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ADVANCE電弧等離子體沉積源APS-1理工

參考價訂貨量

7900

≥1臺

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號
  • 品牌其他品牌
  • 所在地重慶市
  • 更新時間2023-04-23
  • 廠商性質(zhì)代理商
  • 入駐年限5
  • 實名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量4537
  • 人氣值512357
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重慶津澤機電科技有限公司成立于2022年(以下簡稱津澤機電)。公司坐落于美麗的山城重慶,以機電產(chǎn)品和技術(shù)服務(wù)為主的重慶津澤機電科技有限公司依靠西南先進的制造業(yè)和西部國際綜合交通樞紐業(yè)務(wù)遍及華北、華中、華東、華南等多省份地區(qū)。

其主要經(jīng)營范圍:五金工具、通訊器材、機械設(shè)備及汽車配件、自動化設(shè)備、儀器儀表、實驗耗材、包裝材料制品、金屬材料、建筑裝飾材料、半導(dǎo)體電氣材料、電力電子元器件、照明器具、工業(yè)器材及環(huán)境安全設(shè)備、光學(xué)產(chǎn)品、物流用品、勞保用品,機械設(shè)備安裝調(diào)試維修、工裝夾具設(shè)計、工程技術(shù)研究、通訊設(shè)備技術(shù)服務(wù)。

服務(wù)行業(yè):五金機電、汽車船舶、電器通訊、金屬加工、印刷包裝、食品醫(yī)藥、建筑工程、化工衣料等以及其它制造業(yè)。

津澤機電以制造業(yè)為核心,以優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品和技術(shù)服務(wù)品質(zhì)為核心競爭力,并以為顧客提供一站式的機電工業(yè)品供應(yīng)服務(wù)為己任,立志于為大中小制造業(yè)開拓工業(yè)產(chǎn)品之路拓展渠道以及售后服務(wù)。

我們的目標(biāo):穩(wěn)拓規(guī)模平衡發(fā)展,力爭成為客戶信賴的長期合作伙伴。


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ADVANCE電弧等離子體沉積源APS-1理工
電弧等離子體沉積源APS-1,電弧等離子體法納米粒子形成裝置APD系列
ADVANCE電弧等離子體沉積源APS-1理工 產(chǎn)品詳情

ADVANCE電弧等離子體沉積源APS-1理工

ADVANCE電弧等離子體沉積源APS-1理工

電弧等離子體沉積源APS-1,電弧等離子體法納米粒子形成裝置APD系列

產(chǎn)品介紹

電弧等離子體沉積源 APS-1

同時沉積不同的目標(biāo)
通過將這種蒸鍍源添加到現(xiàn)有的電弧等離子體法納米粒子形成裝置APD系列或您自己的真空室中,可以同時蒸鍍不同的目標(biāo),從而可以生成具有新特性的材料。

用法

生成具有多個沉積源的化合物

添加到現(xiàn)有的真空室

特征

納米粒子的尺寸比傳統(tǒng)的濕法更均勻,因此可以生產(chǎn)出高活性的催化劑。

納米顆粒尺寸可選擇約 1.5nm 6nm

通過改變氣氛容易產(chǎn)生氧化物和氮化物

如果有相當(dāng)于ICF070VG50)的法蘭,則可以任意方向安裝。

無需水冷設(shè)備,維護方便

規(guī)格

目標(biāo)維度

φ10mm×長17mm

電路板尺寸

φ 2 英寸(φ 50 毫米)

沉積速度

0.01 納米/秒至 0.3 納米/*1

膜厚分布

對于 Fe< ± 10 %(φ 20 mm 區(qū)域)*1

可以沉積的材料

一般導(dǎo)電材料*2

電弧等離子體法納米粒子形成裝置APD系列

使用脈沖真空電弧放電的新型納米粒子形成裝置
脈沖真空電弧沉積是一種在簡單過程中生成金屬離子并形成超薄膜和納米粒子的方法。
可以獲得其他氣相沉積方法無法獲得的效果,例如薄膜平坦性和微粒形成。

用途

APD-S(基板沉積模型)
金屬薄膜(磁性、等離子體、保護膜)

使用APD-P(粉末支撐型)納米顆粒的燃料電池催化劑、尾氣催化劑、光催化劑、VOC分解催化劑、碳納米管催化劑、等離子體激元

特征

通過改變電容器的電容量,納米粒子的粒徑可以在大約 1.5 nm 6 nm 之間自由選擇。

任何導(dǎo)電材料(靶)都可以變成等離子體* 靶的比電阻為 0.01Ωcm 或更小

通過改變氣氛容易產(chǎn)生氧化物和氮化物

與濕法工藝相比,負(fù)載型納米顆粒表現(xiàn)出更高的催化活性


電弧等離子APD.png電弧等離子APS-1.png


關(guān)鍵詞:電容器
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