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納恩科技總部位于深圳市南山區(qū)，在香港設有研發(fā)分公司，公司專注于等離子材料表面處理和真空鍍膜技術研發(fā)，目前主要產品包括真空等離子磁控濺射鍍膜設備，離子濺射儀，等離子刻蝕設備，等離子表面處理設備，輝光放電儀等。

公司核心研發(fā)團隊來源于香港大學等離子實驗室，香港理工大學材料工程學院和美國佐治亞理工學院的微電子學院。自成立以來，納恩科技圍繞等離子處理系統所需核心電源及底層算法進行技術布局，不斷拓展自主設計能力。目前已完成以MCU，ARM為核心的射頻芯片開發(fā)平臺，實現了芯片的結構化和模塊化開發(fā)。具有高精度模擬、網絡阻抗匹配、功率驅動、功率器件、射頻和底層核心算法的設計能力，可針對不同細分領域等離子處理系統需求，快速做出底層硬件組合，提高等離子系統的穩(wěn)定性和效率。

納恩科技成立至今已為清華大學、香港大學、華為2012實驗室、北京大學、中科院、南方科技大學、美國康奈爾大學、賓夕法尼亞大學、等中外眾多有名企業(yè)、大學研究機構提供過等離子外理設備和解決方案，并專注于發(fā)展面向未來新材料市場的應用技術，助力客戶開發(fā)出激動人心的新工藝!

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產品簡介：NE-ATD03是一款在大氣環(huán)境下進行表面清洗、活化、改性的等離子處理機，可以用來提高產···

常壓等離子處理機NE-ATD03 產品詳情

NE-ATD03是一款在大氣環(huán)境下進行表面清洗、活化、改性的等離子處理機，可以用來提高產品的粘接性，親水性，印刷等性能，也可以用來去除材料表面的有機物、油污、氧化層等污染物。主要應用于產品表面印刷、封裝、貼合、鍍膜、焊接、粘膠、涂覆的前道工藝，具有設備簡單、可在線集成實現連續(xù)生產、成本低廉等優(yōu)點。

產品參數：

型號	NE-ATD03
功率輸出范圍	300~1000W（可調）
處理寬度	2-10mm
處理高度	5-15mm
處理速度	10-300mm/s
流量損耗	0.1MPa-50L/min 0.2MPa-85L/min
外形尺寸	寬深高（244mm474mm310mm）
輸入電源	220VAC±20% 50-60Hz
控制方式	本地控制與遠程控制
遠程通信方式	模擬通信接口,485遠程通信接口

產品尺寸圖：

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