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離子濺射儀NE-900

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面議
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  • 型號(hào)
  • 品牌
  • 所在地深圳市
  • 更新時(shí)間2026-09-10
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 所在地區(qū)深圳市
  • 實(shí)名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量33
  • 人氣值3341
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納恩科技總部位于深圳市南山區(qū),在香港設(shè)有研發(fā)分公司,公司專(zhuān)注 于等離子材料表面處理和真空鍍膜技術(shù)研發(fā),目前主要產(chǎn)品包括真空 等離子磁控濺射鍍膜設(shè)備,離子濺射儀,等離子刻蝕設(shè)備,等離子表 面處理設(shè)備,輝光放電儀等。 

 

公司核心研發(fā)團(tuán)隊(duì)來(lái)源于香港大學(xué)等離子實(shí)驗(yàn)室,香港理工大學(xué)材料 工程學(xué)院和美國(guó)佐治亞理工學(xué)院的微電子學(xué)院。自成立以來(lái),納恩科 技圍繞等離子處理系統(tǒng)所需核心電源及底層算法進(jìn)行技術(shù)布局,不斷 拓展自主設(shè)計(jì)能力。目前已完成以MCU,ARM為核心的射頻芯片開(kāi) 發(fā)平臺(tái),實(shí)現(xiàn)了芯片的結(jié)構(gòu)化和模塊化開(kāi)發(fā)。 具有高精度模擬、網(wǎng)絡(luò) 阻抗匹配、功率驅(qū)動(dòng)、功率器件、射頻和底層核心算法的設(shè)計(jì)能力, 可針對(duì)不同細(xì)分領(lǐng)域等離子處理系統(tǒng)需求,快速做出底層硬件組合, 提高等離子系統(tǒng)的穩(wěn)定性和效率。

 

納恩科技成立至今已為清華大學(xué)、香港大學(xué)、華為2012實(shí)驗(yàn)室、北京大學(xué)、中科院、南方科技大學(xué)、美國(guó)康奈爾大學(xué)、賓夕法尼亞大學(xué)、等中外眾多有名企業(yè)、大學(xué)研究機(jī)構(gòu)提供過(guò)等離子外理設(shè)備和解決方案,并專(zhuān)注于發(fā)展面向未來(lái)新材料市場(chǎng)的應(yīng)用技術(shù),助力客戶開(kāi)發(fā)出激動(dòng)人心的新工藝!

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離子濺射儀NE-900 產(chǎn)品詳情

離子濺射儀NE-900依據(jù)二極(DC)直流濺射原理。濺射電流調(diào)整控制器、微型真空氣閥在工作時(shí)結(jié)合內(nèi)部自 動(dòng)控制電路控制真空室壓強(qiáng)、電離電流及任意選擇所需要的電離氣體。根據(jù)電場(chǎng)中氣體電離特性,采用大容量樣品濺射真空室和相應(yīng)面積濺射靶,使濺射鍍層均勻純凈。


產(chǎn)品參數(shù):

型號(hào)離子濺射儀NE-900
主機(jī)規(guī)格300mm×360mm×380mm(W×D×H)
靶(上部電極)50mm×0.1mm(D×H)
靶材Au(標(biāo)配)
樣品室硼硅酸鹽玻璃 160mm×120mm(D×H)
靶材尺寸Ф 50mm
真空指示表真空度:≤ 4X10-2 mbar
離子電流表電流:50mA
定時(shí)器最長(zhǎng)時(shí)間:0-360S
微型真空氣閥可連接φ 3mm 軟管
可通入氣體多種
電壓-1600 DCV
機(jī)械泵標(biāo)準(zhǔn)配置 2L/S(國(guó)產(chǎn) VRD-8)


離子濺射儀NE-900產(chǎn)品特點(diǎn):

1、簡(jiǎn)單、經(jīng)濟(jì)、可靠、外觀精美。
2、可調(diào)節(jié)濺射電流和真空室壓強(qiáng)以控制鍍膜的速率和顆粒的大小。
3、SETPLASMA 手動(dòng)啟動(dòng)按鈕可預(yù)先設(shè)置好壓強(qiáng)和濺射電流避免對(duì)膜造成不必要的損傷。
4、真空保護(hù)可避免真空過(guò)低造成設(shè)備短路。
5、同時(shí)可以通過(guò)更換不同的靶材(金、鉑、銥、銀、銅等),以達(dá)到更細(xì)顆粒的涂層。

6、通過(guò)通入不同的惰性氣體以達(dá)到更純凈的涂層。


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