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公司介紹主營產(chǎn)品

深圳維爾克斯光電有限公司是國內(nèi)的進(jìn)口光電代理商，代理*的激光、光電、光機(jī)械類產(chǎn)品，應(yīng)用涵蓋物理與光學(xué)、化學(xué)、材料、生命科學(xué)等領(lǐng)域。我們與國內(nèi)各大高校、研究所、激光設(shè)備公司和及精密儀器公司保持著緊密的聯(lián)系，提供針對不同應(yīng)用的專業(yè)技術(shù)支持。維爾克斯光電在衍射光學(xué)、微光學(xué)、太赫茲元件、*、光束分析儀、太陽光模擬器、顯微鏡載物臺、紅外熱像儀、電控平移臺、紅外探測器、光學(xué)儀器等領(lǐng)域具有多年的產(chǎn)品和技術(shù)積累，能夠為用戶提供各種高性價比的解決方案。

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產(chǎn)品簡介在線詢價

Ce:YAG，Ce:YAP，Ce:LYSO 晶體可以吸收伽馬射線或中子等高能輻射，并將該能量轉(zhuǎn)化為可見光子的短脈沖。立陶宛optogama可以提供此類閃爍晶體，有著機(jī)械阻力和穩(wěn)定性，良好的導(dǎo)熱性，衰減時間快，不吸濕等特點(diǎn)

Ce:YAG，Ce:YAP，Ce:LYSO 晶體產(chǎn)品詳情

optogama閃爍晶體，衰減時間快，穩(wěn)定性高

optogama 提供高質(zhì)量的閃爍晶體，可吸收伽馬射線或中子等高能輻射，并將該能量轉(zhuǎn)化為可見光子的短脈沖。這些晶體具有密度高、運(yùn)行速度快、輻射硬度大、性價比高等特點(diǎn)。閃爍晶體可用于科研、醫(yī)療和工業(yè)應(yīng)用，可根據(jù)要求提供定制解決方案。

此外，閃爍晶體的訂貨數(shù)量是2件。

Ce:LYSO 晶體

Lu?SiO?: Ce是一種相對較新的閃爍晶體，因其速度快、機(jī)械強(qiáng)度高和耐化學(xué)性好而聞名。

主要特點(diǎn)：

衰減時間快，光輸出高，機(jī)械阻力和穩(wěn)定性，高密度和抗輻射硬度

應(yīng)用：

斷層掃描系統(tǒng) (PET)，醫(yī)療XCT，高能物理，輻射探測器，石油測井，安全掃描，伽馬光譜

光譜和熱機(jī)械性能：

密度（g/cm 3）	7.2
熔點(diǎn) (°C)	2050
硬度（莫氏）	5.8
衰減時間 (ns)	64
有效原子序數(shù)	40-45
發(fā)射峰(nm)	420
光產(chǎn)率（光子/MeV）	29000
光輸出（至 NaI: Tl）	~85%
折射率	1.82
吸濕性	無

參數(shù)規(guī)格：

尺寸	陣列	長度	鍍膜	面尺寸公差	長度公差	SKU
4x4 mm	16	/	無	+/-0.15	+/-0.15	19587
8 x 8 mm	64	/	無	+/-0.15	+/-0.15	19588
16 x16 mm	256	/	無	+/-0.15	+/-0.15	19589

Ce:YAG 晶體

Ce:YAG晶體具有優(yōu)異的機(jī)械性能和耐化學(xué)性，可用于環(huán)境的檢測，并能用薄型屏幕進(jìn)行生產(chǎn)。它還具有很高的發(fā)光效率，其峰值發(fā)射（550nm）可以與硅光電二極管探測器器件有效耦合。

主要特點(diǎn)

機(jī)械阻力和穩(wěn)定性，良好的導(dǎo)熱性，衰減時間快，不吸濕

應(yīng)用：

低能輻射和阿爾法粒子檢測，電子和X射線成像屏幕，β和X射線計數(shù)

光譜和熱機(jī)械性能：

密度（g/cm 3）	4.56
熔點(diǎn) (°C)	1970
硬度（莫氏）	8.5
衰減時間 (ns)	70
有效原子序數(shù)	32
發(fā)射峰(nm)	550
光產(chǎn)率（光子/MeV）	15000
光輸出（至 NaI: Tl）	40%
折射率	1.82
吸濕性	無
能量分辨率	<8%

參數(shù)規(guī)格：

尺寸	厚度	鍍膜	表面平整度	表面質(zhì)量	面尺寸公差	長度公差	SKU
10 x 10 mm	1 mm	無	L/2	40/20 S/D	+/-0.15	+/-0.15	19562
20 x 20 mm	1 mm	無	L/2	40/20 S/D	+/-0.15	+/-0.15	19563
10 x 10 mm	1 mm	無	L/2	40/20 S/D	+/-0.15	+/-0.15	19564
20 x 20 mm	1 mm	無	L/2	40/20 S/D	+/-0.15	+/-0.15	19565

Ce:YAP晶體

Ce:YAP閃爍體是一種快速、機(jī)械強(qiáng)度高、耐化學(xué)腐蝕的閃爍晶體。其高機(jī)械性能使其能夠進(jìn)行精密加工，并且可以在晶體的入口表面直接沉積一層非常薄的鋁層來制作入口窗口。

主要特點(diǎn)：

機(jī)械阻力和穩(wěn)定性，衰減時間快，不吸濕

應(yīng)用：

伽瑪和 X 射線計數(shù)，電子顯微鏡，X 射線成像屏幕，斷層掃描系統(tǒng)；

光譜和熱機(jī)械性能：

密度（g/cm 3）	5.4
熔點(diǎn) (°C)	1875
硬度（莫氏）	8.5
衰減時間 (ns)	25
發(fā)射峰(nm)	370
光產(chǎn)率（光子/MeV）	25000
光輸出（至 NaI: Tl）	70%
折射率	1.96
吸濕性	無
能量分辨率	<5%

參數(shù)規(guī)格：

尺寸	厚度	鍍膜	表面平整度	表面質(zhì)量	面尺寸公差	長度公差	SKU
10 x 10 mm	1 mm	無	L/2	40/20 S/D	+/-0.15	+/-0.15	19582
20 x 20 mm	1 mm	無	L/2	40/20 S/D	+/-0.15	+/-0.15	19586

關(guān)鍵詞：光電二極管電子顯微鏡

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