我們的設(shè)備和工藝已通過充分驗(yàn)證,正常運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)間可達(dá)90%以上,一旦設(shè)備安裝完畢,可立即投入使用。PlasmaPro 100系列市場應(yīng)用廣,包括但不限于: MEMS和傳感器、光電子、分立元器件和納米技術(shù)。它具有足夠的靈活性,可用于研究和開發(fā),通過打造質(zhì)量滿足生產(chǎn)需求。
PlasmaPro 100 ALE 的特點(diǎn):
- 準(zhǔn)確的刻蝕深度控制;
- 光滑的刻蝕表面
- 低損傷工藝
- 數(shù)字化/循環(huán)式刻蝕工藝——刻蝕相當(dāng)于ALD
- 高選擇比
- 能加工200mm的晶圓
- 高深寬比(HAR)刻蝕工藝
- 非常適于刻蝕納米級薄層

































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