成像系統(tǒng)可以用于多路復用系統(tǒng)，如下圖所示，透明玻璃上的碳納米管顯示出17種假色圖樣，分別對應17種不同的波長。

IMA納米高光譜顯微成像系統(tǒng)可以不均勻材質的缺陷識別。左下圖代表了鈣鈦礦分子用C60作為電子傳輸層，C60電致發(fā)光分裂衍生的準費米能級的映射；右下圖代表了當前傳輸效率的映射。

Photon ect的高光譜暗場顯微鏡可進行樣品生長和降解的研究。例如下圖表示鈣鈦礦晶體的光致發(fā)光中心波長在770nm的黑白和假色圖，以及分別對應的高光譜數據。

IMA高光譜成像儀可用于細胞標記。如下A圖代表60nm的金納米顆粒標記的人類乳腺癌細胞的暗場圖像，B圖代表60nm的金納米顆粒標記的人類乳腺癌細胞在550nm處的圖像，C圖代表乳腺癌細胞的圖像，D圖代表金納米顆粒在不同區(qū)域的光譜。

加拿大Photon ect的IMA高光譜暗場顯微鏡規(guī)格：

	VIS-SWIR型號 400~1620nm
光學規(guī)格	VIS 400~1000nm	SWIR 900~1620nm
光學分辨率（FWHM）	< 2 nm	< 4 nm
光譜通道	連續(xù)可調
空間分辨率	亞微米（受顯微鏡物鏡限制）
相機	CCD，EMCCD，sCMOS	Photon ec公司的InGaAs相機（ZephIR™1.7或Alize™1.7）
激發(fā)波長（高達3個）	405，447，532，561，660，730，785，808nm（其他波長可定制）
顯微鏡特點	科研級別的產品，可正放或倒放
波長分辨率精度	FWHM/8
掃描速度	單波長150 ms
XY方向的行程	76mm×52mm（搭配手動臺）
Z軸分辨率	100nm
白光照明	透射、反射，汞、鹵素
照明選項	熒光模式，暗場模式（有性或干性）
視頻模式	百萬像素攝像頭，且樣品可視化
數據處理	空間濾波，數據統(tǒng)計，光譜提取，數據歸一化，光譜標定，光譜疊加，中心位置圖
高光譜數據格式	HDF5，FITS
軟件配置	電腦（Windows 10-64 bits）,PHySpec™控制分析軟件（含電腦）
尺寸	≈150cm×85cm×82cm
重量	≈80kg
電源配置	120VAC/12A/60Hz、230VAC/12A/50Hz
附件及可選項	物鏡放大率	10×，20×，40×，50×，60×，100×
	光譜范圍延伸	例如UV選項中FWHM=10nm
	電動臺	行程100mm×100mm，分辨率22nm
	濾光輪	6個帶通濾波器
	電致發(fā)光模塊
	第二個相機接口
	光度校準
	高分辨率模塊：900nm~1620nm（FWHM<1 nm）
	光學臺建議搭配氣升式防震臺； 900mm×1800mm×60mm（36''×72''×2.4''）或 900mm×900mm×60mm（36''×36''×2.4''）光學臺緊挨著標準的900mm×900mm×60mm（36''×36''×2.4''）光學臺

Photon ect的IMA高光譜顯微成像系統(tǒng)特點和優(yōu)點：

-圍包含可見光、近紅外、短波長紅外范圍（400~1620nm）

-快速繪制光致發(fā)光、電致發(fā)光、熒光成像圖像，顯示反射率、透過率參數

-系統(tǒng)更高效

IMA高光譜成像顯微鏡應用：

-生物化學和納米傳感器（單壁碳納米管的多路復用或近紅外染料或熒光）

-金納米粒子暗場成像

-鈣鈦礦（CIS）、銅銦鎵硒（CIGS）、硅（Si）、碳化硅（SiC）等光譜和空間分析

-同側光譜分析

- GaAs準費米能級映射

關鍵詞：顯微鏡防震臺標準

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