潔凈度100級(jí)、氧濃度低于20ppm的氣氛爐,主要應(yīng)用于固化半導(dǎo)體晶圓等。
特點(diǎn)
工作溫度360℃和500℃。
采用耐熱高性能高效過濾器,可在潔凈的環(huán)境下進(jìn)行高溫烘烤。
高氣密性的壓力箱構(gòu)造,氧濃度到達(dá)時(shí)間短,N2 消耗量極低。
磁密封保持高氣密性,采用水冷機(jī)構(gòu)保護(hù)密封部件免受熱量影響。
可實(shí)現(xiàn)快速升溫和降溫,升降溫速率可調(diào)節(jié)。
標(biāo)準(zhǔn)裝備有廢液回收裝置,對(duì)氣體進(jìn)行冷卻回收。
安全性
門檢測(cè)開關(guān)
溫度過升防止器
氧濃度異常安全裝置
氮?dú)鈮毫z測(cè)
氮?dú)饬髁繖z測(cè)
冷卻水流量檢測(cè)
漏水傳感器
過電流漏電漏電保護(hù)開關(guān)





































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