JBX-6300FS的電子光學(xué)系統(tǒng)在100kV的加速電壓下能自動(dòng)調(diào)整直徑為（計(jì)算值）2.1nm的電子束，簡(jiǎn)便地描畫(huà)出線寬在8nm以下（實(shí)際可達(dá)5nm）的圖形。

此外，該光刻系統(tǒng)還實(shí)現(xiàn)了9nm以下的場(chǎng)拼接精度和套刻精度，性能比。

利用最細(xì)電子束束斑（實(shí)測(cè)值直徑≦2.9nm）可以描畫(huà)8nm以下(實(shí)際可達(dá)5nm)極為精細(xì)的圖形。本公司的DF/DS系統(tǒng)能對(duì)電子束偏轉(zhuǎn)產(chǎn)生的畸變進(jìn)行校正，具有球差和象散自動(dòng)補(bǔ)償功能，可在場(chǎng)邊角、場(chǎng)邊界處進(jìn)行高精度地描畫(huà)。

該系統(tǒng)采用了19位DAC和樣品臺(tái)控制精度為0.6nm的激光干渉儀，實(shí)現(xiàn)了業(yè)界水準(zhǔn)的位置精度、拼接、套刻精度（±9nm）。 可用于位置精度要求很高的光子器件、通信設(shè)備等領(lǐng)域的研究和開(kāi)發(fā)。

自動(dòng)補(bǔ)償可以根據(jù)時(shí)間（任意的）、場(chǎng)和圖形進(jìn)行分別設(shè)定，非常適合于周末及休假等無(wú)人值守等情況下的長(zhǎng)時(shí)間描畫(huà)。

掃描速度高達(dá)50MHz，再加上地抑制了機(jī)器的準(zhǔn)備操作時(shí)間，因此縮短了描畫(huà)時(shí)間，到描畫(huà)開(kāi)始為止的作業(yè)非常簡(jiǎn)單，聚焦也能夠自動(dòng)進(jìn)行，因而能提高總產(chǎn)出量。

使用自動(dòng)裝載系統(tǒng)（選配），最多可以連續(xù)描畫(huà)10個(gè)樣品架。（例：可連續(xù)描畫(huà)10張6英寸的晶圓片或者40張2英寸的晶圓片等?！B續(xù)描畫(huà)時(shí)，需要和材料數(shù)相應(yīng)的樣品架。）目前在日本國(guó)內(nèi)外已有這樣的生產(chǎn)線。

利用微間距控制程序（場(chǎng)尺寸精調(diào)程序），可以制作DFB激光器等的啁啾光柵。