為對任意樣品進行高水準的成像和分析而生

蔡司GeminiSEM 系列產(chǎn)品具有出色的探測效率，能夠輕松地實現(xiàn)亞納米分辨成像。無論是在高真空還是在可變壓力模式下，更高的表面細節(jié)信息靈敏度讓您在對任意樣品進行成像和分析時都具備更佳的靈活性，為您在材料科學研究、生命科學研究、工業(yè)實驗室或是顯微成像平臺中獲取各種類型樣品在微觀世界中清晰、真實的圖像，提供靈活、可靠的場發(fā)射掃描電子顯微鏡技術(shù)和方案。

運用GeminiSEM系列產(chǎn)品，您可輕松獲取真實世界中任意樣品出色的圖像和可靠的分析結(jié)果

• GeminiSEM 500 具有出色的分辨率，在較低的加速電壓下仍可呈現(xiàn)給您更強的信號和更豐富的細節(jié)信息，其創(chuàng)新設計的NanoVP可變壓力模式，甚至讓您在使用時擁有在高真空模式下工作的感覺；

• GeminiSEM 450 具有出色的易用性設計、更快的響應和更高的表面靈敏度，使其能快速、靈活、可靠地對樣品進行表面成像和分析，充當您的得力助手；

• GeminiSEM 300 具有出色的分辨率、更高的襯度和更大且無畸變的成像視野，可方便地選取適合樣品的真空度等環(huán)境參數(shù)，使FESEM初學者也能快速掌握；

產(chǎn)品

輕松地對任意樣品進行亞納米分辨成像的場發(fā)射掃描電子顯微鏡，更靈敏、更靈活、更簡單、更智能。

更強的信號，更豐富的細節(jié)

GeminiSEM 500 為您呈現(xiàn)任意樣品表面更強的信號和更豐富的細節(jié)信息，尤其在低的加速電壓下，在避免樣品損傷的同時快速地獲取更高清晰度的圖像。

• 經(jīng)優(yōu)化和增強的Inlens探測器可gao效地采集信號，助您快速地獲取清晰的圖像，并使樣品損傷降至更低；

• 在低電壓下?lián)碛懈叩男旁氡群透叩囊r度，二次電子圖像分辨率1 kV達0.9nm，500 V達1.0 nm，無需樣品臺減速即可進行高質(zhì)量的低電壓成像，為您呈現(xiàn)任意樣品在納米尺度上更豐富的細節(jié)信息；

• 應用樣品臺減速技術(shù)-（Tandemdecel），可在1 kV下獲得高達0.8nm二次電子圖像分辨率；

• 創(chuàng)新設計的可變壓力模式-NanoVP技術(shù)，讓您擁有身處在高真空模式下工作的感覺。

更高的速度與靈敏度，更好的成像和分析

GeminiSEM 450更快的響應和更高的表面靈敏度使其能快速、靈活、可靠地對樣品進行表面成像和分析，簡便、快速地進行EDS能譜和EBSD等分析，同時保持出色的空間分辨率，充當您的得力助手。

• 在EDS能譜和EBSD分析模式下仍保持高分辨率的成像，在低電壓條件下工作時更為優(yōu)異；

• 可快速地對樣品進行大范圍及高質(zhì)量成像；

• 經(jīng)優(yōu)化的電子光學鏡筒，減少了工作過程中進行重新校準的復雜流程，節(jié)省成像時間，提高工作效率；

• 無論是不導電樣品、磁性樣品或是其他類型的樣品，無論是高真空或是可變壓力模式，均可實現(xiàn)快速和高質(zhì)量的成像和分析；

更靈活的成像方式

無論是用戶還是初學者，GeminiSEM 300將讓您體驗到在更高的分辨率和更佳的襯度下進行極大視野范圍成像的樂趣，并且在高真空或是可變壓力模式下都可以實現(xiàn)。

• 得益于gao效的信號采集系統(tǒng)和優(yōu)異的分辨率性能，可實現(xiàn)快速、高質(zhì)量、無畸變的大范圍成像；

• 創(chuàng)新設計的高分辨率電子槍模式，為對磁性樣品、不導電樣品以及電子束敏感樣品的低電壓成像量身訂制解決方案；

• 蔡司獨樹一幟的鏡筒內(nèi)能量選擇背散射探測器，在低電壓下也可輕松地獲得高質(zhì)量的樣品材料襯度圖像；

• NanoVP技術(shù)讓您可以使用鏡筒內(nèi)Inlens二次電子探測器對要求苛刻的不導電樣品進行高靈敏度、高分辨成像。

產(chǎn)品優(yōu)勢：

洞察產(chǎn)品背后的科技

Gemini電子光學系統(tǒng)

