XD2/3型多晶X射線(xiàn)衍射儀用于晶體物質(zhì)結(jié)構(gòu)定性定量分析。該產(chǎn)品設(shè)計(jì)精密，硬件、軟件功能齊全，靈活適應(yīng)各種物質(zhì)微觀(guān)結(jié)構(gòu)的測(cè)試、分析和研究，其技術(shù)水平已達(dá)到國(guó)內(nèi)前列水平。產(chǎn)品采用了θ-θ測(cè)角儀立式、中空軸、射線(xiàn)管座與測(cè)角臺(tái)一體化的結(jié)構(gòu)，可對(duì)粉末、大塊不規(guī)則固體、液體樣品進(jìn)行測(cè)試。

• 結(jié)構(gòu)新，采用*的立式測(cè)角儀結(jié)構(gòu)，更加方便的樣品放置方式，對(duì)于操作、維護(hù)的工作力度大為簡(jiǎn)化，更加直觀(guān)的使用，便于清理實(shí)驗(yàn)后的樣品臺(tái)。

• 采用細(xì)分驅(qū)動(dòng)電源技術(shù)，精度高，重現(xiàn)性達(dá)到0.0006°、測(cè)量重復(fù)性0.001°、最小步進(jìn)角度0.0005°；

• 進(jìn)口NaI閃爍晶體計(jì)數(shù)探測(cè)器，分辨率及長(zhǎng)期使用穩(wěn)定性好；

• X射線(xiàn)管套采用整體銅棒材加工定位精度、射線(xiàn)防護(hù)性更好；采用了轉(zhuǎn)輪式快門(mén)，開(kāi)關(guān)速度更快，故障率更低，射線(xiàn)阻斷性更好，機(jī)柜外輻射劑量低于0.2μSv/h（國(guó)標(biāo)規(guī)定要求低于2.5μSv/h）；

• X射線(xiàn)光源的數(shù)字控制電路作了進(jìn)一步的改善，X光機(jī)的工作功率由計(jì)算機(jī)遙控設(shè)定。高壓與管流的加載過(guò)程受微電腦控制自動(dòng)操作，使用更加簡(jiǎn)單，運(yùn)行更加可靠；

中文視窗操作界面，全新改版的PDP衍射數(shù)據(jù)處理軟件包。在數(shù)據(jù)輸出多樣性方面作了重大改進(jìn)。

配置名稱(chēng)

XD2/3

X射線(xiàn)管

（Cu靶國(guó)產(chǎn)）

種類(lèi)

Cu靶，NF型（其它靶材可選）

功率

2.0kW

焦點(diǎn)

1.0×10mm²

X射線(xiàn)發(fā)生器

輸出

4KW

X光管電壓

15~60kV，1kV /Step

X光管電流

6~80mA，1mA /Step

管電壓、管電流穩(wěn)定度

≤0.01％（電源低壓浮動(dòng)10％）

測(cè)角儀

測(cè)角儀結(jié)構(gòu)

θs－2θd(XD2)  θs－θd(XD3)

測(cè)角儀掃描半徑

180mm

掃描角度范圍

-30~80°（θs）

-30～160°（θd）

工作方式

連續(xù)掃描、定時(shí)步進(jìn)掃描、定數(shù)步進(jìn)掃描

連續(xù)掃描速度

0.125～120°/min

轉(zhuǎn)速

120°/min

2θ角重復(fù)精度

≤0.0006°

最小步進(jìn)角度

0.0005°

測(cè)量準(zhǔn)確度

≤0.001°

發(fā)散狹縫（DS）

1/6°、1/2°、1°、2°

防散射狹縫(SS)

1/2°、1°、2°

接收狹縫(RS)

0.1，0.15，0.3，0.45，0.6，1，2mm

調(diào)整狹縫

0.02mm

檢測(cè)器

計(jì)數(shù)器

晶體類(lèi)型

NaI

脈沖幅度分析器（HV/PHA）

輸出高壓0～1000V，穩(wěn)定性≤0.01％（8h）

機(jī)柜

機(jī)柜尺寸（mm）

1200（長(zhǎng)）×400（寬）×1850（高）

整機(jī)重量（kg）

500

觀(guān)察窗（mm）

600（高）×400（寬）×10（厚）鉛玻璃

X射線(xiàn)泄露量

≤0.1μSv/h（未扣除天然本底）

安全措施

門(mén)聯(lián)鎖保護(hù)（門(mén)到位置，光閘才打開(kāi)，產(chǎn)生X射線(xiàn)）

濾波器

Ni濾片

對(duì)應(yīng)Cu靶

石墨彎晶單色器

反射效率η≥28％

綜合指標(biāo)

整機(jī)綜合穩(wěn)定度

≤0.3％