Flex-Axiom型多功能原子力顯微鏡

材料研究用的多功能AFM

●用于材料研發(fā)的多功能原子力顯微鏡

●模塊化概念可以剛好符合您的需求

●適用于任何尺寸的樣品

幾百個(gè)研究用戶(hù)，多方面應(yīng)用實(shí)例

Flex-Axiom是您可信賴(lài)的工具，不管是在表面形貌還是計(jì)量成像上，不管在大氣中還是液體環(huán)境中。 當(dāng)然Flex-Axiom不僅僅可以用于表面形貌測(cè)量，還可以進(jìn)行*的機(jī)械，電學(xué)或磁性能表征。該系統(tǒng)也成功地用于局部樣品納米加工。

高精確度且優(yōu)異的性能滿(mǎn)足您研發(fā)上的需求

Flex-Axiom使用一個(gè)極其線(xiàn)性的電磁掃描頭進(jìn)行XY軸運(yùn)動(dòng)。該掃描頭實(shí)現(xiàn)了在整個(gè)掃描范圍內(nèi)的平均線(xiàn)性偏差小于0.1％，屬于AFM市場(chǎng)上的頂配。 Z軸采用壓電驅(qū)動(dòng)，帶有位置傳感器，可實(shí)現(xiàn)閉環(huán)操作。一個(gè)靈敏的懸臂檢測(cè)系統(tǒng)可以很好地測(cè)量到MHz頻率范圍。掃描頭連接到具有數(shù)字反饋和2個(gè)雙通道鎖定放大器的全功能24位C3000控制器上。

Flex-Axiom 成像模式

以下描述為儀器所具備的模式。某些模式可能需要其他組件或軟件選項(xiàng)。詳情請(qǐng)瀏覽產(chǎn)品手冊(cè)或直接聯(lián)系我們。

顯示鈦酸鍶階梯的形貌圖，圖像尺寸1.1μm。

截面輪廓和高度分布

樣品清晰地顯示了STO典型的層結(jié)構(gòu)。這里，這些層并不是光滑的，顯出出大約125pm的殘余粗糙度（RMS）。這是由于在制備該STO樣品期間的非理想終止過(guò)程造成的。中間曲線(xiàn)圖顯示了左圖所示圖像的輪廓線(xiàn)，從圖像區(qū)域的左上角延伸到右下角。該輪廓還清晰地顯示了樣品的層狀結(jié)構(gòu)，并揭示了層高度約.4 ?。同樣，在右側(cè)曲線(xiàn)圖中，左圖的高度分布直方圖清晰地顯示了大約.4 ?-即樣品的不同層之間的峰的間距。

CVD生長(zhǎng)的二硫化鉬單層膜的形貌和KPFM

在本應(yīng)用中，使用Flex-Axiom的開(kāi)爾文探針力顯微 (KPFM)對(duì)通過(guò)化學(xué)氣相沉積（CVD）生長(zhǎng)的單層MoS2進(jìn)行成像，以研究單晶上的接觸電位差變化。 單層MoS 2是通過(guò)化學(xué)氣相沉積在硅基體上生長(zhǎng)的 (樣品提供: 伊利諾伊大學(xué) – Urbana-Champlain).單層膜表面接觸電位信號(hào)的不均勻性可以反映摻雜分布和其他表面缺陷。

單層MoS2光學(xué)顯微圖

a)單層MoS2AFM形貌圖 輪廓的位置是紅線(xiàn)標(biāo)注的地方
b) 單層膜上的高度（上圖）和KPFM電壓（下圖）分布

使用Flex-Axiom測(cè)量顯示的單層MoS2的臺(tái)階高度為0.6 nm。并行KPFM測(cè)量顯示單層膜和SiO 2基體之間的接觸電位差為650 mV。

3D AFM形貌疊加MoS2

在下面的實(shí)驗(yàn)中，使用 Flex-Axiom 系統(tǒng)一次性記錄了KPFM和形貌數(shù)據(jù)。 也見(jiàn)相關(guān)的

不銹鋼的KPFM 圖疊加在形貌圖上
掃描大小: 80 µm x 80 µm
電位范圍: 200 mV

形貌圖本身
掃描大小: 80 µm x 80 µm
高度范圍: 50 nm

相同區(qū)域的MFM圖
掃描大小: 80 µm x 80 µm
相位范圍: 10°