掠入射平場光柵光譜儀251MX


251MX極紫外掠入射平場光柵光譜儀外形及光路排布
251MX采用在軟X射線診斷領域廣受歡迎的掠入射平場光柵架構。其入射角為87°,確保極紫外波段的反射率;采用變柵距(Variable Line-Space, VLS)光柵的柵線非均勻分布,將羅蘭圓像場矯正為平場,適合直接探測CCD相機等平面探測器采集。多樣化的光柵選擇使得251MX可滿足1~200nm的攝譜需求。光譜儀可容納兩塊光柵,推拉式切換;支持探測器平動以擴展攝譜范圍。251MX內置零級擋板,可在保持真空的前提下調節(jié)擋板位置,以阻擋零級光。
產(chǎn)品特點
l 1nm ~ 200nm;
l VLS光柵,整個像面保持高分辨率;
l 無需掃描,穩(wěn)定、便利;
l 1E-6高真空;超高真空可選;
典型應用
l 高次諧波
l 極紫外光源研發(fā)
l 激光等離子體、高溫等離子體、Z-Pinch、磁約束等離子體
l X射線激光,自由電子激光
l 極紫外光學系統(tǒng)測試
主要參數(shù)
光學設計 | 掠入射像差校正平場設計 |
入射角 | 87° |
焦面 | 25mm |
探測器 | 可平動、轉動 |
波長范圍 | 1nm ~ 200nm,取決于光柵 |
光柵尺寸 | 50×30mm |
光柵支架 | 雙位,真空下可切換 |
零級擋板 | 標配,真空下可調 |
狹縫 | 0.01 ~ 3mm連續(xù)可調;高度可置 |
真空 | 標準:1E-6 Torr;可選UHV |
可選光柵
刻劃密度 (g/mm) | 120 | 300 | 1200 | 2400 |
偏轉角(°) | 170 | 170 | 170 | 174.4 |
分辨率(nm) | ~0.3 | ~0.12 | ~0.028 | ~0.01 |
平場范圍(nm) | 50~200 | 20~80 | 5~20 | 1~5 |
測試示例

鎂K線譜(左)與氧K線譜(右,三階)





























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