納恩科技總部位于深圳市南山區(qū)，在香港設(shè)有研發(fā)分公司，公司專注 于等離子材料表面處理和真空鍍膜技術(shù)研發(fā)，目前主要產(chǎn)品包括真空 等離子磁控濺射鍍膜設(shè)備，離子濺射儀，等離子刻蝕設(shè)備，等離子表 面處理設(shè)備，輝光放電儀等。 

公司核心研發(fā)團隊來源于香港大學(xué)等離子實驗室，香港理工大學(xué)材料 工程學(xué)院和美國佐治亞理工學(xué)院的微電子學(xué)院。自成立以來，納恩科 技圍繞等離子處理系統(tǒng)所需核心電源及底層算法進行技術(shù)布局，不斷 拓展自主設(shè)計能力。目前已完成以MCU，ARM為核心的射頻芯片開 發(fā)平臺，實現(xiàn)了芯片的結(jié)構(gòu)化和模塊化開發(fā)。 具有高精度模擬、網(wǎng)絡(luò) 阻抗匹配、功率驅(qū)動、功率器件、射頻和底層核心算法的設(shè)計能力， 可針對不同細分領(lǐng)域等離子處理系統(tǒng)需求，快速做出底層硬件組合， 提高等離子系統(tǒng)的穩(wěn)定性和效率。

納恩科技成立至今已為清華大學(xué)、香港大學(xué)、華為2012實驗室、北京大學(xué)、中科院、南方科技大學(xué)、美國康奈爾大學(xué)、賓夕法尼亞大學(xué)、等中外眾多有名企業(yè)、大學(xué)研究機構(gòu)提供過等離子外理設(shè)備和解決方案，并專注于發(fā)展面向未來新材料市場的應(yīng)用技術(shù)，助力客戶開發(fā)出激動人心的新工藝!