詳細資料
Q-POD Element終端精制器詳細介紹
測量技術(shù)和檢測技術(shù)的新近發(fā)展極大地提高了現(xiàn)代分析儀器的靈敏度。使用諸如ICP-MS技術(shù),可以在ppt或亞ppt水平檢測痕量元素。
這些低檢測限水平技術(shù)有多種新應(yīng)用,例如元素指紋識別,可用于法醫(yī)學(xué)、食品飲料工業(yè)和天體地質(zhì)學(xué)等眾多不同的領(lǐng)域。
低檢測限水平意味著須多加注意實驗設(shè)備、操作人員、實驗室環(huán)境以及所用的樣品容器,因為這些因素都可能影響實驗結(jié)果。
分析過程中使用的超純水也是一樣。由于樣品制備需要溶解和稀釋過程,因此使用這些靈敏技術(shù)分析的樣品中90%以上是高純度的純水。高純度的純水還用于清洗裝樣品的容器,清洗塑料器具,制備空白和標(biāo)準(zhǔn)溶液。
進行痕量分析的實驗室必須有可靠的超純水來源,且該超純水必須始終保持低的元素濃度。
專門設(shè)計的Q-POD Element ,與Milli-Q Integral或Milli-Q Advantage超純水純化系統(tǒng)聯(lián)合使用,可以達到此目的。Q-POD Element終端精制器的設(shè)計是由精通IC、ICP-MS以及GF-AAS等痕量分析方法的科學(xué)家開發(fā)的。
Q-POD Element終端精制器技術(shù)參數(shù):
電阻率 18.2MΩ-cm @ 25℃
元素水平 ppt或亞ppt級(參見元素列表)
顆粒 < 1/l(=""> 0.5 μm)
硅 < 1="" ppb="">
TOC < 5="">
細菌 < 0.01="" cfu="">




































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