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NE-PE60F等離子體表面處理設(shè)備

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  • 型號
  • 品牌
  • 所在地深圳市
  • 更新時(shí)間2026-09-10
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 所在地區(qū)深圳市
  • 實(shí)名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量33
  • 人氣值3534
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納恩科技總部位于深圳市南山區(qū),在香港設(shè)有研發(fā)分公司,公司專注 于等離子材料表面處理和真空鍍膜技術(shù)研發(fā),目前主要產(chǎn)品包括真空 等離子磁控濺射鍍膜設(shè)備,離子濺射儀,等離子刻蝕設(shè)備,等離子表 面處理設(shè)備,輝光放電儀等。 

 

公司核心研發(fā)團(tuán)隊(duì)來源于香港大學(xué)等離子實(shí)驗(yàn)室,香港理工大學(xué)材料 工程學(xué)院和美國佐治亞理工學(xué)院的微電子學(xué)院。自成立以來,納恩科 技圍繞等離子處理系統(tǒng)所需核心電源及底層算法進(jìn)行技術(shù)布局,不斷 拓展自主設(shè)計(jì)能力。目前已完成以MCU,ARM為核心的射頻芯片開 發(fā)平臺(tái),實(shí)現(xiàn)了芯片的結(jié)構(gòu)化和模塊化開發(fā)。 具有高精度模擬、網(wǎng)絡(luò) 阻抗匹配、功率驅(qū)動(dòng)、功率器件、射頻和底層核心算法的設(shè)計(jì)能力, 可針對不同細(xì)分領(lǐng)域等離子處理系統(tǒng)需求,快速做出底層硬件組合, 提高等離子系統(tǒng)的穩(wěn)定性和效率。

 

納恩科技成立至今已為清華大學(xué)、香港大學(xué)、華為2012實(shí)驗(yàn)室、北京大學(xué)、中科院、南方科技大學(xué)、美國康奈爾大學(xué)、賓夕法尼亞大學(xué)、等中外眾多有名企業(yè)、大學(xué)研究機(jī)構(gòu)提供過等離子外理設(shè)備和解決方案,并專注于發(fā)展面向未來新材料市場的應(yīng)用技術(shù),助力客戶開發(fā)出激動(dòng)人心的新工藝!

點(diǎn)擊展示更多內(nèi)容
產(chǎn)品簡介:等離子體表面處設(shè)備是利用等離子體中的能量粒子和活性粒子與高分子表面發(fā)生作用,以達(dá)···
NE-PE60F等離子體表面處理設(shè)備 產(chǎn)品詳情

NE-PE60F等離子體表面處理設(shè)備由供氣控制單元、真空室、射頻等離子發(fā)生器、匹配器、真空泵等部分組成,本處理機(jī)采用電容耦合的內(nèi)部電極放電結(jié)構(gòu)。當(dāng)上電極接入射頻功率時(shí),上下電極之間交替發(fā)射的電子,經(jīng)過電場加速之后撞擊低真空環(huán)境中的氣體分子。氣體分子由于受到高速電子的撞擊而發(fā)生電離。射頻放電是一種在低溫低氣壓狀態(tài)下的放電技術(shù),使用射頻放電可獲得電離度與密度較大的等離子體。

產(chǎn)品參數(shù):

產(chǎn)品型號NE-PE60F等離子體表面處理設(shè)備
功率500W/1000W(可選)
頻率13.56MHz(自動(dòng)阻抗匹配)
腔體材質(zhì)316 鏡面不銹鋼
腔體容積60L
腔體尺寸400(W)*450(D)*370(H)mm
電極板數(shù)量6層
氣路數(shù)量2路工藝氣體通道,可自由選擇各種工藝氣體
工作真空度<30Pa
外形尺寸900mm(L)×960mm(W) ×1750 mm(H)

產(chǎn)品特點(diǎn):

?不銹鋼托盤設(shè)計(jì),可調(diào)節(jié)托盤間距

?8K鏡面不銹鋼腔體,密封性

?13.56射頻等離子發(fā)生器,產(chǎn)生高密度等高子體,確保出眾的清洗效果;

?直觀的觸摸屏,過程參數(shù)實(shí)時(shí)監(jiān)控。

?方便的定期校準(zhǔn)設(shè)備連接驗(yàn)證過程中使用的要求

?支持各種工藝氣體,包括氬氣,氧,氫,氦和氟化氣體

?通過聯(lián)鎖門或可移動(dòng)的板

?高精度氣體流量監(jiān)測系統(tǒng),兩路工藝氣體配置(氬氣、氧氣),雙路氣流控制,比例可調(diào),采用高精度電子質(zhì)量流量計(jì)(MFC)、針閥、美國世維洛克氣體管路。

等離子體表面處理原理:

等離子體表面處理設(shè)備是利用等離子體中的能量粒子和活性粒子與高分子表面發(fā)生作用,以達(dá)到改變表面成分的目的。對塑料、纖維、高分子薄膜等能有效地改善其表面特性以適合各種用途。無論惰性氣體等離子體還是活性氣體等離子體的表面處理都能有效地使高分子材料表面層產(chǎn)生大量自由基,在經(jīng)等離子體活化而生成的表面自由基位置,能進(jìn)一步加成特定官能團(tuán)。高分子表面的等離子體處理主要包括以下幾方面內(nèi)容。用He、Ar和H2等惰性氣體等離子體對高分子表面進(jìn)行轟擊,使其表面產(chǎn)生緊密的交聯(lián)層;用O2、N2、CO、CO2和H2O等活性氣體等離子體與材料表面發(fā)生作用,以改變材料表面的化學(xué)成分;在高分子表面進(jìn)行等離子體接枝;在高分子表面沉積超薄的等離子體聚合膜;高分子表面圖案化及自組裝。

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產(chǎn)品名稱參考價(jià)地區(qū)公司名稱更新時(shí)間 
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