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Crossbeam350/550 聚焦離子束掃描電子顯微鏡(FIB-SEM)

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  • 型號(hào)Crossbeam350/550
  • 品牌
  • 所在地深圳市
  • 更新時(shí)間2026-08-11
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 所在地區(qū)深圳市
  • 實(shí)名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量143
  • 人氣值2155
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深圳市順心科技有限公司(簡(jiǎn)稱順心科技,英文名“IntlFine”:集品質(zhì)產(chǎn)品服務(wù)好每一個(gè)客戶),公司成立于2016年,是一家專業(yè)提供實(shí)驗(yàn)室耗材、實(shí)驗(yàn)室分析/測(cè)試、品質(zhì)管控等優(yōu)質(zhì)進(jìn)口檢測(cè)設(shè)備及解決方案提供商。 公司擁有經(jīng)驗(yàn)豐富的檢測(cè)設(shè)備銷售人員,同時(shí)有多名10年以上工作經(jīng)驗(yàn)的實(shí)驗(yàn)室高級(jí)管理人員、高級(jí)工程師加盟,不僅能為客戶提供高質(zhì)量的產(chǎn)品,更能為客戶提供優(yōu)質(zhì)、高效的售前售后解決方案。以專業(yè)服務(wù)和優(yōu)良品質(zhì),深受廣大用戶的好評(píng)。 近年來公司大力加強(qiáng)與半導(dǎo)體、新能源、新材料等專、精、特、新的的深度合作。服務(wù)客戶有:華為海思、冠宇集團(tuán)、木林森集團(tuán)、利亞德集團(tuán)、光大集團(tuán)(中麒光電、光鈦科技)、貝特瑞集團(tuán)、中科院深圳*研究院、山西大學(xué)等等,我們將繼續(xù)朝著專業(yè)化、精細(xì)化、特色化的方向奮斗。
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蔡司 Crossbeam 將場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡(FE-SEM)鏡筒的*成像和分析性能與新一代聚焦離子束(FIB) 的優(yōu)異加工能力相結(jié)合。無論是切割、成像或進(jìn)行 3D 分析,Crossbeam 系列都能極大地提升您的應(yīng)用體驗(yàn)。借助 Gemini 電子光學(xué)系統(tǒng),您可從高分辨率掃描電子顯微鏡(SEM)圖像中獲取真實(shí)的樣品信息。Ion-sculptor FIB 鏡筒整體上引入了全新的 FIB 加工方法......
聚焦離子束掃描電子顯微鏡(FIB-SEM) 產(chǎn)品詳情
產(chǎn)品介紹
  • Crossbeam 350 的 Gemini 可變氣壓鏡筒適用于各類樣品,用途廣泛。利用可變氣壓模式,可進(jìn)行原位實(shí)驗(yàn),即便樣品含有氣體或容易荷電,也能提供出色的分析環(huán)境。

  • Crossbeam 550 的 Gemini II 鏡筒與其雙聚光鏡系統(tǒng)在低電壓或高束流下也能獲得高分辨率圖像, 如需在高束流條件下獲得高分辨率圖像以及進(jìn)行快速分析,這無疑是您的理想之選。

技術(shù)參數(shù)
型號(hào)察司 Crossbeam 350察司 Crossbeam 550
掃描電子顯微鏡(SEM)肖特基發(fā)射源肖特基發(fā)射源
1.7 nm @ 1 kV1.4 nm @ 1 kV
1.2 nm @ 1 kV,配備 Tandem decel
1.6 nm @ 2(X) V,配備 Tandem decel
0.9 nm @ 5 kV0.7 nm? 15kV
0.7 nm 仞 30 kV (STEM 模式)0.6nm@30kV (STEM 模式)
2.3 nm ? - kV (工作距離 5 mm)1.8 nm ? 1 kV (工作距離 5mm)

1.3 nm ? 1 kV.配備 Tandem deed (工作距離 5 mm)
1.1 nm ? "5kV (工作距離 5 mm)0.9nm@ 15kV (工作距離 5 mm)
2.3 nm 仞 20 kV & 10 nA (工作距離 5 mm)2.3nm@20kV&10nA (工作距離 5 mm)
電子束流:5 M-100 nA電子束流:10 pA-100 nA
聚焦離子束(FIB)液態(tài)金屬離子源:壽命:3000 pAh液態(tài)金屬離子源:壽命:3000 pAh
分辨率:3nm@30kV (統(tǒng)計(jì)方法)分辨率:3nm@30kV (統(tǒng)計(jì)方法)
分辨率:120nm@1 kV&10pA (可選)分辨率:120nm 仞 1 kV& 10pA
檢測(cè)器Intens SE. hlens EsB. VPSE (可變氣壓二次電子探測(cè)劉、 SESI (二次電子二次離子探測(cè)器)、aSTEM (掃描透射電子探測(cè)器)、 aBSD (背散射探測(cè)器)Inlens SE. Intens EsE. ETD (Everhard-Thomley 探測(cè)器)、 SESI (二次電子二次離子探測(cè)器)、aSTEM (掃描透射電子探測(cè)器)、 aBSD (背散射探測(cè)器)和CL (陰披熒光探測(cè)器)
樣品倉規(guī)格和鎭口標(biāo)準(zhǔn)樣品倉配有18個(gè)可配買端口標(biāo)準(zhǔn)樣品倉配有18個(gè)可配買端口  大型樣品倉配有22個(gè)可配置說口
樣品臺(tái)X/Y = 100 mmX/Y = 100 mm                           X/Y = 153 mm
Z = 50 rnrr, Z '=13 mmZ = 50 mm. Z * = 13 mm           Z = 50 mm. Z * = 20 mm
T = -4° 至 70。,R = 360°

