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KT-Z1650PVD 小型磁控濺射儀

參考價(jià)
¥39800.00
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
規(guī)格
  • 臺(tái)39800.00元66 臺(tái)可售
  • 型號(hào)KT-Z1650PVD
  • 品牌其他品牌
  • 所在地鄭州市
  • 更新時(shí)間2025-05-06
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 所在地區(qū)鄭州市
  • 實(shí)名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量198
  • 人氣值4630
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公司是集研發(fā)、設(shè)計(jì)、制造、銷售為一體的新材料制備設(shè)備創(chuàng)新型企業(yè),如今公司的產(chǎn)品已經(jīng)遍布國內(nèi)眾多實(shí)驗(yàn)室,科探儀器已經(jīng)成為老師和同學(xué)信賴的品牌。公司以科技創(chuàng)新為主,服務(wù)社會(huì)為宗旨,積極設(shè)計(jì)開發(fā)新型材料制備設(shè)備,奉獻(xiàn)于教育實(shí)驗(yàn)和科學(xué)研究。經(jīng)過長期的研發(fā)和不斷的技術(shù)積累,擁有材料制備、材料測(cè)試、材料運(yùn)用等,相關(guān)技術(shù)10余項(xiàng),為化學(xué)、物理、材料、電子等方面;新材料制備和研發(fā)領(lǐng)域的科學(xué)工作者們提供了精良的設(shè)備。公司通過和院校老師、同學(xué)強(qiáng)強(qiáng)聯(lián)合,形成了高效的信息技術(shù)交流平臺(tái),為科探儀器了解市場(chǎng)需求提供了強(qiáng)有力的支持!

目前公司已研發(fā)生產(chǎn)科研儀器十多個(gè)系列,上百款產(chǎn)品,包括實(shí)驗(yàn)電爐、高真空機(jī)組、智能供氣儀、二維材料制備CVD設(shè)備、等離子清洗機(jī)、小型磁控濺射儀、小型蒸鍍儀、石英管真空封口機(jī)、真空探針臺(tái)、燃料電池評(píng)價(jià)裝置等。主要適用于科研院校及工礦企業(yè)在新材料、新能源領(lǐng)域,物理特性及化學(xué)特性的研究,廣泛應(yīng)用于各大院校及材料研究所。

公司與國內(nèi)高校、科研院所有多層次的合作關(guān)系,建有開放實(shí)驗(yàn)室相關(guān)領(lǐng)域的教授、工程師、博士參與公司產(chǎn)品的研究和開發(fā)、我們秉承公司的發(fā)展理念,依靠長期實(shí)踐的技術(shù)經(jīng)驗(yàn)和嚴(yán)謹(jǐn)?shù)难邪l(fā)能力、科學(xué)合理的生產(chǎn)工藝、精益求精的制造要求,全心全意做好產(chǎn)品質(zhì)量和服務(wù)工作,科探儀器時(shí)刻懷著一顆真誠的心,期待與您的合作!

 

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小型磁控濺射儀 KT—Z1650PVD是一款小型臺(tái)式濺射功率可控磁控濺射儀,儀器雖小功能齊全,配備有電壓,電流反饋,樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn),樣品高度可調(diào)節(jié)及電動(dòng)擋板功能。通過定時(shí)調(diào)節(jié)預(yù)濺射功率及薄膜沉積功率,可對(duì)大部分金屬進(jìn)行均勻物理沉積,真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染,樣品臺(tái)可旋轉(zhuǎn)以獲得更均勻的薄膜,可制備各種金屬薄膜。
小型磁控濺射儀 產(chǎn)品詳情

小型磁控濺射儀 KT—Z1650PVD是一款小型臺(tái)式濺射功率可控磁控濺射儀,儀器雖小功能齊全,配備有電壓,電流反饋,樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn),樣品高度可調(diào)節(jié)及電動(dòng)擋板功能。通過定時(shí)調(diào)節(jié)預(yù)濺射功率及薄膜沉積功率,可對(duì)大部分金屬進(jìn)行均勻物理沉積,真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染,樣品臺(tái)可旋轉(zhuǎn)以獲得更均勻的薄膜,可制備各種金屬薄膜。

電子在電場(chǎng)的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發(fā)生碰撞,電離出大量的氬離子和電子,電子飛向基片。氬離子在電場(chǎng)的作用下加速轟擊靶材,濺射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜。二次電子在加速飛向基片的過程中受到磁場(chǎng)洛倫茲力的影響,被束縛在靠近靶面的等離子體區(qū)域內(nèi),該區(qū)域內(nèi)等離子體密度很高,二次電子在磁場(chǎng)的作用下圍繞靶面作圓周運(yùn)動(dòng),該電子的運(yùn)動(dòng)路徑很長。


小型磁控濺射儀


小型磁控濺射儀 技術(shù)參數(shù)

控制方式

7寸人機(jī)界面 手動(dòng) 自動(dòng)模式切換控制

濺射電源

直流濺射電源

鍍膜功能

0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

功率

≤1000W

輸出電壓電流

電壓≤1000V  電流≤1A

真空

機(jī)械泵 ≤5Pa(5分鐘)   分子泵≤5*10^-3Pa

濺射真空

≤30Pa

擋板類型

電控

真空腔室

石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm

樣品臺(tái)

可旋轉(zhuǎn)φ62  (可安裝φ50基底)

樣品臺(tái)轉(zhuǎn)速

8轉(zhuǎn)/分鐘

樣品濺射源調(diào)節(jié)距離

40-105mm

真空測(cè)量

皮拉尼真空計(jì)(已安裝 測(cè)量范圍10E5Pa  1E-1Pa)

預(yù)留真空接口

KF25抽氣口    KF16放氣口   6mm卡套進(jìn)氣口



關(guān)鍵詞:石英玻璃
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