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沛沅儀器是一家集等離子體技術設計、制造、產品開發(fā)、銷售與服務于一體的技術型企業(yè)，公司致力于提供專業(yè)的等離子表面處理系統(tǒng)，向用戶提供國內*的等離子表面處理設備和優(yōu)質專業(yè)的服務。

公司技術團隊67%以上具備碩士或碩士以上學位，公司由*從事等離子體應用技術研究開發(fā)、多次參與國家重大科學工程研究的專家和產業(yè)化專家聯合創(chuàng)建，提供一系列等離子體表面處理系統(tǒng)、等離子體刻蝕系統(tǒng)、常壓等離子清洗設備等，并與中科院上海應用物理研究所，復旦大學，中國科技大學，上?？萍即髮W，上海交通大學等建立了密切的技術合作交流關系。

公司的愿景是成為等離子體應用領域的優(yōu)質供應企業(yè)，用科研的沉淀和應用的創(chuàng)新，為中國的制造業(yè)崛起和化戰(zhàn)略貢獻一份力量。

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產品簡介在線詢價

去膠工藝是微加工過程中一個重要的過程，在電子束曝光，紫外曝光等微納米加工工藝后，都要對光刻膠進行去除或打底膜處理。光刻膠是否去除干凈對樣片是否有損傷等問題，將直接影響后續(xù)工藝的順利完成。PLUTO-MD使用性能出色的組件和軟件，可對工藝參數進行精確控制。它的工藝監(jiān)測和數據采集軟件可實現嚴格的質量控制。該技術已經成功的應用于功率晶體管、模擬器件、傳感器、光學器件、光電、EMS/MOEMS、生物器件、......

Pluto-MD(8L)小型等離子去膠機產品詳情

產品特點

等離子去膠.gif 4_副本.jpg

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1. 桌面型，普通實驗臺即可安置。操作簡便上手快、使用成本極低、易于維護。1

2.適合于4~6寸硅片及相同面積去膠，可選配硅片專用托盤。

3.內置雙層氣浴電極，有效提高清洗效率。配有節(jié)流閥，防止真空泵油霧回流。可選配耐用電極，降低長時間使用后的腔體污染。

4.配置200W/13.56MHz等離子發(fā)生器。兼顧物理作用和化學作用。

5.具備前后吹掃功能，保證樣品處理潔凈度，可配置獨立吹掃氣路。

6.可選配電極間距可調，對各種幾何形狀、表面粗糙程度各異的金屬、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等物件表面進行超清洗和表面改性。

技術參數

參數.jpg

應用領域

PM去膠實驗結果.jpg

關鍵詞：實驗臺真空泵發(fā)生器

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