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公司介紹主營產(chǎn)品

邁浦特科技2010年成立于香港，蘇州邁浦特機減有限公司是邁浦特機械在大陸設(shè)立的生產(chǎn)基地，并于2017年在南通成立南通邁浦特機械有限公司，于2021年在廣東深圳成立深圳邁浦特機械有限公司以及2024年在四川成立邁浦特機械有限公司公司一直致力于TCU溫控系統(tǒng)，新能源溫控測試系統(tǒng)、高低溫一體機，模具溫度控制機，冷水機，冷熱一體機等溫度控制機的研發(fā)、生產(chǎn)、銷售、服務和技術(shù)咨詢，提供工業(yè)溫度控制技術(shù)及解決方案的供應商

邁浦特信助于多年成功經(jīng)驗，以專業(yè)技術(shù)，在壓鑄，食品化工，醫(yī)療，印刷，包裝，復合材料，電池包、測試機，橡膠壓延等科研行業(yè)提供所需的各種溫控設(shè)備和技服務，為客戶們提供各種應用工藝過程中加熱或冷卻，恒溫的技術(shù)服務，不僅僅是提供設(shè)備，我們提供更多的是解決方案以及對使用者的合理建議，注重客戶的使用感受，對設(shè)備品質(zhì)孜孜不的追求，得到業(yè)界和使用客戶一致認可，是替代進口設(shè)備的可靠選擇

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產(chǎn)品簡介在線詢價

半導體材料生產(chǎn)冷卻用工業(yè)冷水機（適配晶圓制造、光刻膠涂布、薄膜沉積（PVD/CVD）、離子注入、封裝測試等半導體生產(chǎn)全工序，覆蓋晶圓片冷卻、工藝設(shè)備（光刻機 / 刻蝕機）降溫、化學試劑（光刻膠 / 顯影液）溫控場景，控溫范圍 5℃-35℃，控溫精度 ±1℃。

半導體材料生產(chǎn)冷卻用工業(yè)冷水機產(chǎn)品詳情

一、產(chǎn)品簡介

半導體材料生產(chǎn)冷卻用工業(yè)冷水機（適配晶圓制造、光刻膠涂布、薄膜沉積（PVD/CVD）、離子注入、封裝測試等半導體生產(chǎn)全工序，覆蓋晶圓片冷卻、工藝設(shè)備（光刻機 / 刻蝕機）降溫、化學試劑（光刻膠 / 顯影液）溫控場景，控溫范圍 5℃-35℃，控溫精度 ±1℃，制冷量 10-2000kW，循環(huán)流量 2-80m3/h，壓力 0.6-2.5MPa，潔凈等級達 Class 100（顆?！?.1μm），符合 SEMI S2-0712 安全標準、ISO 14644-1 潔凈度標準、GB/T 30475.5 半導體設(shè)備要求）是半導體材料生產(chǎn) “良率保障 + 設(shè)備壽命延長 + 連續(xù)量產(chǎn)” 的冷卻設(shè)備.

二、應用場景

1.中芯國際 12 英寸晶圓量產(chǎn)線

適配中芯國際 12 英寸晶圓 RCA 清洗工序（日產(chǎn)能 5000 片），工業(yè)冷水機維持清洗水溫 22±0.1℃，晶圓顆粒殘留≤1 顆 / 片，清洗良率從 92% 升至 99.5%，單日減少不良品 375 片，年節(jié)省原料成本 1125 萬元；余熱回收用于晶圓預熱，年節(jié)省電費 45 萬元；雙冗余設(shè)計使年停機時間≤2 小時，減少產(chǎn)能損失超 1000 萬元。

2.華虹半導體 14nm 光刻工序

服務華虹半導體 14nm 工藝光刻膠涂布工序（ASML 光刻機配套），機組維持光刻膠溫度 23±0.1℃，涂布厚度偏差從 ±3% 降至 ±0.8%，光刻線寬精度提升至 ±0.01μm，芯片良率從 95% 升至 99.2%，客戶芯片性能測試通過率提升 4.2%；高潔凈設(shè)計使光刻膠污染率從 0.8% 降至 0.1%，年減少光刻膠浪費成本 80 萬元。

3.北方華創(chuàng) PVD 設(shè)備配套

針對北方華創(chuàng) PVD 薄膜沉積設(shè)備（靶材濺射功率 10kW），冷水機冷卻設(shè)備腔體與靶材，維持腔體溫度 18±0.1℃，靶材溫度≤60℃，薄膜附著力從 8MPa 升至 12MPa，薄膜厚度均勻性偏差≤±1%，設(shè)備維護周期從 3 個月延長至 6 個月，年減少設(shè)備維護成本 60 萬元；適配國內(nèi) 20 + 家半導體企業(yè) PVD 設(shè)備。

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關(guān)鍵詞：標準冷水機化學試劑

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