T = -4° 至 70。,R =360°         

T=-15。至 70。,R = 360°

電荷控制電子束流槍電子束流槍
局部電荷中和箋局部電荷中和箋
可變氣壓—
氣體單通道氣體注入系統(tǒng):Pt. C. SiO,. W. H.0單通道氣體注入系統(tǒng):Pt. C. SiOx. w. h2o
多通道氣體注入系統(tǒng):Pt. C. W. Au. H2O. SiOx XeF2多通道氣體注入系統(tǒng):Pt. C、W、Au. A。、SOX. XeF2
應(yīng)用案例
典型應(yīng)用,典型樣品任務(wù)蔡司Crossbeam應(yīng)用案例
橫截面切割獲取橫裁面的高渤率醐,以得到亞表面信息。Crossbeam提供一系列用于全面樣品表征的探測(cè)器,可同時(shí)呈現(xiàn)四種探測(cè)器信號(hào),從 樣品中得到更多信息。Gemini鏡筒的設(shè)計(jì)可避免樣品暴路于磁場(chǎng)中,在大觀察視野下 圏像無崎變。高達(dá)50 kx 40 k的圖像幀存儲(chǔ)分辨率令Crossbeam成為大面枳作分布囲 應(yīng)用的理想之選。
FIB-SEM斷層掃描成像可在獲得一系列哉面圖像后進(jìn)行3D重構(gòu)。Inlens EsB探測(cè)器提供優(yōu)異的材科成分襯度,并由于其只探測(cè)樣品表面幾納米深度內(nèi)的 信號(hào)從而實(shí)現(xiàn)極表面成像。在F舊切割時(shí)使用EsB成像可使持續(xù)時(shí)間較長的實(shí)驗(yàn)效率 更高。智能軟件解決方案能鑼在短時(shí)間內(nèi)實(shí)現(xiàn)長時(shí)間無人值守的3D數(shù)據(jù)采集工作,以 獲得可靠和精確的結(jié)果。
生命科學(xué)領(lǐng)域中的FIB-SEM三維至構(gòu)獲取橫裁面的高渤圖像或執(zhí)行大量斷層掃描,以逬行形態(tài)分析。通過對(duì)感興趣區(qū)域進(jìn)行精準(zhǔn)定位.成像以及重構(gòu)來獲取生物樣品的3D信息。
3D分析研究樣品的化學(xué)和晶體微觀結(jié)構(gòu)。Crossbeam是對(duì)樣品誑行3D EDS和3DEBSD分析的利器,可通過提供的不同軟 件包全自動(dòng)采集3D數(shù)據(jù)集。
TEM樣品制備制謹(jǐn)TEM或STEM薄片樣品,以進(jìn)行分析。Crossbeam提供了完整的TEM薄片樣品制備解戻方案,晝至可逬行批量制備。 Ion-sculptor FIB鏡筒貝有在低電壓下獲取高質(zhì)量薄片樣品的出色性能,可避免情密樣品 的非晶體化,定會(huì)讓您受益匪淺。只需完成簡(jiǎn)單的三步工作流程,然后等待自動(dòng)執(zhí)行即 可。在最終筋薄期間,采用獲得的X2樣品夾可制備高質(zhì)量的薄片樣品。終點(diǎn)探測(cè)軟 件能夠獲取薄片樣品厚度的精確信息,對(duì)您大有助益。
納米圖形化加工利用FIB (或SEM)結(jié)合不同的輔助氣體, 創(chuàng)建新結(jié)構(gòu)或?qū)ΜF(xiàn)有結(jié)構(gòu)進(jìn)行加工。在SEM的全面實(shí)時(shí)控制下逬行FIB圏形化加工。在FIB圏像中選擇和繪制您要?jiǎng)?chuàng)建的形 狀、設(shè)置參數(shù)并開始加工即可。即使臺(tái)無經(jīng)驗(yàn)的用戶也可利用此方便易用的系統(tǒng)軟件獲 得出色的成像結(jié)果。在多數(shù)高級(jí)加工任務(wù)中,您可使用軟件訪問所有相關(guān)的SEM、F舊 或GIS參數(shù),從而在單個(gè)對(duì)象層面上定制的F舊加工方案。您可在潔線狀態(tài)下計(jì)劃 和創(chuàng)建FIB任務(wù)。
電池或聚合物的表面高靈敏分析對(duì)固體表面幾個(gè)原子層的組分逬行表征。新増ToF-SIMS飛行時(shí)間二次離子段譜儀使您能夠分析鋰等微量元素,檢測(cè)同位素, 并作元素分布圖及深度剖面分析,其橫向分析分辨率低至35nmo
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產(chǎn)品名稱參考價(jià)地區(qū)公司名稱更新時(shí)間 
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