Gemini 1 –成熟的Gemini技術(shù)概覽

場發(fā)射掃描電子顯微鏡具有更高的分辨率，離不開其性能優(yōu)異的電子光學鏡筒。蔡司Gemini技術(shù)專為對任意樣品進行高分辨成像設計，尤其在低電壓下保持完整和gao效的探測系統(tǒng)、出色的分辨率和易用性等特點。

蔡司Gemini電子光學鏡筒具有以下三個主要特點

• 蔡司Gemini物鏡的設計結(jié)合了靜電場和磁場，在提高其電子光學性能的同時將它們對樣品的影響降至更低。無漏磁物鏡設計，可以對如磁性材料等具有挑戰(zhàn)的樣品同樣地進行高品質(zhì)成像；

• 蔡司Gemini電子束推進器技術(shù)，讓電子束經(jīng)過加速后以高電壓通過鏡筒，zui終再減速至設定電壓后進入樣品倉，很大程度地減小電子束的像差，保證了在非常低的加速電壓下仍可獲得小束斑和高信噪比；

• 蔡司Gemini 鏡筒的設計理念將Inlens二次電子（SE）和背散射電子（BSE）探測器均放置在鏡筒內(nèi)正光軸上，使兩者均具有更高的信號采集效率且可以同時成像，有效的縮短了獲取圖像的時間，更好地提高工作效率。

蔡司Gemini技術(shù)優(yōu)勢能為您提供以下便利：

• 經(jīng)校準后的鏡筒具有長期的穩(wěn)定性，您在日常使用時只需要簡易地設定基本的參數(shù)，如加速電壓、探針電流等；

• 無漏磁的物鏡設計，可對包括磁性樣品在內(nèi)的各類型樣品進行無畸變、高分辨率的成像；

• Inlens二次電子探測器具有g(shù)ao效的SE1信號采集效率，給您呈現(xiàn)來自樣品極表面的真實形貌圖像；

• 鏡筒內(nèi)能量過濾背散射探測器以其創(chuàng)新的設計理念，使您在低電壓下可獲得高分辨率、高襯度、以及更真實的樣品材料襯度圖像。

Gemini 1類型鏡筒 -延續(xù)創(chuàng)新和發(fā)展

如今，掃描電子顯微鏡（SEM）在低電壓下的高分辨成像能力，已成為其在各項應用領域中的標準配置。

低電壓下的高分辨率成像能力，在以下應用領域中扮演著尤為重要的角色：

• 電子束敏感樣品

• 不導電樣品

• 獲取樣品極表面的真實形貌信息

Gemini的革新電子光學設計，應用高分辨率電子槍模式、Nano-twin lens物鏡(GeminiSEM 500)、以及Tandem decel樣品臺減速技術(shù)（選配），有效提高了在低電壓時的信號采集效率和圖像襯度。

高分辨率電子槍模式：

• 縮小30%的出射電子束能量展寬，有效地降低像差；

• 獲得更小的束斑。

Nano-twin lens物鏡：

• 優(yōu)化靜電場和磁場的復合功效，在低電壓下具有的更高的分辨率；

• 提高鏡筒內(nèi)Inlens探測器在低電壓下的信號采集效率。

Tandem decel樣品臺減速技術(shù)，進一步提高對適用樣品在低電壓甚低電壓下的分辨率：

• Tandem decel減速技術(shù)將鏡筒內(nèi)減速和樣品臺偏壓減速技術(shù)相結(jié)合，有效地實現(xiàn)低著陸電壓；

• 使用1 kV及以下更低電壓時，鏡筒內(nèi)背散射探測器的檢測效率獲得更好地增強，低電壓下的分辨率得到進一步提高。

• 對適用的樣品可以加載高達-5 kV的樣品臺偏壓，在低電壓下獲得更高質(zhì)量的圖片。

Gemini 2類型鏡筒-出色的綜合性能，為您所欲為

要實現(xiàn)對任意樣品都能進行高質(zhì)量的測試和表征，掃描電子顯微鏡必須在成像和分析方面都具備優(yōu)異的性能，同時能給用戶簡單易用的操作體驗。如今，Gemini 2鏡筒可滿足您在這些方面的各種需求：

