高速橢偏儀ME-210

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更新時間2025-12-28

北京歐屹科技有限公司

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同時，憑借扎實的技術能力、的售后體系與成熟的跨境業(yè)務經驗，我們可為客戶提供保障。我們始終用心經營，致力打造值得客戶長期信賴的企業(yè)。

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產品簡介在線詢價

日本Photonic Lattice, Inc.基于自研的光子晶體技術開發(fā)的一款高速膜厚測量儀ME-210，與傳統(tǒng)點測的橢偏儀不同，ME-210通過點掃描的方式可以快速的得到整面的膜厚信息，每分鐘可取得1000個點的膜厚數(shù)據(jù)，6寸晶圓3分鐘可取得整面的膜厚mapping，重復測量精度0.1nm，透明基板也可測量。

高速橢偏儀ME-210 產品詳情

產品說明

常規(guī)橢偏儀是單點測試，因此要取得整面膜厚均勻性數(shù)據(jù)是需要N個小時的工作，而且小的測量分辨率就是激光光斑大小，

無法取得微小區(qū)域的膜厚分布數(shù)據(jù)。

ME-210是采用獨自開發(fā)的微小偏光陣列片（光子晶體）來克服上述兩大問題的設備。

產品特點

能以快速取得大12inch基板上的膜厚分布

能以高分辨率取得微小區(qū)域的膜厚分布（設備高分辨率為5.5um*5.5um）

設備軟件具有模擬功能，因此能比對模擬值與實際值來評估成膜工藝

透明基板的膜厚測量

規(guī)格參數(shù)

重復精度	薄膜厚度：0.1nm 折射率：0.001 *Si 上的 SiO2 膜（厚度約 100nm）的一點重復測量 100 次時的標準偏差值
測量速度	900 點/分鐘以上（廣域模式 100mm 方形區(qū)域測量） 5000 點/分鐘或以上（高清模式 1mm 方形區(qū)域測量）
光源	半導體激光器（波長 636nm）
測量點	廣域模式：0.5mm 高清模式：5.5μm
入射角度	70 度

關鍵詞：橢偏儀標準

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產品名稱	參考價	地區(qū)	公司名稱	更新時間
分光橢偏儀SEMILAB在線光譜橢偏儀SE-3000	￥39000	重慶市	重慶津澤機電科技有限公司	2023-03-27	在線詢價

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