- 設備特點
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- 適用于6、8英寸,導電/高純半絕緣型SiC晶體生長
- 4組加熱器獨立控制,靈活的溫場調節(jié)能力
- 坩堝系統(tǒng)具備升降、旋轉功能,溫場更均勻
- 下裝載,上維護,操作便捷
- 產品應用
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- 晶體尺寸6、8 英寸
- 適用材料碳化硅
- 適用工藝物理氣相輸運法(PVT 法)
- 適用領域化合物半導體、科研、襯底材料
- 加熱方式電阻加熱
| 產品名稱 | 參考價 | 地區(qū) | 公司名稱 | 更新時間 | |
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