• GeminiSEM 450 配置雙聚光鏡的Gemini 2類型電子光學鏡筒；

• 在確保獲得出色的小電子束斑的同時，束流連續(xù)可調(diào)；

• 可在低束流的高分辨率成像與高束流的分析模式之間進行無縫切換；

• 調(diào)整工作參數(shù)后無需對電子束進行重新校準，為您節(jié)約時間，提高儀器效率；

• 操作靈活易用，高電子束能量密度下的高分辨率成像，低束流分析，高束流分析等各類不同的工作模式，一切由您而定；

• 物鏡無漏磁設計，在大視野范圍成像和EBSD分析中不會引起畸變，確保獲得樣品高質(zhì)量的圖像；

• 出色、穩(wěn)定的電子光學鏡筒，對各種類型的樣品都能簡單快速的進行高分辨率成像，即使在使用中樣品需要傾斜，甚至是對磁性樣品進行成像；

• P搭載局部電荷中和器或NanoVP可變壓力模式，有效地消除樣品的表面荷電，讓您在出色參數(shù)下對樣品進行成像和分析。

NanoVP可變壓力模式-更豐富的細節(jié)，更靈活的適用性

NanoVP可變壓力模式技術(shù)，為您提供對不導電樣品成像優(yōu)秀的解決方案，更大程度地發(fā)揮鏡筒內(nèi)Inlens探測器高性能和高分辨率的優(yōu)異性能：

• 消除不導電樣品的表面荷電現(xiàn)象；

• NanoVP可變壓力技術(shù)有效地減小電子束展寬，確保在可變壓力模式中發(fā)揮鏡筒內(nèi)Inlens探測器的優(yōu)異性能，獲得高分辨率的圖像，可變壓力范圍可高達150 Pa；

• 因此，即使是在可變壓力模式下，鏡筒內(nèi)Inlens二次電子探測器和EsB背散射探測器仍可同時成像，助您獲得樣品極表面的高分辨形貌圖像和更高襯度的背散射圖像；

• 樣品室內(nèi)同時搭載VPSE探測器，可對要求更為苛刻的樣品在高達500 Pa的壓力下進行高質(zhì)量成像。

附件：

蔡司Atlas 5-挑戰(zhàn)多尺度分析

Atlas 5可以簡化您的工作：以樣本為中心的關聯(lián)環(huán)境下為您創(chuàng)建多尺度、多模式的綜合圖片。Atlas 5集*的硬件和易于操作的軟件為一體，大大拓展了蔡司掃描電鏡（SEM）的應用范圍。

3D表面建模 – 3DSM

掃描電鏡只能測量分析樣品的2D信息。然而，使用3DSM可將掃描電鏡的分析能力擴展至對3D數(shù)據(jù)的分析。由蔡司設計研發(fā)的3DSM是以計算機為基礎的應用軟件，它基于掃描電鏡的AsB探測所的信號對樣品表面的三維結(jié)構(gòu)進行重構(gòu)。

可視化及分析軟件

蔡司推薦您使用Object Research Systems (ORS) 的 Dragonfly Pro

此解決方案可為X射線，F(xiàn)IB-SEM，SEM以及氦離子顯微鏡獲取的三維數(shù)據(jù)進行可視化三維重構(gòu)和分析。

基于Visual SI Advanced系列, Dragonfly Pro 能提供高清解析度可視化技術(shù)和優(yōu)異的圖形處理技術(shù)。DragonflyPro支持通過簡單易用的Python腳本進行定制。用戶可以掌控3D數(shù)據(jù)后期處理環(huán)境和流程

使GeminiSEM 300 / 450 能更好地消除樣品荷電現(xiàn)象，簡單快速地實現(xiàn)生物組織樣品的高質(zhì)量三維成像

GeminiSEM 300 / 450可無縫結(jié)合Gatan公司的3View®技術(shù)，變身成為快速且高質(zhì)量獲取包埋細胞或組織樣品的高分辨率三維數(shù)據(jù)的一套系統(tǒng)。3View®是掃描電子顯微鏡樣品室內(nèi)的一臺超微切片機，與蔡司GeminiSEM系列產(chǎn)品成像快速、樣品靈活、視野大且無畸變的技術(shù)特點結(jié)合，該系統(tǒng)能在一天內(nèi)對樣品進行數(shù)千個連續(xù)切片和自動高質(zhì)量成像，有效的節(jié)省了時間。因為樣品保持固定不動，所獲取的圖像具有更高的重合度，使得重構(gòu)得出的三維數(shù)據(jù)更為高效和真實還原樣品的三維結(jié)構(gòu)。

現(xiàn)在，搭載蔡司局部電荷中和器技術(shù)的GeminiSEM可以更好地消除以往富有挑戰(zhàn)的不導電樣品的表面荷電，進一步提高生物組織切片樣品，如肝臟、腎臟、肺部等組織切片圖像的質(zhì)量，以更好地幫助科學家們進行病理學等相關領域的生命科學研究。蔡司公司已經(jīng)把這套目前更快更簡便而且具有更高質(zhì)量的三維成像系統(tǒng)提供給了德國國家顯微成像中心，并將與之開展長期合作和取得共贏。