Q300T D Plus大腔室、多功能、高真空雙頭離子濺射鍍膜儀

Q300T D Plus適用于兩種材料的多層順序?yàn)R射，具有兩個(gè)獨(dú)立的濺射頭，可以順序?yàn)R射兩種金屬而其間無(wú)需破真空。用戶自定義抽真空程序、濺射時(shí)間、濺射循環(huán)次數(shù)、濺射電流等工作參數(shù)，全自動(dòng)運(yùn)行。通過(guò)兩靶間循環(huán)鍍膜程序，可實(shí)現(xiàn)兩種靶材無(wú)限層不同厚度的順序鍍膜。當(dāng)不使用時(shí)，靶材會(huì)被擋板遮擋以防止污染。基材樣品可用不氧化金屬（貴金屬）如金（Au）鉑（Pt）鍍膜，也可用銥（Ir）鍍制具有精細(xì)成膜顆粒結(jié)構(gòu)的膜層。由于具有高真空系統(tǒng)及擋板裝置，Q300T D Plus也能用易氧化材料如鉻（Cr）及鋁（Al）等鍍制精細(xì)膜層。Q300T D Plus標(biāo)配鉻（Cr）靶和金（Au）靶。

有關(guān)采用三靶鍍制大面積相同材料的膜層，請(qǐng)參閱Q300T T Plus。其它大腔室鍍膜儀，請(qǐng)參閱K975X/K975S以及Q300T ES Plus。

儀器特點(diǎn)：

•   電容式觸摸屏，靈敏度高，更易觸控使用

•   用戶界面軟件全面更新，使用現(xiàn)代智能手機(jī)技術(shù)界面

•   全面的文字幫助頁(yè)面

•   USB接口可輕松進(jìn)行軟件更新，也可將配方文件備份/復(fù)制到USB存貯器

•   log文件格式為.csv，內(nèi)含日期、時(shí)間和工作參數(shù)，可導(dǎo)出至Excel或類似軟件中分析

•   允許多用戶輸入和儲(chǔ)存鍍膜方案，并可根據(jù)最近的使用情況來(lái)排列每個(gè)用戶的配方

•   雙核ARM處理器，可實(shí)現(xiàn)快速響應(yīng)的顯示；帶觸摸屏按鈕的全圖形界面，包括最近使用的1000個(gè)鍍膜日志和維護(hù)到期時(shí)的提醒等功能

•   可拆卸式玻璃腔室，容易清潔底座和頂板，設(shè)有防爆罩。如有必要，用戶可以快速更換腔室，以避免敏感樣品的交叉污染。高腔室選項(xiàng)可避免樣品過(guò)熱，提高濺射的均勻性和承載較高尺寸的樣品

•   雙頭濺射-適用于順序?yàn)R射鍍膜；磁控冷濺射，脈沖清潔用于濺射Al（鋁）

•   可選的雙膜厚監(jiān)控附件（FTM）

•   大而多色的LED指示燈，實(shí)現(xiàn)可視化狀態(tài)指示；程序完成后具有音頻聲音提示

推薦應(yīng)用：

•   理想的多層濺射鍍膜應(yīng)用

•   粘附研究

•   無(wú)需破真空即可實(shí)現(xiàn)兩種金屬的順序鍍膜。例如，先鍍一層薄的“晶種”鉻（Cr）層，然后鍍金（Au）

•   亦可選擇其中一個(gè)靶頭，實(shí)現(xiàn)單金屬應(yīng)用

•   可濺射各種易氧化和非易氧化金屬，用于薄膜和電子顯微鏡應(yīng)用

Q300T D Plus是英國(guó)Quorum出品的國(guó)際認(rèn)可的Q系列鍍膜儀的一部分，數(shù)千家客戶使用此類鍍膜儀。Q系列旨在為SEM、TEM和薄膜應(yīng)用提供高質(zhì)量的鍍膜解決方案，Q系列功能多樣、價(jià)格合理且易于使用。這些產(chǎn)品科研用途。

Q Plus系列鍍膜儀也有較小腔室的版本，請(qǐng)參閱：Q150R Plus、Q150T Plus以及Q150V Plus；SC7620和Q150GB也是可選的型號(hào)。