哈納二氧化硅（HR）濃度測定儀

二氧化硅在溶解礦物質的天然水體中存在。但在工業(yè)應用中卻不希望有二氧化硅的存在，因為二氧化硅會引起結垢現(xiàn)象。特別是高壓管道中更易受二氧化硅的影響。加熱系統(tǒng)和反滲透工廠也有必要監(jiān)測二氧化硅。

儀器在使用一段時間后，儀器光學系統(tǒng)將會衰減，造成內部設置的標準曲線會出現(xiàn)漂移，影響測量數(shù)據(jù)可靠性和準確性。
*CAL CHECKTM性能核查功能，氨氮NIST測量曲線標定組可定期（頻繁使用，1-3個月標定一次，常規(guī)情況下，半年標定一次）儀器內部曲線進行標定和校正，修訂內部標準曲線漂移，確保測量數(shù)據(jù)正確可靠。
氨氮NIST測量曲線標定組，保存和使用應在18 to 25°C（64.5 to 77°F）溫度范圍內，非Hanna 品牌氨氮NIST測量曲線標定組會造成內置標準曲線嚴重漂移，甚至會損壞儀器。

哈納二氧化硅（HR）濃度測定儀特點：

*優(yōu)良的光學系統(tǒng)設計，人性化確認操作，保證儀器的良好校準；
*雙行易讀LCD顯示屏，人性化顯示界面，操作簡單、快捷； 

*倒計時功能，試劑與樣品反應時間*性，確保測量精確度；
*操作簡單，定期內置標準曲線標定功能，確保儀器性能；
*出廠前內置標準曲線標定，具有CAL CHECK 性能核查功能， 
*GLP功能，隨時更新、查閱標定數(shù)據(jù)、日期、標準等信息；
*高精度測量結果，光源防塵測量系統(tǒng)，自動關機節(jié)電模式
*優(yōu)良防水性能，適用于實驗室和現(xiàn)場快速樣品分析測量。

技術參數(shù)：

測量范圍：0 to 200 mg/ L（ppm）SiO2

解 析 度：1 mg/ L（ppm）
測量精度：讀數(shù)±5% ±1 mg/L @ 25°C

測量方法：參照USEPA METHOD 370.1（適用于飲用水，海水，市政和工業(yè)廢水）和Standard Method 4500-SiO2 C標準方法

光學系統(tǒng)：定制接收器暨光源系統(tǒng)

電源模式：1 x 9V 電池，在測量模式下，10分鐘不用后自動關機 

使用環(huán)境：0 to 50°C（32 to 122°F），RH max 95%，無冷凝 
尺寸重量：主機尺寸：192 x 104 x 69 mm，主機重量：360g